錯標高柱帽的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及建筑技術，具體地說，是一種錯標高柱帽。
【背景技術】
[0002]當樓面荷載較大時，為提高板的承載能力、剛度和抗沖切能力，在柱頂設置的用來增加柱對板支托面積的結構就是柱帽。目前的柱帽都為頂面平整的整體結構，樓板搭在柱帽上，形成一個平整的樓層。一些建筑設計的樓層標高的不同的，當標高不同處位于柱帽上時，目前的柱帽無法實現標高不同的樓板的支撐。
【實用新型內容】
[0003]本實用新型針對上述現有技術存在的不足，設計了一種錯標高柱帽。
[0004]本實用新型的錯標高柱帽，安裝在支撐柱頂端，所述柱帽中部豎直設置有暗梁，支撐柱與暗梁對齊，位于暗梁一側的柱帽為高層支撐臺，另一側的柱帽為低層支撐臺，所述高層支撐臺的頂面高于低層支撐臺的頂面，所述高層支撐臺的底部設置有斜面。
[0005]優選的是，所述暗梁的頂面與高層支撐臺上承載的樓板頂面平齊，所述暗梁的底面高于柱帽的底面。
[0006]優選的是，所述高層支撐臺的斜面頂端高于低層支撐臺的頂面。
[0007]本實用新型的有益效果是:錯標高柱帽利用內設的暗梁為骨架，通過兩側高低不同的支撐臺支撐標高不同的樓板，強度大，承載力強，良好的解決了標高不同處位于柱帽上時樓板的支撐。高層支撐臺底部設置成斜面，在保證了其支撐強度的同時，減小了柱帽的體積，減輕了柱帽的重量，節省了用料，降低了制造成本。
[0008]暗梁的頂部與高層支撐臺上承載的樓板頂面平齊，可內設在高層支撐臺上的樓板內，提高了整體的結構強度。暗梁的底面高于柱帽的底面，使柱帽的主體位于支撐柱上，避免暗梁壓迫支撐柱，提高壽命。斜面頂端高于低層支撐臺，可在保證支撐強度的情況下對大幅度的降低柱帽的體積，減輕重量，減少用料。
【附圖說明】
[0009]附圖1為本錯標高柱帽的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0010]為了能進一步了解本實用新型的結構、特征及其它目的，現結合所附較佳實施例詳細說明如下，所說明的較佳實施例僅用于說明本實用新型的技術方案，并非限定本實用新型。
[0011]本實用新型的【具體實施方式】如下:
[0012]實施例一:
[0013]如圖1所示，該錯標高柱帽，安裝在支撐柱I頂端。
[0014]柱帽2中部豎直設置有暗梁3，暗梁3為混凝土暗梁，支撐柱I與暗梁3對齊。
[0015]位于暗梁3 —側的柱帽2為高層支撐臺4，另一側的柱帽2為低層支撐臺5，高層支撐臺4的頂面高于低層支撐臺5的頂面，標高較高的樓板7由高層支撐臺4支撐，標高較低的樓板7由低層支撐臺5支撐。
[0016]高層支撐臺4的底部設置有斜面6，可去除高層支撐臺4底部的多余部分，降低體積，節省用料。
[0017]實施例二:
[0018]實施例二的結構組成與實施例一的結構組成基本相同，區別特征在于:
[0019]暗梁3的頂面與高層支撐臺4上承載的樓板7頂面平齊，暗梁3的頂部可直接澆筑到標高較高的樓板7內，增強結構強度，暗梁3的底面高于柱帽2的底面。
[0020]實施例三:
[0021]實施例三的結構組成與實施例一的結構組成基本相同，區別特征在于:
[0022]高層支撐臺4的斜面6頂端高于低層支撐臺5的頂面，在保證支撐強度的情況下進一步的大幅度降低柱帽的體積，減輕重量，減少用料。
【主權項】
1.一種錯標高柱帽，安裝在支撐柱(I)頂端，其特征在于，所述柱帽(2)中部豎直設置有暗梁(3)，支撐柱⑴與暗梁(3)對齊，位于暗梁(3) —側的柱帽(2)為高層支撐臺(4)，另一側的柱帽(2)為低層支撐臺(5)，所述高層支撐臺(4)的頂面高于低層支撐臺(5)的頂面，所述高層支撐臺(4)的底部設置有斜面(6)。2.根據權利要求1所述的錯標高柱帽，其特征在于，所述暗梁(3)的頂面與高層支撐臺(4)上承載的樓板頂面平齊，所述暗梁(3)的底面高于柱帽(2)的底面。3.根據權利要求1所述的錯標高柱帽，其特征在于，所述高層支撐臺(4)的斜面(6)頂端高于低層支撐臺(5)的頂面。
【專利摘要】一種錯標高柱帽，安裝在支撐柱頂端，所述柱帽中部豎直設置有暗梁，支撐柱與暗梁對齊，位于暗梁一側的柱帽為高層支撐臺，另一側的柱帽為低層支撐臺，所述高層支撐臺的頂面高于低層支撐臺的頂面，所述高層支撐臺的底部設置有斜面。錯標高柱帽利用內設的暗梁為骨架，通過兩側高低不同的支撐臺支撐標高不同的樓板，強度大，承載力強，良好的解決了標高不同處位于柱帽上時樓板的支撐。高層支撐臺底部設置成斜面，在保證了其支撐強度的同時，減小了柱帽的體積，減輕了柱帽的重量，節省了用料，降低了制造成本。
【IPC分類】E04B1/38, E04C3/30
【公開號】CN205116419
【申請號】CN201520591668
【發明人】楊蘇春, 賈楊, 姬中華, 李兆龍
【申請人】青島建安建設集團有限公司
【公開日】2016年3月30日
【申請日】2015年8月3日