專利名稱：表面清潔裝置及遠紫外線設備的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及液晶顯示技術，尤其涉及一種表面清潔裝置及遠紫外線設備。
背景技術：
在液晶顯示器(Liquid Crystal Display，簡稱LCD)陣列基板的制造工藝中 所采用一些設備中的某些表面經常會附著一些雜質，這些雜質如果落到陣列基板上，會 引起嚴重不良。舉例來說，在濕法刻蝕和清洗工程之前，需要采用遠紫外線(Extreme Ultraviolet，簡稱EUV)設備對玻璃基板進行紫外燈照射，生成臭氧，用以去除玻璃基板 上的有機物。在照射過程中，會產生一些白色粉末狀的氧化物附著在EUV設備的金屬網上， 長時間使用會積累更多的氧化物。當采用這種EUV設備對玻璃基板進行紫外燈照射時，白 色粉末狀的氧化物會掉落在玻璃基板上。如果將這種玻璃基板送去進行濕法刻蝕，會造成 工藝不良。
實用新型內容本實用新型提供一種表面清潔裝置及EUV設備，避免產生不良，減少工藝不良率。本實用新型提供一種表面清潔裝置，包括清理裝置和驅動裝置；用于驅動所述清理裝置的所述驅動裝置與所述清理裝置連接；所述清理裝置用于 清理待清潔表面。上述清理裝置可以包括粘塵輥、粘塵輥軸和兩個軸承；所述粘塵輥套設在所述 粘塵輥軸上，所述兩個軸承分別套設在所述粘塵輥軸的兩端；所述粘塵輥用于清理所述 待清潔表面。上述驅動裝置可以包括兩個電磁鐵輪和兩根電磁條；所述兩個電磁鐵輪分別與 對應的電磁條接觸；所述兩個電磁鐵輪套設在所述粘塵輥軸上，且分別位于所述粘塵輥和 所述軸承之間。上述驅動裝置也可以包括伺服馬達、兩個滑塊、兩個皮帶、兩個主導向齒輪和兩 個從導向齒輪；所述伺服馬達與所述兩個主導向齒輪連接；所述皮帶套在所述主導向齒輪 和從導向齒輪上，所述滑塊與所述皮帶固接，所述滑塊與所述軸承固接。進一步的，表面清潔裝置還包括用于對所述清理裝置進行清洗的清洗室。上述清洗室內部設置有至少一排噴嘴。上述粘塵輥為無塵布輥筒，或者表面能撕掉的粘塵輥筒。本實用新型還提供了一種包括上述表面清潔裝置的EUV設備，包括金屬網；所述 清理裝置與所述金屬網接觸。所述EUV設備還包括粘塵輥取放口，所述粘塵輥取放口與所述EUV設備殼體的槽 相通。本實用新型提供的表面清潔裝置及EUV設備可以對待清潔表面進行清理，去除附 著在待清潔表面上的雜質，避免了因雜質掉落在玻璃基板上產生的不良，減少了工藝不良率。
圖1為本實用新型實施例一提供的表面清潔裝置的結構示意圖；圖2為本實用新型實施例二提供的EUV設備的結構示意圖；圖3為本實用新型實施例二提供的EUV設備中清理裝置及電磁鐵輪的安裝結構分 解示意圖；圖4為本實用新型實施例二提供的EUV設備中清洗室的內部結構示意圖；圖5為本實用新型實施例三提供的EUV設備的結構示意圖；圖6為本實用新型實施例三提供的EUV設備中清理裝置及滑塊的安裝結構剖面 圖。
具體實施方式
下面通過附圖和實施例，對本實用新型的技術方案做進一步的詳細描述。圖1為本實用新型實施例一提供的表面清潔裝置的結構示意圖。如圖1所示，本 實用新型提供的表面清潔裝置包括清理裝置1和驅動裝置2 ；其中，清理裝置1與驅動裝 置2連接，清理裝置1用于清理待清潔表面，驅動裝置2用于驅動清理裝置，清理裝置1在 驅動裝置2的驅動下清理待清潔表面。本實用新型提供的表面清潔裝置可以對待清潔表面進行清理，去除附著在待清潔 表面上的雜質，避免了因雜質掉落在玻璃基板上產生的不良，減少了工藝不良率。下面以表面清潔裝置應用在EUV設備中為例說明表面清潔裝置的具體結構。圖2為本實用新型實施例二提供的EUV設備的結構示意圖。圖3為本實用新型實 施例二提供的EUV設備中清理裝置及電磁鐵輪的安裝結構剖面圖。如圖2和圖3所示，本 實施例中清理裝置包括粘塵輥10、粘塵輥軸11以及兩個軸承12和13，其中粘塵輥10套設 在粘塵輥軸11上，兩個軸承12和13分別套設在粘塵輥軸11的兩端。兩個軸承12和13 分別嵌入到EUV設備殼體14的槽15中，粘塵輥10與金屬網16接觸。圖2僅示出了一側 的結構，另一側的結構與之相同。驅動裝置包括兩個電磁鐵輪17和18，及兩根電磁條(圖2中僅示出了電磁條 19)，兩個電磁鐵輪17和18分別與對應的電磁條接觸，見圖2，電磁鐵輪17與電磁條19接 觸。見圖3，兩個電磁鐵輪17和18套設在粘塵輥軸11上，且分別位于粘塵輥10和軸承12、 13之間。本實施例中，驅動裝置采用電磁作用驅動清理裝置進行清理工作。當EUV設備停 止工作時，向兩根電磁條中輸入電流且兩根電磁條的電流方向相同。以電磁條19為例，當 電磁條19中流經電流，電磁條19產生磁力，吸引電磁鐵輪17向一個方向運動。兩個電磁 鐵輪向同一個方向運動的同時，帶動清理裝置向一個方向運動。因為粘塵輥10與金屬網16 是接觸的，粘塵輥10在金屬網16上滾動，使得金屬網16上的白色粉末狀的氧化物被粘連 在粘塵輥10上，從而達到清理的目的。進一步的，兩根電磁條可以與外部的可編程邏輯控制器(Programmable Logic Controller，簡稱PLC)連接，PLC對兩根電磁條上經過的電流方向進行控制，從而改變電磁條的南極和北極，也改變了電磁條對電磁鐵輪17所產生的吸引力的方向，這樣使得粘塵 輥10在金屬網16上來回滾動，清理的效果更為良好。見圖2，本實施例提供的EUV設備還包括粘塵輥取放口 20，該粘塵輥取放口 20與 EUV設備殼體14上的槽15是相通的，粘塵輥取放口 20的長度大于或等于軸承12和13的 直徑，這樣清理裝置可以順著槽15從粘塵輥取放口 20中取出來，便于對粘塵輥10進行更 換和檢查。進一步的，在粘塵輥取放口 20處可以設置固定擋板，該固定擋板可用螺絲固定， 用于封堵粘塵輥取放口 20，在使用清理裝置的過程中，防止清理裝置從EUV設備中掉出。進一步的，本實施例還可以包括一清洗室，清洗室可設置在EUV設備的一端，具體 地可設置在與粘塵輥取放口 20所在端相對的一端，如圖2中的右端。圖4為本實用新型實 施例二提供的EUV設備中清洗室的內部結構示意圖。如圖4所示，清洗室內部設置有至少 一排噴嘴21，這些排噴嘴21與外部的工藝冷卻水(Process Cooling Water，簡稱PCW)提 供設備和清潔干燥空氣(Clean Dry Air，簡稱CDA)提供設備連接，其中PCW提供設備提供 清洗用的水，CDA提供設備提供吹干用的氣體。在清理完畢后，清理裝置進入到清洗室中，清洗室開始工作。首先，PCW提供設備 向噴嘴21提供清洗用的水，噴嘴21向粘塵輥10上噴灑清洗用水，清洗時間可以為60s ；然 后，CDA提供設備向噴嘴21提供吹干用的氣體，噴嘴21將粘塵輥10吹干，時間可以為60s。 如果EUV設備在正常工作，清理裝置也可以停放在清洗室內，等待下一次清理工作。另外，清洗室設有一門，由PLC來控制門的打開和關閉。本實施例中，粘塵輥10可以為無塵布輥筒，這樣只需潤濕無塵布輥筒，就能清理 掉它上面的氧化物，無需連接CDA提供設備。粘塵輥10也可以為表面能撕掉的粘塵輥筒， 清理完畢后可將粘塵輥筒的表面直接撕掉，即可再次使用，這樣無需設置上述清洗室。本實用新型提供的EUV設備采用電磁作用驅動粘塵輥在金屬網上來回滾動，對金 屬網進行清理，去除附著在金屬網上的氧化物，避免了因氧化物掉落在玻璃基板上產生一 種不良，減少了工藝不良率。圖5為本實用新型實施例三提供的EUV設備的結構示意圖。圖6為本實用新型實 施例三提供的EUV設備中清理裝置及滑塊的安裝結構剖面圖。如圖5和圖6所示，本實施 例中清理裝置包括粘塵輥30、粘塵輥軸31以及兩個軸承22和23，其中粘塵輥30套設在粘 塵輥軸31上，兩個軸承22和23分別套設在粘塵輥軸31的兩端。粘塵輥30與金屬網24 接觸。圖5僅示出了一側的結構，另一側的結構與之相同。驅動裝置包括伺服馬達(未示出)、兩個滑塊25和26、兩個皮帶(圖5中僅示出 了皮帶27)、兩個主導向齒輪(未示出)和兩個從導向齒輪(未示出)。其中伺服馬達與兩 個主導向齒輪連接，皮帶套在主導向齒輪和從導向齒輪上，滑塊與皮帶固接，滑塊與軸承固 接。本實施例中，驅動裝置采用機械作用驅動清理裝置進行清理工作。當EUV設備停 止工作時，伺服馬達帶動主導向齒輪向一方向旋轉，主導向齒輪帶動從導向齒輪旋轉，從而 帶動皮帶27向一方向運動。因為滑塊25與皮帶27固接，皮帶27帶動滑塊25運動。因為 滑塊25與軸承22固接，滑塊25帶動清理裝置運動。因為粘塵輥30與金屬網24是接觸的， 粘塵輥30在金屬網24上滾動，使得金屬網24上的白色粉末狀的氧化物被粘連在粘塵輥30 上，從而達到清理的目的。進一步的，伺服馬達也可以帶動主導向齒輪向另一方向旋轉，使得粘塵輥30在金屬網24上來回滾動，清理的效果更為良好。本實施例中，滑塊與軸承的連接是可拆卸的，或者滑塊與皮帶的連接是可拆卸的， 則本實施例提供的EUV設備還包括粘塵輥取放口 28，其結構和功能可參見實施例二的相關 描述。進一步的，本實施例還可以包括清洗室，其結構和功能可參見實施例二的相關描 述。本實施例中，粘塵輥可以為無塵布輥筒，這樣只需潤濕無塵布輥筒，就能清理掉它 上面的氧化物，無需連接CDA提供設備。粘塵輥也可以為表面能撕掉的粘塵輥筒，清理完畢 后可將粘塵輥筒的表面直接撕掉，即可再次使用，這樣無需設置上述清洗室。本實用新型提供的EUV設備采用機械作用驅動粘塵輥在金屬網上來回滾動，對金 屬網進行清理，去除附著在金屬網上的氧化物，避免了因氧化物掉落在玻璃基板上產生一 種不良，減少了工藝不良率。最后所應說明的是，以上實施例僅用以說明本實用新型的技術方案而非限制，盡 管參照較佳實施例對本實用新型進行了詳細說明，本領域的普通技術人員應當理解，可以 對本實用新型的技術方案進行修改或者等同替換，而不脫離本實用新型技術方案的精神和 范圍。
權利要求一種表面清潔裝置，其特征在于，包括清理裝置和驅動裝置；用于驅動所述清理裝置的所述驅動裝置與所述清理裝置連接；所述清理裝置用于清理待清潔表面。
2.根據權利要求1所述的表面清潔裝置，其特征在于，所述清理裝置包括粘塵輥、粘 塵輥軸和兩個軸承；所述粘塵輥套設在所述粘塵輥軸上，所述兩個軸承分別套設在所述粘 塵輥軸的兩端；所述粘塵輥用手清理所述待清潔表面。
3.根據權利要求2所述的表面清潔裝置，其特征在于，所述驅動裝置包括兩個電磁鐵 輪和兩根電磁條；所述兩個電磁鐵輪分別與對應的電磁條接觸；所述兩個電磁鐵輪套設在 所述粘塵輥軸上，且分別位于所述粘塵輥和所述軸承之間。
4.根據權利要求2所述的表面清潔裝置，其特征在于，所述驅動裝置包括伺服馬達、 兩個滑塊、兩個皮帶、兩個主導向齒輪和兩個從導向齒輪；所述伺服馬達與所述兩個主導向齒輪連接；所述皮帶套在所述主導向齒輪和從導向齒 輪上，所述滑塊與所述皮帶固接，所述滑塊與所述軸承固接。
5.根據權利要求1-4任一所述的表面清潔裝置，其特征在于，還包括用于對所述清理 裝置進行清洗的清洗室。
6.根據權利要求5所述的表面清潔裝置，其特征在于，所述清洗室內部設置有至少一 排噴嘴。
7.根據權利要求2所述的表面清潔裝置，其特征在于，所述粘塵輥為無塵布輥筒，或者 表面能撕掉的粘塵輥筒。
8.一種包括上述權利要求1-7任一所述的表面清潔裝置的遠紫外線設備，其特征在 于，包括金屬網；所述清理裝置與所述金屬網接觸。
9.根據權利要求8所述的遠紫外線設備，其特征在于，還包括粘塵輥取放口，所述粘 塵輥取放口與所述遠紫外線設備殼體的槽相通。
專利摘要本實用新型公開了一種表面清潔裝置及遠紫外線設備，其中表面清潔裝置包括清理裝置和驅動裝置；用于驅動所述清理裝置的所述驅動裝置與所述清理裝置連接；所述清理裝置用于清理待清潔表面。本實用新型提供的表面清潔裝置及EUV設備可以對待清潔表面進行清理，去除附著在待清潔表面上的雜質，避免了因雜質掉落在玻璃基板上產生的不良，減少了工藝不良率。
文檔編號B08B7/00GK201644445SQ20102019439
公開日2010年11月24日 申請日期2010年5月14日 優先權日2010年5月14日
發明者孫文昌 申請人:北京京東方光電科技有限公司