真空成型裝置及其采用的真空容器的制造方法
【專利摘要】一種真空容器，用以連接真空成型裝置的真空室，真空容器包括連接腔室、閥門腔室、出料腔室及密封件，連接腔室的底面上傾斜設有密封面，連接腔室連接真空室，出料腔室相對連接腔室設置，出料腔室內設有用以與真空室相連通的取料通道，閥門腔室設置于連接腔室及出料腔室之間，且與密封面相對設置，密封件活動地收容于閥門腔室內，且密封件的密封方向相對連接腔室的底面傾斜設置，以使密封件能夠沿著閥門腔室的側壁滑動至連接腔室的底面上，且密封件與密封面緊密貼合，使得密封件能夠將連接腔室與閥門腔室和出料腔室密封隔開。本發明還提供一種采用上述真空容器的真空成型裝置。上述真空容器具有操作方便的優點。
【專利說明】真空成型裝置及其采用的真空容器
【技術領域】
[0001] 本發明涉及一種成型裝置，尤其涉及一種真空成型裝置及其采用的真空容器。
【背景技術】
[0002] 在鑄造鑄件的過程中，一些熔融金屬被氧化以影響鑄件的質量。為了避免熔融金 屬被氧化，通常在真空室中進行鑄造，例如，鑄造非晶合金。然而，在真空室中取出成型品 時，真空室易被破真空。為了防止真空室被破真空，一般在真空室上安裝真空容器。真空 容器包括殼體及密封件，殼體的底面上設有水平的密封面，密封件垂直安裝于殼體內，且密 封件的密封方向與殼體的底面垂直設置，以使密封件相對殼體運動與密封面緊密貼合，以 密封真空室。然而，取出成型品時殘渣易掉落至密封面上，以使密封件和密封面無法緊密貼 合，需反復去除密封面上的殘渣，導致操作繁瑣。
【發明內容】
[0003] 鑒于上述情況，有必要提供一種操作簡單的真空容器及采用真空容器的真空成型 裝直。
[0004] 一種真空容器，用以連接真空成型裝置的真空室，該真空容器包括連接腔室、閥門 腔室、出料腔室及密封件，該連接腔室的底面上傾斜設有密封面，該連接腔室連接該真空 室，該出料腔室相對該連接腔室設置，該出料腔室內設有用以與該真空室相連通的取料通 道，該閥門腔室設置于該連接腔室及該出料腔室之間，且與該密封面相對設置，該密封件活 動地收容于該閥門腔室內，且該密封件的密封方向相對該連接腔室的底面傾斜設置，以使 該密封件能夠沿著該閥門腔室的側壁滑動至該連接腔室的底面上，且該密封件與該密封面 緊密貼合，使得該密封件能夠將該連接腔室與該閥門腔室和該出料腔室密封隔開。
[0005] -種真空成型裝置，其包括真空室、與該真空室相連的真空容器，該真空容器包括 連接腔室、閥門腔室、出料腔室及密封件，該連接腔室的底面上傾斜設有密封面，該連接腔 室與該真空室相連接，該出料腔室相對該連接腔室設置，該出料腔室內設有與該真空室相 連通的取料通道，該閥門腔室設置于該連接腔室及該出料腔室之間，且與該密封面相對設 置，該密封件活動地收容于該閥門腔室內，且該密封件的密封方向相對該連接腔室的底面 傾斜設置，以使該密封件能夠沿著該閥門腔室的側壁滑動至該連接腔室的底面上，且該密 封件與該密封面緊密貼合，使得該密封件能夠將該連接腔室與該閥門腔室和該出料腔室密 封隔開。
[0006] 本發明的真空容器上傾斜設有密封面，以使殘渣不易停留于密封面上，使得密封 面與密封件的側壁緊密貼合不易漏氣，也無需去除密封面上的殘渣，從而操作方便。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0007] 圖1是本發明第一實施例的真空成型裝置的第一使用狀態示意圖，真空成型裝置 的取料結構穿設于真空容器并進入真空室以取出成型品。
[0008] 圖2是圖1所示真空成型裝置的第二使用狀態示意圖，取料結構移動至出料腔室 內，且真空容器密封真空室。
[0009] 圖3是圖2所示真空成型裝置的第三使用狀態示意圖，取料結構的密封蓋被打開， 且成型品經由密封蓋取出。
[0010] 圖4是本發明第二實施例的真空成型裝置的結構示意圖。
[0011] 主要元件符號說明
【權利要求】
1. 一種真空容器，用以連接真空成型裝置的真空室，該真空容器包括連接腔室、閥門 腔室、出料腔室及密封件，其特征在于：該連接腔室的底面上傾斜設有密封面，該連接腔室 連接該真空室，該出料腔室相對該連接腔室設置，該出料腔室內設有用以與該真空室相連 通的取料通道，該閥門腔室設置于該連接腔室及該出料腔室之間，且與該密封面相對設置， 該密封件活動地收容于該閥門腔室內，且該密封件的密封方向相對該連接腔室的底面傾斜 設置，以使該密封件能夠沿著該閥門腔室的側壁滑動至該連接腔室的底面上，且該密封件 與該密封面緊密貼合，使得該密封件能夠將該連接腔室與該閥門腔室和該出料腔室密封隔 開。
2. 如權利要求1所述的真空容器，其特征在于：該真空容器還包括密封蓋，該出料腔室 貫通開設有與該取料通道相連通的出料口，該密封蓋樞接于該出料腔室上，且蓋設該出料 口，以密封出料腔室，該密封蓋被打開時，該密封蓋位于該出料口的下方，且該密封蓋相對 該出料腔室傾斜設置，以使該取料通道內的成型品能夠沿著該密封蓋滑落至預設位置處。
3. 如權利要求1所述的真空容器，其特征在于：該閥門腔室包括頂壁、第一導向壁、第 二導向壁及支撐壁，該第一導向壁由該頂壁的一側邊緣垂直延伸至該連接腔室的頂面，該 第二導向壁由該頂壁的另一側邊緣垂直延伸至該出料腔室，且與該第一導向壁平行設置， 該第二導向壁與該密封面位于同一個平面上，該支撐壁由該第一導向壁遠離該頂壁的一端 垂直延伸，且與該頂壁平行設置，該密封件的側壁分別與該第一導向壁及該第二導向壁相 抵持，在該第一驅動件的驅動下，該密封件能夠沿著該第一導向壁及該第二導向壁滑動至 該連接腔室的底面上，并使該密封件的底面與該支撐壁相抵持，且該密封件與該密封面緊 密貼合。
4. 如權利要求3所述的真空容器，其特征在于：該真空容器還包括第一驅動件，該頂壁 上貫通開設有穿設孔，該密封件包括密封頭及凸設于該密封頭一側上的連接桿，該密封頭 的側壁分別與該第一導向壁及該第二導向壁相抵持，該連接桿活動地穿設于該穿設孔，并 部分凸出于該殼體外，且與該第一驅動件相連接，在該第一驅動件的驅動下，該密封頭能夠 沿著該第一導向壁及該第二導向壁移動至該連接腔室的底面上，使得該密封頭與該支撐壁 相抵持，且該密封件與該密封面緊密貼合。
5. 如權利要求3所述的真空容器，其特征在于：該出料腔室包括安裝面、操作面及出 料面，該安裝面與該頂壁及該第二導向壁相交處相連接，該操作面由該安裝面遠離該閥門 腔室的一端邊緣垂直延伸形成，該出料面由該操作面遠離該安裝面的一端邊緣垂直延伸形 成，并與該安裝面平行設置，且與該密封面相連接，該出料口開設于該出料面上。
6. 如權利要求5所述的真空容器，其特征在于：該安裝面及該出料面為水平面，且該安 裝面與該支撐壁傾斜設置，該出料面與該底面平行設置，該密封面兩端分別與該安裝面及 該底面相連接。
7. 如權利要求5所述的真空容器，其特征在于：該出料面和該底面位于同一水平面，該 密封面由該底面朝向該閥門腔室傾斜凸伸形成，該出料面與該密封面及該底面的相交處相 連接。
8. -種真空成型裝置，其包括真空室、與該真空室相連的真空容器，該真空容器包括 連接腔室、閥門腔室、出料腔室及密封件，其特征在于：該連接腔室的底面上傾斜設有密封 面，該連接腔室與該真空室相連接，該出料腔室相對該連接腔室設置，該出料腔室內設有與 該真空室相連通的取料通道，該閥門腔室設置于該連接腔室及該出料腔室之間，且與該密 封面相對設置，該密封件活動地收容于該閥門腔室內，且該密封件的密封方向相對該連接 腔室的底面傾斜設置，以使該密封件能夠沿著該閥門腔室的側壁滑動至該連接腔室的底面 上，且該密封件與該密封面緊密貼合，使得該密封件能夠將該連接腔室與該閥門腔室和該 出料腔室密封隔開。
9. 如權利要求8所述的真空成型裝置，其特征在于：該真空容器還包括密封蓋，該出料 腔室貫通開設有與該取料通道相連通的出料口，該密封蓋樞接于該出料腔室上，且蓋設該 出料口，以密封出料腔室，該密封蓋被打開時，該密封蓋位于該出料口的下方，且該密封蓋 相對該出料腔室傾斜設置，以使該取料通道內的成型品能夠沿著該密封蓋滑落至預設位置 處。
10. 如權利要求8所述的真空成型裝置，其特征在于：該閥門腔室包括頂壁、第一導向 壁、第二導向壁及支撐壁，該第一導向壁由該頂壁的一側邊緣垂直延伸至該連接腔室的頂 面，該第二導向壁由該頂壁的另一側邊緣垂直延伸至該出料腔室，且與該第一導向壁平行 設置，該第二導向壁與該密封面位于同一個平面上，該支撐壁由該第一導向壁遠離該頂壁 的一端垂直延伸，且與該頂壁平行設置，該密封件的側壁分別與該第一導向壁及該第二導 向壁相抵持，在該第一驅動件的驅動下，該密封件能夠沿著該第一導向壁及該第二導向壁 滑動至該連接腔室的底面上，并使該密封件的底面與該支撐壁相抵持，且該密封件與該密 封面緊密貼合。
【文檔編號】B22D17/20GK104275459SQ201310270058
【公開日】2015年1月14日 申請日期:2013年7月1日 優先權日:2013年7月1日
【發明者】陳堂權, 李先合, 蔣益民 申請人:鴻富錦精密工業（深圳）有限公司, 鴻海精密工業股份有限公司