專利名稱：一種研磨拋光機的研磨液滴加裝置的制作方法
技術領域：
—種研磨拋光機的研磨液滴加裝置技術領域[0001]本實用新型涉及半導體集成電路及其制造領域，尤其涉及一種研磨拋光機的研磨 液滴加裝置。
背景技術：
[0002]在半導體工藝中，對于半導體產品失效的分析，尤其是對PFA的分析，需要對樣品 研磨到需要觀察的工藝制備層，因此需要對樣品進行研磨，而對于一些手動的研磨儀器，如 Metprep精密拋光機，需要一次性倒入一定量研磨液再進行研磨，大部分的研磨液會因為離 心力向研磨墊四周輸送，實際被利用的研磨液只占全部消耗的研磨液的25%以下，即造成 大部分的研磨液都被直接浪費掉，且會導致研磨速率的不均勻。[0003]因此如何提高研磨液的利用效率，使樣品保持均勻的研磨速率成為半導體產品失 效的分析中提高研磨工作效率的關鍵。實用新型內容[0004]本實用新型公開了一種研磨拋光機的研磨液滴加裝置，其中，包括底座、瓶體和滴 加頭，所述瓶體固定設置在底座上，所述滴加頭套設在瓶口上。[0005]上述的研磨拋光機的研磨液滴加裝置，其中，所述底座為雙排支架，包括前支架和 后支架。[0006]上述的研磨拋光機的研磨液滴加裝置，其中，所述后支架的高度可調節。[0007]上述的研磨拋光機的研磨液滴加裝置,其中,所述瓶體瓶口部分設置在前支架上。[0008]上述的研磨拋光機的研磨液滴加裝置，其中，所述前支架的半徑小于所述瓶體半徑。[0009]上述的研磨拋光機的研磨液滴加裝置,其中,所述滴加頭包括一活塞。[0010]上述的研磨拋光機的研磨液滴加裝置，其中，所述底座的材質為不銹鋼。[0011]上述的研磨拋光機的研磨液滴加裝置，其中，所述瓶體的材質為高密度聚乙烯。[0012]上述的研磨拋光機的研磨液滴加裝置，其中，所述瓶體為研磨液自帶的瓶體，其底 部半徑為3cm，高為15cm。[0013]上述的研磨拋光機的研磨液滴加裝置，其中，所述活塞的材質為聚四氟乙烯。[0014]綜上所述，由于采用了上述技術方案，本實用新型提出一種研磨拋光機的研磨液 滴加裝置，通過將研磨液盛放在塑料瓶體內且置于可調節高度的金屬底座上，由于金屬底 座的位置可自由擺放所以能方便調節研磨液的滴加位置，并通過調節滴加頭上的活塞來調 節研磨液的滴加速率，從而避免一次性加入過多研磨液而導致研磨液的浪費，同時也可以 通過控制研磨液的滴加速度，來保持穩定的研磨速率，使樣品更加平整，提高研磨效率。
[0015]圖1是本實用新型一種研磨拋光機的研磨液滴加裝置的結構示意圖；[0016]圖2是本實用新型一種研磨拋光機的研磨液滴加裝置中滴加頭的結構示意圖。
具體實施方式
[0017]
以下結合附圖對本實用新型的具體實施方式
作進一步的說明[0018]圖1是本實用新型一種研磨拋光機的研磨液滴加裝置的結構示意圖；[0019]圖2是本實用新型一種研磨拋光機的研磨液滴加裝置中滴加頭的結構示意圖。[0020]如圖1-2所示，在金屬底座I上固定設置高密度聚乙烯瓶體2，并在瓶體2的瓶口 上套設滴加頭3 ;其中，底座I為雙排支架，包括前支架11和后支架12，瓶體2的瓶口部分 設置在前支架11上，以保持放置時瓶體2和底座I的穩定性，且后支架12的高度能夠上下 調整，以調節放置其上瓶體2的傾斜角度，而前支架11的半徑小于瓶體2的半徑，預防瓶體 傾斜時滑落。[0021]進一步的，滴加頭3包括活塞31，通過活塞31來調節瓶體2內液體流出的速度。[0022]其中，底座I的材質為不銹鋼，活塞31的材質為聚四氟乙烯，瓶體2為研磨液自帶 的瓶體，其底部半徑為3cm，高為15cm。[0023]具體的，將研磨液倒進瓶體2中，套設上滴加頭3后，將瓶體2的瓶口部分靠近前 支架11固定設置在底座I上，然后移動底座I至適宜的位置，并通過調節后支架12的高度 調節瓶體2的傾斜度，通過活塞31控制滴加頭3滴加研磨液的速率，進行穩定速率的研磨工藝。[0024]綜上所述，由于采用了上述技術方案，通過將研磨液盛放在塑料瓶體內且置于可 調節高度的金屬底座上，由于金屬底座的位置可自由擺放所以能方便調節研磨液的滴加位 置，并通過調節滴加頭上的活塞來調節研磨液的滴加速率，從而避免一次性加入過多研磨 液而導致研磨液的浪費，同時也可以通過控制研磨液的滴加速度，來保持穩定的研磨速率， 使樣品更加平整，提高研磨效率；且制作工藝簡單，制作成本較低，便于操作。[0025]通過說明和附圖，給出了具體實施方式
的特定結構的典型實施例，基于本實用新 型精神，還可作其他的轉換。盡管上述實用新型提出了現有的較佳實施例，然而，這些內容 并不作為局限。[0026]對于本領域的技術人員而言，閱讀上述說明后，各種變化和修正無疑將顯而易見。 因此，所附的權利要求書應看作是涵蓋本實用新型的真實意圖和范圍的全部變化和修正。 在權利要求書范圍內任何和所有等價的范圍與內容，都應認為仍屬本實用新型的意圖和范 圍內。
權利要求1.一種研磨拋光機的研磨液滴加裝置，其特征在于，包括底座、瓶體和滴加頭，所述瓶體固定設置在底座上，所述滴加頭套設在瓶口上。
2.根據權利要求1所述的研磨拋光機的研磨液滴加裝置，其特征在于，所述底座為雙排支架，包括前支架和后支架。
3.根據權利要求2所述的研磨拋光機的研磨液滴加裝置，其特征在于，所述后支架的聞度可調節。
4.根據權利要求3所述的研磨拋光機的研磨液滴加裝置，其特征在于，所述瓶體瓶口部分設置在前支架上。
5.根據權利要求4所述的研磨拋光機的研磨液滴加裝置，其特征在于，所述前支架的半徑小于所述瓶體半徑。
6.根據權利要求1所述的研磨拋光機的研磨液滴加裝置，其特征在于，所述滴加頭包括一活塞。
7.根據權利要求1-6中任意一項所述的研磨拋光機的研磨液滴加裝置，其特征在于， 所述底座的材質為不銹鋼。
8.根據權利要求7所述的研磨拋光機的研磨液滴加裝置，其特征在于，所述瓶體的材質為高密度聚乙烯。
9.根據權利要求8所述的研磨拋光機的研磨液滴加裝置，其特征在于，所述瓶體為研磨液自帶的瓶體，其底部半徑為3cm，高為15cm。
10.根據權利要求9所述的研磨拋光機的研磨液滴加裝置，其特征在于，所述活塞的材質為聚四氟乙烯。
專利摘要本實用新型涉及半導體制造領域，尤其涉及一種研磨拋光機的研磨液滴加裝置。本實用新型提出一種研磨拋光機的研磨液滴加裝置，通過將研磨液盛放在塑料瓶體內且置于可調節高度的金屬底座上，由于金屬底座的位置可自由擺放所以能方便調節研磨液的滴加位置，并通過調節滴加頭上的活塞來調節研磨液的滴加速率，從而避免一次性加入過多研磨液而導致研磨液的浪費，同時也可以通過控制研磨液的滴加速度，來保持穩定的研磨速率，使樣品更加平整，提高研磨效率。
文檔編號B24B37/34GK202825562SQ20122011081
公開日2013年3月27日 申請日期2012年3月22日 優先權日2012年3月22日
發明者曾雨晴 申請人:上海華力微電子有限公司