專利名稱：涂布裝置以及帶多層膜的薄膜的制造方法
技術領域：
本發明涉及在使用擠出型的模具連續運送的膜片的表面上涂布涂布液進行制膜 的涂布裝置以及帶多層膜的薄膜的制造方法，特別是將多個膜同時制膜的涂布裝置以及帶 多層膜的薄膜的制造方法。
背景技術：
以往，作為在可撓性支撐體(以下，也稱為膜片)的表面上涂布、制膜期望的厚度 的涂布膜(涂布層)的涂布裝置，已知有刮棒涂布機方式、逆轉輥涂布機方式、凹版輥涂布 機方式、擠出涂布機等細縫模具(slot die)涂布機方式等。
其中，細縫模具涂布機方式的涂布裝置，與其他方式比較，能夠高速進行薄膜(薄 層)的涂布，因此應用廣泛。近年來，伴隨個人電腦的普及和家庭用電視機的薄型化，液晶 監視器的需要增大，要求薄膜的制膜的偏光膜、光學補償膜等光學膜的需要也提高。隨之， 能夠進行薄膜的制膜、并且能夠進行多層膜的制膜的狹縫模具涂布機方式的涂布裝置備受 矚目。
作為這樣的細縫模具涂布機方式的涂布裝置，例如有專利文獻I中記載的擠出 涂布裝置。專利文獻I中記載的擠出涂布方法，是在帶狀支撐體上同時涂布二層以上的涂 布層的擠出涂布方法，其特征在于，使最下層粘度低于該鄰接的層。由此，使O.OlPa· s以 上的高粘度的涂布液形成薄膜，能夠高速涂布。
專利文獻1:日本特開2002-59062號公報發明內容
但是，專利文獻I中記載的涂布方法中，需要使最下層的粘度低于相鄰接的層的 粘度。這在制成多層膜的情況下成為很大的限制。
另外，相應于在膜片的行進方向上的上游側的模唇，應該將構成吐出涂布液的模 具的模塊的前端面即模唇與膜片(帶狀支撐體)的距離，即模唇距離采用越大。層數越多， 相應地最上游側的模唇距離越大，因此，這成為裝置構成上的制約。
另外，根據本研究者等的深入研究可知，專利文獻I的涂布方法中，發生高低不均 (段A 7 )和條紋的不良。
本發明鑒于這樣的情況，提供即使使用40mPa *s以下的低粘度的涂布液也能夠進 行同時多層制膜、并且能夠降低高低不均和條紋的發生的涂布裝置以及帶多層膜的薄膜的 制造方法。
本發明的課題能夠通過下述各發明來解決。
即，本發明的帶多層膜的薄膜的制造方法是，將粘度為40mPa · s以下的涂布液同 時多層涂布于被支撐輥支撐并連續移動的膜片的表面，由此，制造帶多層膜的薄膜的方法， 所述制造方法的主要特征在于，包括準備工序，其中，準備由多個模塊構成的模具和抽吸 空氣的抽吸裝置；減壓工序，其中，從所述模具的、在所述膜片的移動方向的上游側通過所述抽吸裝置抽吸空氣，由此，對所述模具前端部與所述膜片之間的空間進行減壓；和制膜工序，其中，一邊在所述減壓工序中進行減壓，一邊從所述模具的前端部對所述膜片吐出所述涂布液而在所述膜片制成多層膜，
所述模具具有通過組合所述多個模塊而形成且用于貯留所述涂布液的容器，所述容器配置在比涂布點靠下的位置，所述涂布點為對膜片吐出從該容器供給的涂布液而與膜片或在膜片上形成的涂布膜接觸的位置，
將在所述模塊中作為所述移動方向的最下游的模塊的前端面的下游模唇、與所述膜片的最短距離設為dl，將緊鄰所述下游模唇的鄰接模唇、與所述膜片的最短距離設為 d2，所述鄰接模唇為比所述最下游的模塊靠上游側一個模塊的模塊的前端面，將所述鄰接模唇的所述移動方向的寬度設為L2，將最上層的膜厚設為hl，將除去最上層的所有膜的總膜厚設為h2時，以滿足式I 式4全部的方式設置所述模塊而構成所述模具，
IOym^ (dl-d2) ^ 200 μ m 式 I
d2 彡 3Xh2式 2
50 μ m ^ L2 ^ 200 μ m式 3
dP/dX > O式 4。
由此，能夠降低高低不均、條紋的不良。
另外，本發明的涂布裝置為，從由多個模塊構成的模具的前端涂布粘度為 40mPa · s以下的涂布液，并在被支撐輥支撐且連續移動的膜片的表面同時制成利用所述涂布液形成的二層以上的膜的裝置，所述涂布裝置的主要特征在于，具有抽吸裝置，其從所述模具的、所述膜片的移動方向的上游側抽吸空氣，從而對所述模具前端部與所述膜片的表面之間的空間進行減壓；和容器，其通過組合所述多個模塊而形成并用于貯留所述涂布液，
所述容器配置在比涂布點靠下的位置，所述涂布點為對膜片吐出從所述容器供給的涂布液而與膜片或在膜片上形成的涂布膜接觸的位置，
將在所述模塊中作為所述移動方向的最下游的模塊的前端面的下游模唇、與所述膜片的最短距離設為dl，將緊鄰所述下游模唇的鄰接模唇、與所述膜片的最短距離設為 d2，所述鄰接模唇為比所述最下游的模塊靠上游側一個模塊的模塊的前端面，將所述鄰接模唇的所述移動方向的寬度設為L2，將最上層的膜厚設為hl，將除去最上層的所有膜的總膜厚設為h2時，以滿足式I 式4全部的方式設置所述模塊構成所述模具，
10 μ m 彡(dl-d2)彡 200 μ m 式 I
d2 彡 3Xh2式 2
50 μ m 彡 L2 彡 200 μ m式 3
dP/dX > O式 4。
發明效果
即使使用粘度為40mPa *s以下的涂布液，也能夠通過進行同時多層涂布而制成良好的膜。
圖1是表示本發明的涂布裝置的一例的截面圖。
圖2是表示模具160與膜片120的位置關系、尺寸的概略圖。
圖3是表示評價條件和結果的表。
圖4(A)是表示等節距狀的高低不均的概略圖。(B)是表示無規地產生的高低不均 的概略圖。
圖5(A)是表示木紋形狀的條紋的概略圖。(B)是表示等節距狀的細條紋的概略 圖。(C)是表示等節距狀的粗條紋的概略圖。(D)是表示粗條紋的概略圖。
具體實施方式
以下，參考附圖的同時，詳細說明用于實施本發明的方式。在此，圖中，用相同的標 號表示的部分是具有同樣的功能的同樣的要素。另外，本說明書中，使用“ ”表示數值范 圍的情況下，由“ ”表示的上限、下限的數值也包括在數值范圍內。
〈涂布裝置的構成〉
本發明的涂布裝置使用擠出型的模具，在被支撐輥上支撐且連續移動的膜片(也 稱為支撐體或者膜)的表面涂布作為牛頓流體的涂布液，使上述涂布液在上述膜片的表面 進行同時制膜二層以上，由此，制作帶多層膜的薄膜(也稱為層疊膜)。
關于本發明的涂布裝置的一個實施方式，參考附圖進行說明。圖1是表示本發明 的涂布裝置的一例的截面圖。本發明的涂布裝置100主要具備支撐膜片120并旋轉的支撐 輥140、和在上述膜片120涂布涂布液的模具160而構成。
模具160由多個模塊162a、162b、162c構成。在模具160的內部，通過使這些多個 模塊組合，形成用于貯留涂布液的容器164a、164b、以及從上述容器164a、164b向模具160 的前端部延伸的細縫166a、166b。
如圖1所示，容器164a、164b能夠由其截面形狀為近圓形或者半圓形構成。容器 164a、164b是沿模具160的寬度方向(相對于圖面為垂直方向)使其截面形狀延長的涂布 液的液體貯留空間。
在此，圖1中示出了三個模塊162a、162b、162c、二個容器164a、164b、以及二個細 縫166a、166b，模塊的個數不限定于三個，容器以及細縫的個數也不限定于二個。根據需要 的涂布膜的種類、數目，能夠由必要的數量的模塊形成必要的數量的容器、細縫。
作為模具的前端面的模唇，以與膜片120具有規定的距離來設置。將位于在膜片 120的運送方向上的最下游(以下，上游、下游、上游側、下游側的記載全部是指在膜片120 的運送方向上的上游(側)、下游(側))的模塊即模塊162a的前端面稱為下游模唇，將正中 的模塊(與下游模唇相鄰的模塊、在比位于最下游的模塊靠上游側一個模塊位置的模塊) 即模塊162b的前端面稱為鄰接模唇，將最上游側的模塊即模塊162c的前端部稱為上游模 唇時，以以下的式I 5、條件I 3的關系成立的方式構成模具。
在此，參照圖2進一步進行說明。圖2是表示模具160與膜片120的位置關系、尺 寸的概略圖。將利用最下游的細縫166a涂布的膜的膜厚設為hl，將利用比最下游細縫靠上 游側一個細縫的細縫166b涂布的膜的膜厚設為h2，將鄰接模唇的前端與膜片的最短距離 設為d2，將最下游模唇的前端與膜片的最短距離設為dl，將鄰接模唇的膜片運送方向上的 長度設為L2，另外，將dP/dX設為在最下游模唇與膜片之間的膜片運送方向上的壓力梯度 時，以滿足以下的全部條件的方式構成涂布裝置100。
· 10 μ m ≤(dl-d2)≤ 200 μ m
· d2 ≤ 3Xh2
· 50 μ m≤ L2 ≤ 200 μ m
· dP/dX > 0式I 式2 式3 式4
·在上游側設置減壓裝置，從上游側開始減壓。條件I
·涂布液粘度40mPa · s以下條件2
·以容器的位置在比涂布點(從模具160吐出的涂布液與膜片120相接的部位)
在此，條件3的容器位置，如圖1所示，位于距涂布點僅僅X1、X2的下方。關于X1、 X2，如為正的值，則只要沒有對其他裝置的構成帶來不良影響，就能夠采用任意的值。
上述說明中，以在膜片上形成二層涂布膜的例子進行說明，但在膜片上涂布三層以上的涂布膜的情況下，將最上層以外的膜的總膜厚設為h2、將最上層膜厚設為h1、將最下游的模唇的前端與膜片的最短距離設為d2、將最下游的模唇的相鄰的模唇的前端與膜片的最短距離設為d2，能夠以滿足上述式的關系的方式構成模具。
根據本發明人的深入研究，發現，通過以滿足上述dl、d2、h1、h2、dP/dX的條件的方式構成涂布裝置100，即使使用粘度40mPa-s以下的涂布液，在膜片上也能形成不具有高低不均、條紋、泡紋、在模唇前端的異物引起的抓痕條紋(引9々>9 7 -7' )等的良好的涂布膜，從而能夠制造層疊膜。
下面，關于式I 式4、條件I 條件3，以下詳細地進行說明。
(I)關于式 I [10 μ m ≤(dl_d2) ( 200 μ m]
本發明滿足ΙΟμπι≤(dl_d2)≤200μπι的關系。dl_d2小于10 μ m時，上層側的邊道(e — K )被下層側的邊道所打亂，沒有均勻地形成整個邊道。另一方面，200 μ m以上時，dl過大，有時邊道從端部切開，或產生無規的高低不均。
另外，使dl-d2為200 μ m以下時,能夠使最上層的膜以濕膜厚計為5 μ m以下、使最上層的鄰接層的膜厚以濕膜厚計為40 μ m以下的膜厚進行同時多層涂布。如果不能使膜厚變薄，則不得不降低各層的固體成分濃度和粘度，從而容易引起層混合。dl-d2超過 200 μ m時，產生條紋，無法使最上層的膜以濕膜厚5 μ m以下進行涂布。
(2)關于式 2[d2 ≤ 3Xh2]
本發明滿足d2 < 3Xh2的關系。這是由于，在與最下游模唇相鄰的模唇與膜片之間形成的邊道上沒有形成旋渦，因此，能夠穩定地形成層疊邊道。
(3)關于式 3 [50 μ m ≤ L2 ≤ 200 μ m]
本發明滿足50μπι≤L2≤200μπι的關系。這是由于，L2小于200 μ m時，能夠縮小減壓度，大于50 μ m時，防止液液界面的靜態接觸線由于微小的干擾而從模唇端面偏離。
(4)關于式 4 [dP/dX]
本發明滿足在最下游模唇與膜片之間的膜片運送方向的壓力梯度dP/dX > O。這是由于，相對于膜厚，模唇與膜片的最短距離過近時，對于振動等微小的干擾的耐性降低， 從而產生高低不均。
(5)關于條件I [減壓涂布]
在此，由于擴大模唇與膜片的間隔，從模唇前端進行涂布的涂布液引起而形成的靠下的方式配置。條件3膜片表面的邊道，有時發生破碎的現象。為了抑制該現象，可以將邊道從膜片運送方向的上游側開始減壓。另外，在減小對邊道的干擾的含義方面，在邊道成立的范圍內優選減壓值盡可能小。
從膜片運送方向的上游側開始減壓，在模具的上游側設置蓋體，通過作為抽吸裝置的泵從蓋體中吸出空氣，從而能夠進行減壓。
(6)關于條件2 [涂布液粘度40mPa · s以下]
例如，在像光學膜這樣干燥后的涂布膜非常薄的情況下，為了增加濕膜厚而容易涂布，通常盡可能降低涂布液的固體成分濃度來涂布。因此，涂布液的粘度也相當減小。但是，在涂布粘度為40mPa · s以下的液體的情況下，液體的流動性高，因此，均勻地形成層疊邊道非常困難。本發明是在使用40mPa · s以下的液體時發揮絕對效果的技術。
(7)關于條件3 [容器位置]
下面，關于容器與涂布點的位置關系，參照圖1進行說明。在此，涂布點是指，從模唇吐出的涂布液與膜片(在膜片上形成有膜的情況下，指膜片上的最上層的膜)接觸的位置。本發明中，容器以其位置在比涂布點靠下的方式配置。這是由于，通過使容器位置在比涂布點靠下的位置，氣泡等沒有在容器處滯留而除去，從而不會產生泡紋。由此，在此所謂的“比涂布點靠下”不是僅僅指涂布點的正下方，而是指通過涂布點且與地面平行的水平面的下方的整個位置。
< 評價 >
下面，對于本發明的涂布裝置的評價內容以及評價結果進行說明。評價如下進行， 使用圖1中記載的涂布裝置在規定的條件下在膜片上形成涂布膜，通過目視來觀察所形成的涂布膜，評價膜的品質。
將涂布液B200從細縫166b吐出進行涂布，將涂布液A210從細縫166a吐出而進行涂布。從膜片行進方向的上游側抽出空氣而減壓的同時進行涂布。膜厚hl、h2，如圖1所示，涂布液A210以濕膜厚計涂布h2 μ m,涂布液B200以濕膜厚計涂布hi μ m。
如圖2所示，將鄰接模唇與膜片120的最短距離設為d2、將最下游模唇與膜片120 的最短距離設為dl。在涂布速度為30m/分鐘下進行涂布。
本評價中，使用咬合不正(7 >夕'一/W卜)、即dl > d2的涂布裝置進行評價。 在此，所謂咬合不正是指，從膜片運送方向上看，最下游側模唇前端與膜片之間的最短距離 dl短于相鄰模唇前端與膜片之間的距離d2。
圖3中示出了上述評價的各實施例、比較例的條件和評價結果。圖3是表示評價條件和結果的表。圖3中，容器與涂布點的位置關系的一欄表示位置高者(處于上方)。由此，在記載為涂布點的情況下，表示以涂布點的位置高于容器的位置的方式設定涂布裝置進行涂布。另外，在記載為容器的情況下，表示以容器的位置高于涂布點的位置的方式設定涂布裝置進行涂布。
dP/dX表示在最下游模唇與膜片之間的膜片運送方向的壓力梯度(斜率)，正表示斜率為正，負表示斜率為負，O表示斜率為O。即，將最下游側的模唇的出口側壓力大于入口側的情況表示為正。
在高低不均 、條紋、綜合評價的項中，〇、X、不能判斷表示如下內容。
·高低不均的項
O :在3波長白光下，沒有觀察到高低不均或者略微觀察到但對性能沒有影響。
X :在3波長白光下，觀察到高低不均，性能不令人滿意。
不能判斷涂布不成立、或者涂布狀態過度，無法判斷任何不良模式。
·條紋的項
O :在3波長白光下，沒有觀察到條紋或者略微觀察到但對性能沒有影響。
X :在3波長白光下，觀察到條紋，性能不令人滿意。
不能判斷涂布不成立，或者涂布狀態過度，無法判斷任何不良模式。
·綜合評價的項
O :高低不均和條紋均判定為〇的情況。
X :高低不均和條紋中的一個為X或者不能判斷的情況。
在此，關于聞低不均和條紋，參照圖4A至圖 進彳丁說明。圖4A至圖 中，箭頭表不膜片的行進方向。
圖4(A)是表示等節距狀的高低不均的概略圖。如圖4(A)所示，等節距狀的高低不均表示與膜片的寬度方向(與行進方向垂直的方向)平行的一定的膜厚不均在膜片的行進方向上等間隔地產生。
圖4(B)是表示無規地產生的高低不均的概略圖。如圖4(B)所示，無規地產生的高低不均表示與膜片的寬度方向平行的膜厚不均在膜片的行進方向上無規地產生。
圖5(A)是表示木紋形狀的條紋的概略圖。如圖5(A)所示,木紋形狀的條紋表示 在膜片的行進方向上產生木紋狀。
圖5(B)是表示等節距狀的細條紋的概略圖。如圖5(B)所示，等節距狀的細條紋表示與膜片的行進方向平行的粗細為1_以下的膜厚不均在膜片的寬度方向上等間隔地產生。
圖5(C)是表示等節距狀的粗條紋的概略圖。如圖5(C)所示，等節距狀的粗條紋表示與膜片的行進方向平行的粗細為Imm以上的膜厚不均在膜片的寬度方向上等間隔地產生。
圖5(D)是表示粗條紋的概略圖。如圖5(D)所示，粗條紋表示膜片的行進方向平行的粗細Imm以上的膜厚不均在膜片的寬度方向上產生I個以上，明確地認為是由于泡。
《評價結果》
下面，參照圖3，對評價結果進行說明。
(I)關于式 I [10 μ m ≤(dl_d2)≤ ( 200 μ m]
將實施例1-3、與比較例3、4進行比較。實施例1-3，滿足 IOym≤ (dl-d2) ( 200 μ m,相對于此，比較例 3、4 不滿足 IOym^ (dl_d2) ( 200 μ m。特別是將實施例3與比較例3、4進行比較，盡管dl、d2以外的條件相同，但實施例3[(dl-d2) =200 μ m]綜合評價為〇，對比較例3[(dl-d2) = 5]而言，不能判斷不良程度的過差涂布狀態而綜合評價為X，比較例4[(dl-d2) = 210]發生無規地產生的高低不均和等節距狀的粗條紋，綜合評價為X。實施例l[(dl-d2) = 10]、實施例2[(dl-d2) = 100]的綜合評價也為〇。由此可知,通過滿足10μπι< (dl-d2) < 200 μ m的條件，防止高低不均、條紋的不良。
(2)關于式 2 [d2 ≤ 3 X h2]
將實施例5、8與比較例8進行比較。實施例5滿足d2 < 3Xh2，實施例8滿足d2 =3Xh2，但比較例8不滿足d2 ( 3Xh2。另外，d2以外的評價條件也與實施例5、8、比較例8相同。此時，實施例5、8中，綜合評價為〇，但比較例8中，發生等節距狀的高低不均不良，綜合評價為X。另外，實施例1-4、6-7均滿足d2 < 3Xh2，綜合評價為〇。由此可知， 通過滿足d2 ( 3 Xh2，防止高低不均、條紋的不良。
(3)關于式 3[50μ < L2 彡 200μ ]
下面，將實施例4-6與比較例5、6進行比較。實施例4(L2 = 50)、實施例5(L2 = 100)、實施例6 (L2 = 200)均滿足50 μ m彡L2彡200 μ m，但比較例5 (L2 = 40)、比較例 6(L2 = 210)均不滿足50μπι < L2 ( 200 μ m。對實施例4_6與比較例5、6而言，L2以外的評價條件相同。實施例4-6的全部綜合評價為〇，但比較例5產生等節距狀的細條紋而綜合評價為X，比較例6產生等節距狀的高低不均而綜合評價為X。由此可知，通過滿足50μ m ^ L2 ^ 200 μ m的條件，防止高低不均、條紋的不良。
(4)關于式 4 [dP/dX]
實施例1 8的全部dP/dX為正，綜合評價為〇。相對于此，dP/dX為負的比較例l、dP/dX為0(零)的比較例2均發生等節距狀的高低不均而綜合評價為X。由此可知，通過滿足dP/dX > O的條件，防止高低不均不良。
(5)關于條件2[涂布液粘度40mPa · s以下]
比較例9的涂布液粘度為60mPa · S，比40mPa · s大。該情況下，dP/dX即使為負， 綜合評價也為〇。其表示使用高粘度的涂布液的以往的涂布方法。但是，近年來，制作薄膜的要求高，為了制作薄膜，需要使用低粘度的涂布液。
在此，參照比較例I時，除了粘度為40mPa · s以外，在與比較例9 (使用高粘度涂布液的以往條件)相同的條件下制膜時，發生等節距狀的高低不均。由此發現，在使用涂布液粘度為40mPa · s以下的低粘度涂布液的情況下，發生使用粘度大于40mPa · s的涂布液時沒發生過的高低不均不良。
(6)關于條件3 [容器位置]
將實施例5與比較例7進行比較。實施例5是用涂布點位置比容器位置高的裝置進行涂布，比較例7是用容器位置為比涂布點高的位置的裝置進行涂布。另外，除了容器與涂布點的高度位置以外的評價條件，在實施例5和比較例7中相同。此時，實施例5中，綜合評價為〇，但比較例7中，產生明顯認為是由于氣泡導致的粗條紋，綜合評價為X。另外， 實施例1-4、6-8均用涂布點位置比容器位置高的裝置進行涂布，綜合評價為〇。由此可知， 通過在涂布點比容器位置高的位置進行涂布，防止由氣泡產生的不良。
符號說明
100...涂布裝置、120...膜片、140...支撐輥、160.. 模具、162a.. 模塊、162b.· 模塊、162c...模塊、164a. ·容器、164b...容器、166a.. 細縫、166b.. 細縫、200. · ·涂布液B、210.. 涂布液A
權利要求
1.一種帶多層膜的薄膜的制造方法，將粘度為40mPa .s以下的涂布液同時多層涂布于被支撐輥支撐并連續移動的膜片的表面，由此，制造帶多層膜的薄膜，所述制造方法的特征在于，包括準備工序，其中，準備由多個模塊構成的模具和抽吸空氣的抽吸裝置；減壓工序，其中，從所述模具的、在所述膜片的移動方向的上游側通過所述抽吸裝置抽吸空氣，由此，對所述模具前端部與所述膜片之間的空間進行減壓；和制膜工序，其中，一邊在所述減壓工序中進行減壓，一邊從所述模具的前端部對所述膜片吐出所述涂布液而在所述膜片制成多層膜，所述模具具有通過組合所述多個模塊而形成且用于貯留所述涂布液的容器，所述容器配置在比涂布點靠下的位置，所述涂布點為對膜片吐出從該容器供給的涂布液而與膜片或在膜片上形成的涂布膜接觸的位置，將在所述模塊中作為所述移動方向的最下游的模塊的前端面的下游模唇、與所述膜片的最短距離設為dl，將緊鄰所述下游模唇的鄰接模唇、與所述膜片的最短距離設為d2，所述鄰接模唇為比所述最下游的模塊靠上游側一個模塊的模塊的前端面，將所述鄰接模唇的所述移動方向的寬度設為L2，將最上層的膜厚設為hl，將除去最上層的所有膜的總膜厚設為h2時，以滿足式I 式4全部的方式設置所述模塊而構成所述模具，IOym ^ (dl-d2) ^ 200 μ m 式 I d2 ≤ 3Xh2式 250 μ m ^ L2 ^ 200 μ m式 3dP/dX >0式 4。
2.一種涂布裝置，從由多個模塊構成的模具的前端涂布粘度為40mPa · s以下的涂布液，并在被支撐輥支撐且連續移動的膜片的表面同時制成利用所述涂布液形成的二層以上的膜，所述涂布裝置的特征在于，具有抽吸裝置，其從所述模具的、所述膜片的移動方向的上游側抽吸空氣，從而對所述模具前端部與所述膜片的表面之間的空間進行減壓；和容器，其通過組合所述多個模塊而形成并用于貯留所述涂布液，所述容器配置在比涂布點靠下的位置，所述涂布點為對膜片吐出從所述容器供給的涂布液而與膜片或在膜片上形成的涂布膜接觸的位置，將在所述模塊中作為所述移動方向的最下游的模塊的前端面的下游模唇、與所述膜片的最短距離設為dl，將緊鄰所述下游模唇的鄰接模唇、與所述膜片的最短距離設為d2，所述鄰接模唇為比所述最下游的模塊靠上游側一個模塊的模塊的前端面，將所述鄰接模唇的所述移動方向的寬度設為L2，將最上層的膜厚設為hl，將除去最上層的所有膜的總膜厚設為h2時，以滿足式I 式4全部的方式設置所述模塊構成所述模具，10μm≤(d1-d2)≤200μm 式1d2≤3Xh2 式250μm≤12≤200μm 式3dp/dx>0 式全文摘要
本發明提供即使使用低粘度的涂布液也能夠良好地制膜的涂布裝置以及帶多層膜的薄膜的制造方法。一種涂布裝置，具備抽吸裝置，用于使模具前端部的空間減壓；和容器，用于貯留所述涂布液，所述容器配置在比涂布點靠下的位置上，將下游模唇與所述膜片的最短距離設為d1，將鄰接模唇與所述膜片的最短距離設為d2，將所述鄰接模唇的所述移動方向的寬度為L2，將最上層的膜厚設為h1，將除去最上層的所有膜的總膜厚設為h2時，以滿足式1～式4全部的方式設置所述模塊構成所述模具。10μm≤(d1-d2)≤200μm 式1，d2≤3×h2 式2，50μm≤L2≤200μm 式3，dP/dX＞0 式4。
文檔編號B05C5/02GK103056066SQ201210320199
公開日2013年4月24日 申請日期2012年8月31日 優先權日2011年9月1日
發明者國安諭司, 原澤岳彥 申請人:富士膠片株式會社