鍋爐清洗劑的制作方法
【專利摘要】本發明提供了一種新型的清洗鍋爐的清洗劑，其包括十二胺，乙氧基胺、木質素磺酸鈉以及水。采用該清洗劑清洗鍋爐，實施方便，不需停機，不需安裝臨時酸洗系統，無廢液排放，具有較好的社會效益與經濟效益。
【專利說明】鍋爐清洗劑
【技術領域】
[0001 ] 本發明涉及清洗劑【技術領域】，尤其涉及一種用于清洗鍋爐的清洗劑。【背景技術】
[0002]鍋爐出現以后，成為各工礦企業、事業單位生產和生活中不可或缺的熱力設備，而且在國民經濟中占有重要的地位。但鍋爐在運行一段時間后，不可避免的都會受到金屬腐蝕產物和其它沉積物的影響，這將直接影響鍋爐的傳熱效果，降低其使用效率，嚴重時還會使爐管局部過熱，降低材料強度，加速爐管腐蝕，甚至導致爆管事故。因此，為了確保鍋爐運行中有良好的水汽質量，以避免鍋爐腐蝕，鍋爐清洗是必不可少的措施，其中主要是對鍋爐進行化學清洗。
[0003]鍋爐清洗技術是從機械清洗技術開始，然后是傳統的化學清洗技術，而且主要以酸洗為主，其效果雖然明顯，但難以避免對金屬基體的傷害，清洗廢液由于量大，處理也有一定難度，雖投入大量資金，治理了廢液中的有毒有害物質，但客觀上仍對環境帶來了一定程度的污染；另一方面傳統的化學清洗是需停機才開始的，需要龐大、復雜的臨時清洗系統，消耗大量人力、物力、財力，并且因停機而造成了巨大的經濟損失。
[0004]帶負荷清洗技術是一種新型的鍋爐清洗技術，利用界面物理化學原理，通過特種清洗劑，作用在垢層和基體金屬之間產生界面滲透、擠壓、剝落等界面效應，使垢脫除并將其分散懸浮于水中，通過合適的部位(如定排、連排)排出鍋爐之外。與傳統的化學清洗方法相比，非化學溶解是其最大的特點，因而也就完全避免了對基體金屬的傷害。由于清洗劑配方中大量的表面活性成份，可形成分子膜覆蓋層，對于裸露的金屬基體有強烈的保護作用，不但在清洗過程中起到對基體金屬的保護作用，而且能長期隔離基體與環境介質，使之免受后續的腐蝕。清洗劑組分在高溫環境中的揮發性與部分分解物，隨水汽介質而貫穿于全熱力系統，為全系統的清洗與保護提供了可能。在無氧高溫過熱蒸汽中形成還原氣氛，會使過熱器、再熱器的氧化物還原而粉化脫落，部分藥劑隨蒸汽直達汽輪機，在蒸汽隨溫度降低而形成水霧時重新溶解，在汽輪機流通表面發揮保護作用的同時，使積鹽及垢層剝落，從而使汽輪機得到清洗。帶負荷清洗實施方便，不需停機，不需安裝臨時酸洗系統，無廢液排放，具有較好的社會效益與經濟效益，將給化學清洗的傳統觀念帶來革命性的變化，大大提高生產的經濟性、安全性，并顯著提高設備利用率；給傳統化學清洗帶來一次技術飛躍。
【發明內容】
[0005]本發明鑒于上述問題而作，其目的在于提供一種新型的用于清洗鍋爐的清洗劑，其采用帶負電清洗技術，通過其中含有的表面活性劑親水基團吸附于金屬表面，疏水基團遠離金屬表面，這樣在金屬表面形成一層能抵抗氧和碳酸侵蝕的單分子或多分子的疏水薄膜。這層疏水薄膜能將水和金屬隔離，使得水中的溶解氧和氫離子不能同金屬表面接觸，起到了屏蔽隔離作用，從而抑制了腐蝕的發生，采用該清洗劑清洗鍋爐，實施方便，不需停機，不需安裝臨時酸洗系統，無廢液排放，具有較好的社會效益與經濟效益。[0006]為解決上述技術問題，本發明提供了一種新型的清洗鍋爐的清洗劑，其包括十二胺，乙氧基胺、木質素磺酸鈉以及水。
[0007]其中，所述清洗劑僅由上述組分構成。
[0008]其中，所述清洗劑中各組分的重量百分含量為質量百分含量為3%~8%的十二胺，質量百分含量為3%~6%的乙氧基胺,質量百分含量為4%~7%的木質素磺酸鈉以及余量的水。
[0009]本發明還提供了上述清洗液的制備方法，具體為:將上述清洗液中的各組分按照各自的百分比混合，攪拌均勻，即得所述清洗液。
[0010]本發明的有益效果:
[0011]本發明提供的新型的用于清洗鍋爐的清洗劑，采用該清洗劑清洗鍋爐，不會對鍋爐造成腐蝕，清洗起來實施方便，不需停機，不需安裝臨時酸洗系統，無廢液排放，具有較好的社會效益與經濟效益。
【具體實施方式】
[0012]本發明提供了一種新型的清洗鍋爐的清洗劑，其包括質量百分含量為3%~8%的十二胺，質量百分含量為3%~6%的乙氧基胺,質量百分含量為4%~7%的木質素磺酸鈉以及余量的水。
[0013]進一步優選，十二胺的質量百分含量為5%,乙氧基胺的質量百分含量為5%,木質素磺酸鈉的質量百分含量為5%以及余量的水。
[0014]十二胺的俗稱，它之所以具有緩蝕性能，是因為十二胺分子中N原子上的孤對電子與金屬形成了配位鍵:Fe+C12H25NH2 — FeiNH2C12H2以Fe = NH2C12H2的形式吸附在碳鋼的表面，減少了水分子與基體Fe的接觸面。另外，它有一定的還原性，可以使高氧化的碳鋼表面形成磁性保護層，有較強的抗蝕能力，能延長金屬的使用壽命。
[0015]木質素磺酸鈉是木質素磺酸鹽的一種，其分子是大約有50個苯丙烷單元組成的近似于球狀三維網絡結構體，中心部位為未磺化的木質素的三維網絡分子結構，中心外圍分布著被水解且含磺酸根的側鏈，最外層是由磺酸根的反離子形成的雙電子層。木質素磺酸鹽是同時含有C6~C3疏水骨架和磺酸以及其他親水性基團的陰離子表面活性劑，它能使溶液表面張力降低，但是對表面張力的抑制作用不大，也不會形成膠束；其結構特征和分子量決定木質素磺酸鹽在許多方面不同于合成表面活性劑。磺酸基團對鐵鹽垢有很好的阻垢分散作用，可阻止沉積物的形成大概可從抑制水垢晶體的產生以及它們分散污垢(懸浮物)粒子兩方面來解釋。聚合物阻垢劑在水中具有很高的表面活性，它們在水中容易吸附到水垢的晶核上，使晶核的表面能降低，使小結晶重新溶解，使大結晶的晶格畸變，破壞水垢的結晶單元的取向。另一方面，這些化合物吸附在懸浮物粒子表面時，加強了懸浮物粒子的電負性，松馳的聚合物又阻止這些粒子互相靠近而聚長，從而使污垢粒子得以較長時間地保持分散的懸浮狀態，不易形成污垢。
[0016]乙氧基胺分子是含有N、O原子的小分子，這兩種原子在分子中是孤對電子，能與金屬形成配位鍵。由于它是小分子，比較容易滲透到垢中，有利于清洗金屬。
[0017]本發明還提供了上述清洗液的制備方法，具體為:將上述清洗液中的各組分按照各自的重量份混合，攪拌均勻，即得所述清洗液。[0018]本發明提供的清洗劑中的表面活性劑一端有親水基團，一端有疏水的大分子結構。該清洗劑加入鍋爐后，親水基團吸附于金屬表面，疏水基團遠離金屬表面，這樣在金屬表面形成一層能抵抗氧和碳酸侵蝕的單分子或多分子的疏水薄膜。這層疏水薄膜能將水和金屬隔離，使得水中的溶解氧和氫離子不能同金屬表面接觸，起到了屏蔽隔離作用，從而抑制了腐蝕的發生。
[0019]以下采用實施例來詳細說明本發明的實施方式，借此對本發明如何應用技術手段來解決技術問題，并達成技術效果的實現過程能充分理解并據以實施。
[0020]實施例1清洗液的制備
[0021]將5g的十二胺，5g的乙氧基胺、5g的木質素磺酸鈉以及85g的水攪拌混合,獲得
清洗液。
[0022]實施例2腐蝕試驗
[0023]試片的制備
[0024]試片(50mmX 25mmX 2.5mm)打磨后進行預鈍化。
[0025]采用5%的鹽酸和0.3%的緩蝕劑酸洗；0.3%的檸檬酸和氨水配制液漂洗；加入氨水，調節PH值，加入1%的NaN02鈍化液進行鈍化，干燥備作高壓釜試驗。
[0026]高壓釜調試
[0027]高壓釜為首次投入運行的新設備，對其性能進行了測試。加去離子水1L，加熱電壓200V，室溫為20°C。升溫至400°C后恒溫I小時，然后關閉電源自然冷卻。經測試，高壓釜內水蒸氣的壓力與溫度成有規律的對應關系，高壓釜試驗的氣密性良好，不泄漏。
[0028]高壓爸試驗條件和步驟`
[0029]將配制好的模擬爐水IL置于洗凈、容積為2L的高壓釜中。采用磷酸鈉和氫氧化鈉制備模擬爐水，并用氨水調節PH值。取表面預處理過及未經處理的原始試片稱重后，懸掛在氣液兩相中。每次試驗所需試片共4片，汽相和液相各兩片，作平行對比。設定加熱電壓為200V，升溫，當溫度儀表顯示值比設定溫度低50~60°C時，將加熱電壓調小到150V，緩慢升溫至設定溫度，恒溫數小時后冷卻至室溫，取出試片立即用濾紙蘸干，觀察表面狀態后放入干燥器中，待與預處理時間相同后取出稱重。將試片保存在干燥器中備作成膜分析。
[0030]試驗條件
[0031]濃度:每IL模擬爐水加入3mL清洗劑；溫度:330°C ；pH:9.5 ;恒溫時間:2小時。
[0032]試驗結果，見表1。
[0033]表1采用本發明清洗液的清洗效果
[0034]
【權利要求】
1.一種新型的清洗鍋爐的清洗劑，其特征在于:包括十二胺，乙氧基胺、木質素磺酸鈉以及水。
2.如權利要求1所述的清洗劑，其特征在于:所述清洗劑僅由上述組分構成。
3.如權利要求1或2所述的清洗劑，其特征在于:所述清洗劑中各組分的重量百分含量為質量百分含量為3%~8%的十二胺,質量百分含量為3%~6%的乙氧基胺,質量百分含量為4%~7%的木質素磺酸鈉以及余量的水。
4.權利要求1至3所述清洗液的制備方法，其特征在于:將所述清洗液中的各組分按照各自的百分比混合，攪拌均勻， 即得所述清洗液。
【文檔編號】C23G5/036GK103510102SQ201310445378
【公開日】2014年1月15日 申請日期:2013年9月23日 優先權日:2013年9月23日
【發明者】楊桂望 申請人:楊桂望