一種用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置制造方法
【專利摘要】本發明公開了一種用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置，包含：氮氣輸送管道，該氮氣輸送管道分別連接外部的氮氣源與拋光墊研磨盤；氣閥，該氣閥設置在氮氣輸送管道上。本發明能夠控制氮氣的開關，并與拋光墊研磨盤的工作進程同步；減少了氮氣的使用量，大大節約了生產成本，顯著提高了經濟效益。
【專利說明】一種用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置
【技術領域】
[0001]本發明涉及ー種氣體輸送裝置，特別涉及一種用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置。
【背景技術】
[0002]在半導體制造領域中，拋光墊研磨盤(pad conditioner)單元是化學機械研磨機臺(Mirra-mesa)的組成部分，而拋光墊研磨盤單元通常使用氮氣清掃來防止研磨液(slurry)殘留阻塞拋光墊研磨盤的研磨頭。在現有技術中，當氮氣輸送過來時，并沒有閥門控制其開關，因此，氮氣總是在往拋光墊研磨盤輸送。可是，當拋光墊研磨盤僅僅在工作時才需要氮氣，當拋光墊研磨盤不工作并回到清洗水盤后，此時是不需要氮氣的，這就造成了氮氣的浪費，增加了生產成本。
【發明內容】
[0003]本發明的目的是提供一種用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置，能夠控制氮氣的開關，并與拋光墊研磨盤的工作進程同步；減少了氮氣的使用量，大大節約了生產成本，顯著提高了經濟效益。
[0004]為了實現以上目的，本發明是通過以下技術方案實現的:
一種用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置，包含:
氮氣輸送管道，所述的氮氣輸送管道分別連接外部的氮氣源與平臺調節器；
氣閥，所述的氣閥設置在氮氣輸送管道上。
[0005]所述的氣閥設置在氮氣輸送管道與拋光墊研磨盤之間。
[0006]還包含:氣路接頭，所述的氣路接頭分別通過管路與外部的研磨液供給系統的氣控系統以及氣閥相連；當外部的研磨液供給系統的氣控系統供氣從而打開研磨液供給系統的閥門開始輸送研磨液，氣路接頭則將導通研磨液供給系統的氣控系統的部分氣體傳送到氣閥，氣閥打開；當外部的研磨液供給系統的氣控系統停止供氣從而關閉閥門停止輸送研磨液，則氣閥關閉。
[0007]所述的氣路接頭為三通接頭，當開通控制研磨液供給系統的氣體經過所述的三通接頭，部分氣體進入氣閥以導通氣閥。
[0008]本發明與現有技術相比，具有以下優點:
1、能夠控制氮氣的開關，并與拋光墊研磨盤的工作進程同步；
2、減少了氮氣的使用量，大大節約了生產成本，顯著提高了經濟效益。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0009]圖1為本發明一種用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置的結構示意圖。
【具體實施方式】[0010]以下結合附圖，通過詳細說明ー個較佳的具體實施例，對本發明做進ー步闡述。
[0011]如圖1所示，一種用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置，包含:氮氣輸送管道1、氣閥
2。其中，氮氣輸送管道I分別連接外部的氮氣源與拋光墊研磨盤；氣閥2設置在氮氣輸送管道I上，在本實施例中，優選氣閥2設置在氮氣輸送管道I和拋光墊研磨盤之間，可以相對靠近拋光墊研磨盤。
[0012]如圖1所示，還包含:氣路接頭3，其分別通過管路與外部的研磨液供給系統的氣控系統以及氣閥2相連；當外部的研磨液供給系統的氣控系統供氣，打開研磨液供給系統的閥門，從而開始輸送研磨液，氣路接頭3則將導通研磨液供給系統的氣控系統的部分氣體傳送到氣閥2，氣閥2打開；當外部的研磨液供給系統的氣控系統停止供氣，從而關閉閥門停止輸送研磨液，則氣閥2關閉。在本實施例中，氣路接頭3選用三通接頭，當開通研磨液供給系統的控制氣體經過三通接頭時，該三通接頭的其中一路即分出部分氣體進入氣閥2以導通該氣閥2，從而實現研磨液供給系統與氮氣輸送系統同歩。
[0013]當使用時，由于研磨液供給系統輸送研磨液的同時，拋光墊研磨盤也開始工作，并需要輸送氮氣，此吋，由于氣路接頭3的存在，其將接收到的控制研磨液供給系統的控制氣體分出部分給氣閥2，氣閥2打開，向拋光墊研磨盤中輸入氮氣，從而防止研磨液殘留堵塞拋光墊研磨盤的研磨頭；當拋光墊研磨盤不再工作，研磨液供給系統不再輸送研磨液時，沒有控制氣體通過氣路接頭3，氣閥2關閉氮氣輸送通道，不再輸送氮氣，使得生產過程中不再浪費氮氣，大大節約了生產成本，減少了不必要的浪費，顯著地提高了經濟效益。
[0014]當然，在實際生產過程中，化學機械研磨機臺中可能有多個拋光墊研磨盤，則需要多個氮氣輸送管道I以及研磨液供給系統，從而相應的分別設置有對應的氣閥2以及氣路接頭3，以滿足多個拋光墊研磨盤的需要。
[0015]綜上所述，本發明ー種用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置能夠控制氮氣的開關，并與拋光墊研磨盤的工作進程同歩；減少了氮氣的使用量，大大節約了生產成本，顯著提高了經濟效益。
[0016]盡管本發明的內容已經通過上述優選實施例作了詳細介紹，但應當認識到上述的描述不應被認為是對本發明的限制。在本領域技術人員閱讀了上述內容后，對于本發明的多種修改和替代都將是顯而易見的。因此，本發明的保護范圍應由所附的權利要求來限定。
【權利要求】
1.一種用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置，其特征在于，包含: 氮氣輸送管道(I)，所述的氮氣輸送管道(I)分別連接外部的氮氣源與平臺調節器； 氣閥(2)，所述的氣閥(2)設置在氮氣輸送管道(I)上。
2.根據權利要求1所述的用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置，其特征在于，所述的氣閥(2 )設置在氮氣輸送管道(I)與拋光墊研磨盤之間。
3.根據權利要求1所述的用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置，其特征在于，還包含:氣路接頭(3)，所述的氣路接頭(3)分別通過管路與外部的研磨液供給系統的氣控系統以及氣閥(2)相連；當外部的研磨液供給系統的氣控系統供氣從而打開研磨液供給系統的閥門開始輸送研磨液，氣路接頭(3)則將導通研磨液供給系統的氣控系統的部分氣體傳送到氣閥(2)，氣閥(2)打開；當外部的研磨液供給系統的氣控系統停止供氣從而關閉閥門停止輸送研磨液，則氣閥(2)關閉。
4.根據權利要求3所述的用于拋光墊研磨盤的氮氣輸送裝置，其特征在于，所述的氣路接頭(3)為三通接頭，當開通控制研磨液供給系統的氣體經過所述的三通接頭，部分氣體進入氣閥(2)以導通氣閥(2)。
【文檔編號】B24B37/34GK103522171SQ201210231300
【公開日】2014年1月22日 申請日期:2012年7月5日 優先權日:2012年7月5日
【發明者】邵爾劍 申請人:上海宏力半導體制造有限公司