專利名稱：金屬質感的無膠拉絲貼膜的生產方法及裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及貼膜的生產方法及裝置，具體涉及一種金屬質感的無膠拉絲貼膜的生 產方法及裝置。
背景技術：
在筆記本電腦、手機、空調的外殼上，經常使用的是噴漆、電鍍裝飾層、鋁箔、銅箔 等復合膜材料，使其具有華麗顏色和金屬質感的裝飾效果。但由于環保問題及金屬材料的 價格問題，使復合膜材料逐步失去市場，將被環保的質優價廉的環保材料取代。
發明內容
本發明的目的在于提供一種金屬質感的無膠拉絲貼膜的生產方法及裝置，該方 法及裝置在基材上濺射鍍金屬層，通過反應氣體的種類產生不同的顏色，如金黃色、玫瑰金 色、紫青藍、銀白色、深灰色、黑色等，形成金屬質感。本發明的生產方法是首先，在基材上拉絲或者印刷圖案；其次，被拉絲的基材在 放料室，真空狀態下單面經離子源表面處理；最后，進入濺射室，按具體要求使用濺射靶及 反應氣體在基材上直接濺射金屬層。其中，基材為PC或PET膜，厚度0. 05-0. 5mm，寬度500 2200mm。其中，離子源為高頻離子源、弧放電離子源、PIG離子源、雙離子體離子源、雙彭離 子源、轉荷型負離子源、濺射型負離子源的其中之一，功率2 10KW，電流1 10A，電壓 220 2000V，氣氛氬氣或其它惰性氣體，流量100 500sccm，氬氣壓力0. 1 lmpa，真 空壓強1 9*1(Γ2 1 9*l(T3Pa，速度0. 5 5m/min。其中，深冷捕集的功率5 50kw，溫度-100 _150°C，捕集器面積1 5平方 米。其中，濺射靶為Ti靶或石墨靶，濺射真空壓強1 9*10_2 1 9*10_3Pa，氬氣 流量100 500sccm，氮氣流量100 500sccm，氧氣流量100 500sccm。其中，反應氣體為氧氣和氮氣。本發明的生產裝置是在由隔板間隔的放料室和濺射室內安裝生產裝置，生產裝 置包括輸送架、離子源、深冷捕集器、氣體反應器和濺射靶，在放料室和濺射室內排布連貫 的輸送架，輸送架的首尾端都位于放料室，在輸送架的首端安裝放料輥，在輸送架的尾端安 裝收料輥，在放料室內位于輸送架的兩側呈平面矩形安裝離子源，在濺射室內位于輸送架 的兩側呈平面矩形安裝一組濺射靶，濺射室內位于濺射靶之前安裝氣體反應器，放料室、濺 射室內各放置一個深冷捕集器。其中，在輸送架的接近首尾端上分別安裝張力器，通過張力器自動收放卷材。工作時，被拉絲的基材由放料輥放出，被輸送架輸送先經過放料室的離子源，再經 過濺射室的氣體反應器、濺射靶，最后由放料室的收料輥將成品貼膜收集起來；其中，被拉 絲的基材在經過離子源時，基材被清潔表面、消除水汽、改善表面張力；其中，預處理后的基材在濺射室內經濺射靶，通過反應氣體，直接濺射金屬離子在基材上形成金屬層。本發明具有以下優點1、在基材上預先拉絲或者印刷圖案，省去了在金屬表面拉 絲的繁雜工藝；2、在真空狀態下直接濺射金屬層，取代了噴漆、電鍍等不環保生產作業流 程，取代了價格昂貴金屬箔，取代了層粘法生產的膠粘層，保證了產品的環保性；3、濺鍍法 是環保清潔生產方法，無廢水、廢氣、廢渣等產生；4、連續化生產線，可以大規模生產，降低 生產成本。
圖1為本發明的生產裝置的流程示意中1隔板，2放料室，3濺射室，4輸送架，5離子源，6、7深冷捕集器，8氣體反應 器，9濺射靶，10放料輥，11收料輥，12、13真空泵，14、15張力器。
具體實施例方式如圖1所示，在由隔板1間隔的放料室2和濺射室3內安裝生產裝置，生產裝置包 括輸送架4、離子源5、深冷捕集器6、7、氣體反應器8和濺射靶9，在放料室2和濺射室3內 排布連貫的輸送架4，輸送架4的首尾端都位于放料室2，在輸送架4的首端安裝放料輥10， 在輸送架4的尾端安裝收料輥11，在放料室2內位于輸送架4的兩側呈平面矩形安裝離子 源5，在濺射室3內位于輸送架4的兩側呈平面矩形安裝一組濺射靶9，濺射室3內濺射靶9 之前安裝氣體反應器8，放料室理、濺射室3內各放置一個深冷捕集器6、7和真空泵12、13。其中，在輸送架4的接近首尾端上分別安裝張力器14、15。實施例1 依以下步驟生產無膠拉絲貼膜首先，在基材上拉絲或者印刷圖案；其次，被拉絲 的基材在放料室，真空狀態下單面經離子源表面處理；最后，進入濺射室，按具體要求使用 濺射靶及反應氣體在基材上直接濺射金屬層；其中，基材為PC膜，厚度0. 05mm,寬度500mm ； 其中，離子源為高頻離子源，功率2KW，電流1A，電壓220V，氬氣流量lOOsccm，氬氣壓力 0. Impa ；真空壓強l*10_2Pa，速度0. 5m/min ；其中，深冷捕集的功率5kw，溫度-100°C，捕集 器面積1平方米；其中，濺射靶為Ti靶，濺射真空壓強l*10_2Pa，氬氣流量lOOsccm，氮氣流 量 lOOsccm,氧氣流量 lOOsccm。實施例2 依以下步驟生產無膠拉絲貼膜首先，在基材上拉絲或者印刷圖案；其次，被拉 絲的基材在放料室，真空狀態下單面經離子源表面處理；最后，進入濺射室，按具體要求 使用濺射靶及反應氣體在基材上直接濺射金屬層；其中，基材為PET膜，厚度0. 275mm, 寬度1350mm;其中，離子源為弧放電離子源，功率6KW，電流5. 5A，電壓1110V，惰性氣體 流量300sccm，壓力0. 55mpa ；真空壓強9*10_2Pa，速度2. 75m/min ；其中，深冷捕集的功率 27. 5kw，溫度-125°C，捕集器面積3平方米；其中，濺射靶為石墨靶，濺射真空壓強9*10_2Pa， 氬氣流量300sccm，氮氣流量300sccm，氧氣流量300sccm。實施例3 依以下步驟生產無膠拉絲貼膜首先，在基材上拉絲或者印刷圖案；其次，被拉絲 的基材在放料室，真空狀態下單面經離子源表面處理；最后，進入濺射室，按具體要求使用濺射靶及反應氣體在基材上直接濺射金屬層；其中，基材為膜，厚度0. 5mm,寬度2200_ ；其 中，離子源為滅射型負離子源，功率10KW，電流10A，電壓2000V，氬氣流量500sCCm，氬氣壓 力Impa ；真空壓強9*10_3Pa，速度5m/min ；其中，深冷捕集的功率50kw，溫度_150°C，捕集 器面積5平方米；其中，濺射靶為Ti靶，濺射真空壓強9*10_3Pa，氬氣流量500sCCm，氮氣流 量 500sccm,氧氣流量 500sccmo
權利要求
金屬質感的無膠拉絲貼膜的生產方法，其特征在于該生產方法包括以下步驟首先，在基材上拉絲或者印刷圖案；其次，被拉絲的基材在放料室，真空狀態下單面經離子源表面處理；最后，進入濺射室，按具體要求使用濺射靶及反應氣體在基材上直接濺射金屬層；其中，基材為PC或PET膜，厚度0.05 0.5mm，寬度500～2200mm；其中，離子源為高頻離子源、弧放電離子源、PIG離子源、雙離子體離子源、雙彭離子源、轉荷型負離子源、濺射型負離子源的其中之一，功率2～10KW，電流1～10A，電壓220～2000V，氣氛氬氣或其它惰性氣體，流量100～500sccm，氬氣壓力0.1～1mpa，真空壓強1～9*10 2～1～9*10 3Pa，速度0.5～5m/min；其中，深冷捕集的功率5～50kw，溫度 100～ 150℃，捕集器面積1～5平方米；其中，濺射靶為Ti靶或石墨靶，濺射真空壓強1～9*10 2～1～9*10 3Pa，氬氣流量100～500sccm，氮氣流量100～500sccm，氧氣流量100～500sccm；其中，反應氣體為氧氣和氮氣。
2.根據權利要求1所述的金屬質感的無膠拉絲貼膜的生產裝置，其特征在于在由隔 板(1)間隔的放料室(2)和濺射室(3)內安裝生產裝置，生產裝置包括輸送架(4)、離子源 (5)、深冷捕集器(6、7)、氣體反應器(8)和濺射靶(9)，在放料室(2)和濺射室(3)內排布 連貫的輸送架(4)，輸送架(4)的首尾端都位于放料室(2)，在輸送架(4)的首端安裝放料 輥(10)，在輸送架(4)的尾端安裝收料輥(11)，在放料室(2)內位于輸送架(4)的兩側呈 平面矩形安裝離子源(5)，在濺射室(3)內位于輸送架(4)的兩側呈平面矩形安裝一組濺射 靶(9)，濺射室(3)內濺射靶(9)之前安裝氣體反應器(8)，放料室理、濺射室(3)內各放置 一個深冷捕集器(6、7)和真空泵(12、13)。
3.根據權利要求2所述的金屬質感的無膠拉絲貼膜的生產裝置，其特征在于其中，在 輸送架(4)的接近首尾端上分別安裝漲力器(14、15)。
全文摘要
本發明公開了金屬質感的無膠拉絲貼膜的生產方法及裝置，首先在基材上拉絲或者印刷圖案；其次被拉絲的基材在放料室；最后進入濺射室；在由隔板(1)間隔的放料室(2)和濺射室(3)內安裝生產裝置，在放料室(2)和濺射室(3)內排布連貫的輸送架(4)，在輸送架(4)的首尾端分別安裝放料輥(10)和收料輥(11)，在放料室(2)內位于輸送架(4)的兩側安裝離子源(5)，在濺射室(3)內位于輸送架(4)的兩側安裝一組濺射靶(9)，濺射靶(9)前安裝氣體反應器(8)，放料室、濺射室內各放置一個深冷捕集器(6、7)和真空泵(12、13)。該方法及裝置在基材上濺射鍍金屬層，通過反應氣體的類型產生不同的顏色，形成金屬質感。
文檔編號C23C14/20GK101892462SQ201010225938
公開日2010年11月24日 申請日期2010年7月13日 優先權日2010年7月13日
發明者傅青炫, 夏慎領, 陳先鋒, 馬爾松 申請人:淮安富揚電子材料有限公司