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不粘面包易清洗的蒸煮包點設備的制作方法

文檔序號:11218816閱讀:517來源:國知局

本發明涉及炊具領域,具體說為一種蒸煮裝置。



背景技術:

現在蒸煮裝置容易粘面包等,難清洗。



技術實現要素:

本發明的目的是提供一種不粘面包易清洗的蒸煮包點設備,為達到該目的,此發明的方案為:

一種不粘面包易清洗的蒸煮包點設備,含蒸煮裝置主體,其特征是,

蒸煮裝置主體含一側壁和底面勻稱預設直徑為4毫米以下的小口孔洞的蒸煮裝置和環形底面凸起,

蒸煮裝置口邊沿沿著邊沿勻稱豎直設置兩個柄,

沿著蒸煮裝置側壁外設置最少三個環形底面凸起,

環形底面凸起由支承腳和支承架組成,

蒸煮裝置外底面沿著同一圓周勻稱地設置最少三個墊塊,令面包、饅頭不和鍋底接觸。

依照權利要求1不粘面包易清洗的蒸煮包點設備,含蒸煮裝置主體,其特征是,

蒸煮裝置主體含一側壁和底面勻稱預設直徑為4毫米以下的小口孔洞的蒸煮裝置和環形底面凸起,

蒸煮裝置口邊沿沿著邊沿勻稱豎直設置兩個柄,

沿著蒸煮裝置側壁外設置最少三個環形底面凸起,

環形底面凸起由支承腳和支承架組成,

蒸煮裝置外底面沿著同一圓周勻稱地設置最少三個墊塊,令面包、饅頭不和鍋底接觸,

蒸煮裝置主體由鋁合金一體成型做出來。

依照權利要求1不粘面包易清洗的蒸煮包點設備,含蒸煮裝置主體,其特征是,

蒸煮裝置主體含一側壁和底面勻稱預設直徑為4毫米以下的小口孔洞的蒸煮裝置和環形底面凸起,

蒸煮裝置口邊沿沿著邊沿勻稱豎直設置兩個柄,

沿著蒸煮裝置側壁外設置最少三個環形底面凸起,

環形底面凸起由支承腳和支承架組成,

蒸煮裝置外底面沿著同一圓周勻稱地設置最少三個墊塊,令面包、饅頭不和鍋底接觸,

蒸煮裝置主體由金屬一體成型做出來。

依照權利要求1不粘面包易清洗的蒸煮包點設備,含蒸煮裝置主體,其特征是,

蒸煮裝置主體含一側壁和底面勻稱預設直徑為4毫米以下的小口孔洞的蒸煮裝置和環形底面凸起,

蒸煮裝置口邊沿沿著邊沿勻稱豎直設置兩個柄,

沿著蒸煮裝置側壁外設置最少三個環形底面凸起,

環形底面凸起由支承腳和支承架組成,

蒸煮裝置外底面沿著同一圓周勻稱地設置最少三個墊塊,令面包、饅頭不和鍋底接觸,

蒸煮裝置主體由食品等級的塑料材料一體成型做出來。

此發明有不粘面包易清洗的好處。

具體實施方式

此發明的第一實施例含蒸煮裝置主體,其特征是,

蒸煮裝置主體含一側壁和底面勻稱預設直徑為4毫米以下的小口孔洞的蒸煮裝置和環形底面凸起,

蒸煮裝置口邊沿沿著邊沿勻稱豎直設置兩個柄,

沿著蒸煮裝置側壁外設置最少三個環形底面凸起,

環形底面凸起由支承腳和支承架組成,

蒸煮裝置外底面沿著同一圓周勻稱地設置最少三個墊塊,令面包、饅頭不和鍋底接觸。

此發明的第二個實施例含蒸煮裝置主體,其特征是,

蒸煮裝置主體含一側壁和底面勻稱預設直徑為4毫米以下的小口孔洞的蒸煮裝置和環形底面凸起,

蒸煮裝置口邊沿沿著邊沿勻稱豎直設置兩個柄,

沿著蒸煮裝置側壁外設置最少三個環形底面凸起,

環形底面凸起由支承腳和支承架組成,

蒸煮裝置外底面沿著同一圓周勻稱地設置最少三個墊塊,令面包、饅頭不和鍋底接觸,

蒸煮裝置主體由鋁合金一體成型做出來。

此發明的第三個實施例含蒸煮裝置主體,其特征是,

蒸煮裝置主體含一側壁和底面勻稱預設直徑為4毫米以下的小口孔洞的蒸煮裝置和環形底面凸起,

蒸煮裝置口邊沿沿著邊沿勻稱豎直設置兩個柄,

沿著蒸煮裝置側壁外設置最少三個環形底面凸起,

環形底面凸起由支承腳和支承架組成,

蒸煮裝置外底面沿著同一圓周勻稱地設置最少三個墊塊,令面包、饅頭不和鍋底接觸,

蒸煮裝置主體由金屬一體成型做出來。

此發明的第四個實施例含蒸煮裝置主體,其特征是,

蒸煮裝置主體含一側壁和底面勻稱預設直徑為4毫米以下的小口孔洞的蒸煮裝置和環形底面凸起,

蒸煮裝置口邊沿沿著邊沿勻稱豎直設置兩個柄,

沿著蒸煮裝置側壁外設置最少三個環形底面凸起,

環形底面凸起由支承腳和支承架組成,

蒸煮裝置外底面沿著同一圓周勻稱地設置最少三個墊塊,令面包、饅頭不和鍋底接觸,

蒸煮裝置主體由食品等級的塑料材料一體成型做出來。



技術特征:

技術總結
此發明為一種不粘面包易清洗的蒸煮包點設備,涉及炊具領域,具體說為一種蒸煮裝置。此發明旨在提供一種不粘面包易清洗的蒸煮包點設備,為達到該目的,此發明含蒸煮裝置主體,其特征是,蒸煮裝置主體含一側壁和底面?勻稱預設直徑為4毫米以下的小口孔洞的蒸煮裝置和環形底面凸起,蒸煮裝置口邊沿沿著邊沿勻稱豎直設置兩個柄,沿著蒸煮裝置側壁外設置最少三個環形底面凸起,環形底面凸起由支承腳和支承架組成,蒸煮裝置外底面?沿著同一圓周勻稱地設置最少三個墊塊,令面包、饅頭不和鍋底接觸。此發明有不粘面包易清洗的好處。

技術研發人員:劉鳳嬌
受保護的技術使用者:劉鳳嬌
技術研發日:2016.11.09
技術公布日:2017.09.08
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