.本公開總體上涉及光波導結構，并且具體涉及模式轉換波導系統。.光波導是在光譜中引導電磁波的物理結構。這些光波導可以用作集成光電路中的部件。關于量子通信和處理，光學材料結構可以用于創建光子發射器、中繼器、以及用于通信的其他量子裝置。.光波導可以執行傳播波的場結構圖可以改變的模式轉換。模式轉換...

.本公開涉及用于中間轉印介質的清潔刮板以及圖像形成設備。.迄今為止，無縫帶已經出于各種目的用作電子照相圖像形成設備的部件。近年來的全彩電子照相圖像形成設備采用中間轉印帶方法，其中用四種顏色(即黃色、品紅色、青色和黑色)顯影的圖像在中間轉印帶上彼此臨時上下重疊，然后共同轉印到記錄介質諸如紙張...

.本發明涉及一種包括供應輥和顯影輥的顯影裝置。.在顯影裝置中，傳統上，已知一種使用雙組分顯影劑的顯影裝置，雙組分顯影劑包含含非磁性顆粒的調色劑和含磁性顆粒的載體(下文中，雙組分顯影劑簡稱為顯影劑)。作為這種顯影裝置，已經提出了一種使用所謂的混合顯影類型的構造，該混合顯影類型包括作為可旋轉顯...

vr眼鏡及其控制方法、計算機可讀存儲介質.本發明涉及vr設備，特別涉及一種vr眼鏡及其控制方法、計算機可讀存儲介質。.目前市面上的vr設備，在使用過程中，都是緊緊佩戴在頭部，并擠壓面部達到遮光效果。如果長時間使用，用戶面部容易產生疲勞感，并且，目前vr設備上缺少與顯示畫面之...

.本發明關于抗蝕劑材料及圖案形成方法。.伴隨lsi的高積體化與高速化，圖案規則的微細化也在急速進展。其原因是g的高速通信和人工智慧(artificialintelligence，ai)的普及，必須要有用以處理它們的高性能器件。就最先進的微細化技術而言，波長.nm的極紫外線(euv)光刻所...

.本申請涉及圖像顯示領域，尤其涉及一種顯示裝置以及交通工具。.隨著汽車技術的不斷發展，對汽車使用的便捷性和安全性提出了越來越高的要求。抬頭顯示(headupdisplay，hud)裝置已被廣泛應用于汽車。抬頭顯示是把儀表信息(如速度)、導航信息等投射至駕駛員視野前方的一種裝置，駕駛員可...

一種化學放大型i線光刻膠及其制備與使用方法.本發明涉及光刻膠，具體為一種化學放大型i線光刻膠及其制備與使用方法。.所謂光刻膠，是指通過紫外光、電子束、離子束、x射線等的照射或輻射，其溶解度發生變化的耐刻蝕薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑中主要成分組成的對光敏感的混合液體。...

.本公開涉及光機系統領域，特別涉及一種分束裝置及分束器。.分束裝置的作用是將一束光分成兩束光，其廣泛應用于光機系統中。目前的光機系統及實驗平臺中，分束裝置的通光口徑往往較小，尺寸一般為一英寸左右，對于更大視場角和數值孔徑的光機系統難以使用。而且分光裝置中的分光膜，往往將光束能量平均分成兩束...

.本發明涉及一種顯示器的校正方法與校正系統，且特別是涉及一種光學穿透式顯示器的校正方法與校正系統。.擴增實境(augmentedreality,ar)或混合實境(mixedreality,mr)眼鏡借由光學穿透式顯示器(opticalsee-throughdisplay)將運算單元...

.本申請涉及電致變色領域，尤其涉及一種電致變色器件。.電致變色是指材料的光學屬性(反射率、透過率、吸收率等)在外加電場的作用下發生穩定、可逆的顏色變化的現象，在外觀上表現為顏色和透明度的可逆變化。.現有的電致變色器件在外力的作用下，容易發生彎折或變形，易導致兩側的導電層相互接觸，出現短路的...

緊湊型雙折疊長焦相機.相關申請的交叉引用.本申請要求于年月日提交的第/,號美國臨時專利申請和于年月日提交的第/,號美國臨時專利申請的權益，這兩個臨時專利申請的全部內容通過引用包含于此。.本公開的主題大體上涉及數字相機領域，且具體地，涉及用于諸如智能手機之類的移動電子裝置中的折疊數字相機。....

.《制程精度直達終級納米的打印兼刻蝕一體機》發明項目，屬于原創性重大發明項目。.該發明就是綜合當今已經技術成熟并普及應用的大尺度彩色圖片噴墨打印機和我國已經獲得世界領先水平的刻蝕機的工作原理來設計發明的。此發明能夠跨越高端euv光刻機、光刻膠、……等關鍵設備和工序，實現彎道超車。直接由電腦里的大尺...

.本申請涉及顯示，特別涉及一種虛擬現實裝置。.目前，隨著虛擬現實技術的發展，虛擬現實裝置的形態與種類也越來越多，應用領域也日漸廣泛。虛擬現實技術通過構建虛擬環境，并通過虛擬環境向用戶展示信息，虛擬現實裝置是將裝置中顯示組件(如：顯示屏幕)顯示的圖像，通過光學系統的傳遞和放大，將圖像...

組合的arc和si基硬掩模薄膜的組合物.本發明涉及耐蝕刻抗反射組合物，通過使用這樣的組合物涂覆微電子器件的方法。.典型的四層光刻法：.·-有機光抗蝕劑(旋涂法).·-抗反射涂層(arc)(旋涂法).·-含si的硬掩模(為了蝕刻選擇性，例如sion)(化學氣相沉積法).·-含c的硬掩...

.本公開涉及顯示裝置及電子設備。本公開特別涉及具備具有有機化合物層的多個發光元件和多個透鏡的顯示裝置、以及具備顯示裝置的電子設備。.作為具備具有有機化合物層的多個發光元件和多個透鏡的顯示裝置，公開了提高使顏色種類不同的子像素間的特性實現均勻性的技術。例如，在專利文獻中，作為顯示裝置公開了作...

.實施例涉及一種光學系統和包括該光學系統的相機模塊。.隨著便攜式終端中嵌入的相機模塊性能的發展，對于便攜式終端中的相機模塊也需要自動聚焦功能。.為了使便攜式終端中的相機模塊具有自動聚焦功能，可以在將外部光轉換為數字圖像或數字視頻的過程中通過數字處理來提高倍率。因此，可以僅以諸如倍、倍和倍的...

用于控制眼部病癥和/或減少夜視障礙的眼科裝置、系統和/或方法相關申請的交叉引用.本申請要求以下申請的優先權：年月日提交的國際申請號pct/ib/；年月日提交的國際申請號pct/ib/；以及年月日提交的美國臨時申請號/,，這些優先權申請中的每一個都通過引用以其整體并入本文。.本申請涉及：年月日提交的...

d成像系統及其標定方法、裝置、設備和存儲介質.本申請涉及d成像，特別是涉及一種d成像系統及其標定方法、裝置、設備、存儲介質和計算機程序產品。.近年來，隨著精密制造和半導體制造等的發展，對復雜、微小結構的d（threedimensions，三維立體圖形）成像和測量變得越來越...

.本發明實施例涉及三維成像，尤其涉及一種結構光投射器和結構光模組。.隨著科技的發展，近年來二維成像逐步向三維成像升級，三維成像技術經歷了從工業級向消費級拓展的過程，核心技術的不斷突破和迭代，讓大規模產業化應用成為可能。目前主流的三維成像技術包括：d結構光成像、飛行時間法成像、雙目立...

.本發明涉及連續曝光，尤其涉及一種連續旋轉曝光系統及方法。.在集成電路產業的發展過程中，光刻技術為推動產業發展起到了重要作用，它將設計的掩模圖形無偏差地轉移到基片上，是半導體制造技術中最先進復雜的技術之一。芯片的制造過程并非一次曝光就可以完成，而是要經歷多次曝光，同時要進行多次對準...