一種拋釉磚的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供一種拋釉磚，其是一種陶瓷建材產品。一種拋釉磚,其特征在于，由下至上包括：坯體層（101），印花圖案層（301），釉面層（401），其中所述釉面層（401）由至少兩層裝飾釉層疊加而成。同現有技術相比，本實用新型具有如下優勢：將原有單層結構的釉面層改為由至少兩層裝飾釉層疊加而成的結構，可以減少坯體變形，進而減少因為過拋造成的露底缺陷；而且，這種結構在兩層裝飾釉層的結合處為凹凸嵌接，會使印花圖案層更為立體，裝飾釉層的裝飾效果也能和印花圖案有機結合，豐富產品品系，降低廢品率。
【專利說明】一種拋釉磚
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種陶瓷建材產品，更具體地涉及一種拋釉磚。
【背景技術】
[0002]拋釉磚是近年來新興的一種建筑陶瓷產品，其在素坯磚坯上印花，然后施以透明釉，入窯燒成后拋光，因此集合了拋光磚、仿古磚、瓷片三種產品的優勢，產品完全釋放了釉面磚啞色暗光的含蓄性，解決了半拋磚易藏污的缺陷，具備了拋光磚的光澤度、瓷質硬度，同時也擁有仿古磚的釉面高仿效果，以及瓷片釉面豐富的印刷效果。
[0003]因為拋釉磚的釉面層較薄，通常只有0.5?1.5mm，而且還需要拋磨加工處理，因此非常容易露底，損傷印花圖案層造成缺陷，而且制品的印花圖案層效果僅能為平面，無立體質感。
【發明內容】
[0004]鑒于【背景技術】中提出的問題，本實用新型提供一種新型的拋釉磚，其由下至上包括:坯體層，印花圖案層，釉面層，其中所述釉面層為大于等于兩層釉復合形成的裝飾釉層。因為不同釉料的燒成膨脹收縮系數不同，兩層或兩層釉復合，兩層釉面結合處會因為燒成時的膨脹收縮系數不一致而具有凹凸起伏，其也能減少釉面層與坯體層的應力，減少坯體層翹彎，進而減少拋光時的過拋露底問題。
[0005]另外，透過其會使釉面層下的印花圖案層圖案具有立體效果。
[0006]進一步優選，使印花圖案層未布滿坯體層表面，且印花圖案層位于坯體層表面中部位置會達到更優的效果。鑒于釉面層在燒成過程中的膨脹收縮系數大于坯體層，通常磚體邊緣處會有一定程度的翹彎，拋釉時，也通常是邊緣區域出現過拋露底缺陷。印花圖案層未布滿坯體層表面，且印花圖案層位于坯體層表面中部位置，在進行拋釉處理時，可以減少對印花圖案層的損傷。
[0007]另外，更進一步優選，本實用新型所提供的拋釉磚產品，在印花圖案層呈現的圖案周圍具有金屬光澤層，金屬光澤層能彌補因過拋對印花圖案層的損傷，還能使整個產品裝飾效果更強，不喪失美感，尤其是以金色或銀色金屬光澤釉裝飾時，產品更具高貴典雅韻味，還能減少廢品率。
[0008]一種新型的拋釉磚，其由下至上包括:坯體層，印花圖案層，釉面層，其中所述釉面層由至少兩層裝飾釉層疊加而成。
[0009]所述裝飾釉層包括但不限于有色窯變釉層、有色裂紋釉層、有色析晶釉層。
[0010]優選地，在上述拋釉磚中，印花圖案層覆蓋坯體層的一部分，并位于坯體層中部。
[0011]如上所述的拋釉磚，還包括金屬光澤層。其中所述的金屬光澤層位于印花圖案層和坯體層之間，并完全覆蓋坯體層。進一步優選，在金屬光澤層和印花圖案層之間還有一層遮蓋層，遮蓋層與印花圖案層覆蓋區域保持一致，將印花圖案層和金屬光澤層分隔開。
[0012]另外，還可以將所述的金屬光澤層和印花圖案層在同一層，金屬光澤層覆蓋印花層未遮蓋的還體層。
[0013]如上所述的拋釉磚，優選地，在坯體層邊緣設置多條傾斜的凹陷紋路，紋路長度為I?15mm,凹陷深度為0.5?1mm。
[0014]同現有技術相比，本實用新型具有如下優勢:將原有單層結構的釉面層改為由至少兩層裝飾釉層疊加而成的結構，可以減少坯體變形，進而減少因為過拋造成的露底缺陷；而且，這種結構在兩層裝飾釉層的結合處為凹凸嵌接，會使印花圖案層更為立體，裝飾釉層的裝飾效果也能和印花圖案有機結合，豐富產品品系，降低廢品率。
[0015]優選方式，可以改變原有完全覆蓋坯體層的印花方式，進一步減少拋釉磚因為過拋而出現的露底缺陷。還可以將金屬光澤裝飾與印花圖案裝飾有機結合，豐富現有產品品系，還能降低廢品率。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0016]圖1為本實用新型實施例1橫截面示意圖。
[0017]圖2為釉面層401局部橫截面放大示意圖。
[0018]圖3為本實用新型實施例2的俯視示意圖，在本實施例中印花圖案層的圖案為荷花，其周圍為金色的金屬光澤層。
[0019]圖4為本實用新型實施例2的橫截面示意圖。
[0020]圖5為本實用新型實施例3的橫截面示意圖。
[0021]圖6為本實用新型實施例5的橫截面示意圖。
[0022]附圖標號說明:101—還體層；201—金屬光澤層；301 —印花圖案層；401—釉面層，401A、40IB—裝飾釉層，501一遮蓋層。
【具體實施方式】
[0023]結合附圖和適當的優選實施例對本實用新型方案做具體說明。應當理解，附圖不是嚴格按照比例繪制，而且其中可能會有一些本領域普通技術人員可以理解的缺省。
[0024]實施例1
[0025]參照附圖1和附圖2，在本實施例中，選擇印花圖案層為部分覆蓋坯體層結構。當然，本領域技術人員應該理解印花圖案層完全覆蓋坯體層也可以，只需選擇合適的印花圖案模板既可。
[0026]在本實施例中所提供的拋釉磚，其由下至上為坯體層101，印花圖案層301，釉面層401，其中軸面層由至少兩層裝飾軸層置加而成。
[0027]可以通過如下工藝制備實施例1所述拋釉磚產品。選擇長石、粘土、砂、添加劑等常規陶瓷坯體配方原料，通過球磨、除鐵、陳腐、造粒等步驟制成粉料，通過沖壓的方式制成磚坯。清掃坯體表面，通過噴墨印花的方式在坯體中部形成印花圖案，然后以至少兩種裝飾釉層復合形成釉面層401，裝飾釉可以是有色窯變釉、有色裂紋釉、有色析晶釉。干燥后，入窯輥道窯在1050?1200°C下，60?120分鐘燒成，然后經拋磨、倒角、拋光后得到制品。
[0028]當然，優選地，也是本領域公知，可以在坯體層101上施一層底釉后再印花形成印花裝飾層。
[0029]實施例2[0030]參照附圖3和附圖4，在本實施例中所提供的拋釉磚，其由下至上為坯體層101，金屬光澤層201，印花圖案層301，釉面層401，釉面層由至少兩層裝飾釉層疊加而成。其中金屬光澤層201完全覆蓋坯體層101，印花圖案層301位于坯體層中部，其為部分覆蓋，在其邊緣為金屬光澤層。
[0031]可以通過如下工藝制備實施例1所述拋釉磚產品。選擇長石、粘土、砂、添加劑等常規陶瓷坯體配方原料，通過球磨、除鐵、陳腐、造粒等步驟制成粉料，通過沖壓的方式制成磚坯。清掃坯體表面，施一層金屬光澤釉，然后再通過噴墨印花的方式在坯體中部形成荷花圖案，荷花圖案未覆蓋的部分為顯露的金屬光澤釉。然后以至少兩種裝飾釉層復合形成釉面層401，裝飾釉可以是有色窯變釉、有色裂紋釉、有色析晶釉。干燥后，入窯輥道窯在1050?1200°C下，60?120分鐘燒成，然后經拋磨、倒角、拋光后得到制品。
[0032]當然，優選地，也是本領域公知，可以在坯體層101上施一層底釉后再施金屬光澤軸。
[0033]實施例3
[0034]參照附圖5，本實施例提供的拋釉磚，其由下至上依次為坯體層101，底釉層(附圖中未繪出)，印花圖案層301和在印花圖案層邊緣并和印花圖案層處于同一層的金屬光澤層201，軸面層401，軸面層由至少兩層裝飾軸層置加而成。
[0035]本實施例的拋釉磚可以通過如下工藝來制備。選擇長石、粘土、砂、添加劑等常規陶瓷坯體配方原料，通過球磨、除鐵、陳腐、造粒等步驟制成粉料，通過沖壓的方式制成磚坯。清掃坯體表面，施一層遮蓋力強的底釉，然后在底釉上印花，形成印花圖案層，印花圖案層位于坯體中部，并未完全覆蓋坯體，接著用金屬光澤釉填充坯體未印花區域，使印花圖案層和金屬光澤層位于同一層，然后以至少兩種裝飾釉層復合形成釉面層401，裝飾釉可以是有色窯變釉、有色裂紋釉、有色析晶釉。干燥后，入窯輥道窯在1050?1200°C下，60?120分鐘燒成，然后經拋磨、倒角、拋光后得到制品。
[0036]實施例4
[0037]在本實施例中，為了進一步解決【背景技術】中提到的拋光時容易露底的問題，提出此改進實施例。
[0038]鑒于露底缺陷多集中于邊緣區域，在本實施例中通過對坯體層101進行改進，在坯體層101邊緣再設置一些傾斜的凹陷紋路，紋路長度為I?15mm，凹陷深度為0.5?1mm。通過以上紋路吸收燒成時的收縮應力，減少坯體變形。又因為以上改進都位于坯體邊緣，基本避開印花圖案層，在本實用新型所述條件下，不會破壞裝飾效果呈現。
[0039]實施例5
[0040]因為形成金屬光澤層的金屬光澤釉多數會對形成印花圖案層的印油/油墨發色有影響，為了解決此問題，本發明提供實施例4。
[0041]參照實施例2和附圖6，在實施例1基礎上，施金屬釉后在金屬釉上形成遮蓋層501，遮蓋層圖案與印花圖案層一致，形成遮蓋層可以采用包括但不限于絲網或數碼噴印的方式，遮蓋層優選為白度較高的乳濁釉、印油或白色油墨，然后再形成印花圖案層，通過遮蓋層將印花圖案層分隔開，避免金屬光澤釉影響形成印花圖案層的印油/油墨發色。
[0042]實施例6
[0043]在實施例1的基礎上，只將印花圖案層噴印于坯體層中部也能實現降低過拋露底的缺陷，但相較以上1-5實施例，廢品率有所提高，而且裝飾效果也不夠豐富。
[0044] 以上所述的僅是本實用新型的優選實例性實施方式，應當指出，對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型創造構思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本實用新型的保護范圍。
【權利要求】
1.一種拋釉磚，其特征在于，由下至上包括:坯體層(101 )，印花圖案層(301 )，釉面層(401)，其中所述釉面層(401)由至少兩層裝飾釉層疊加而成。
2.如權利要求1所述的拋釉磚，其特征在于，所述裝飾釉層設置為有色窯變釉裝飾層、有色裂紋釉裝飾層、有色析晶釉裝飾層中的一種。
3.如權利要求1或2所述的拋釉磚，其特征在于，所述印花圖案層覆蓋坯體層的一部分，并位于坯體層中部。
4.如權利要求3所述的拋釉磚，其特征在于，其還包括金屬光澤層(201)，所述的金屬光澤層(201)位于印花圖案層(301)和坯體層(101)之間，金屬光澤層(201)完全覆蓋坯體層(101)。
5.如權利要求4所述的拋釉磚，其特征在于，在所述金屬光澤層(201)和印花圖案層(301)之間還有一層遮蓋層(501)，遮蓋層(501)與印花圖案層(301)覆蓋區域保持一致，并將印花圖案層(301)和金屬光澤層(201)分隔開。
6.如權利要求3所述的拋釉磚，其特征在于，其還包括金屬光澤層(201)，所述的金屬光澤層(201)和印花圖案層(301)在同一層，金屬光澤層(201)覆蓋印花層(301)未遮蓋的坯體層(101)。
7.如權利要求1、2、4、5、6中任意一項所述的拋釉磚，其特征在于，在所述坯體層(101)邊緣設置多條傾斜的凹陷紋路，紋路長度為I?15mm，凹陷深度為0.5?1mm。
【文檔編號】B32B3/02GK203383453SQ201320232543
【公開日】2014年1月8日 申請日期:2013年5月3日 優先權日:2013年5月3日
【發明者】周燕, 丘云靈, 曾德朝 申請人:廣東東鵬陶瓷股份有限公司, 廣東東鵬控股股份有限公司, 豐城市東鵬陶瓷有限公司, 佛山市東鵬陶瓷有限公司