專利名稱：電鍍液凈化裝置的制作方法
技術領域：
電鍍液凈化裝置屬電鍍行業中有效去除鍍液中金屬雜質，保證電鍍工件質量的實用性裝置。
二背景技術：
常規電鍍液采用復合鍍鉻酸酐、硫酸、氟硅酸配制。在工作中常常含有多種有害金屬雜質及油污帶入鍍液，因為金屬雜質對鍍層影響較大，溶液中含量低影響較小，但是含量高(鐵的含量約大于4g/L)的時候，會使亮鉻沉積范圍變窄，鍍層光澤性及深度能力下降；電源工作電流經常波動、降低鉻液導電率，惡化鉻液分散能力。
三
發明內容
根據以上存在的問題，本實用新型的目的是提供一種電鍍液凈化裝置；解決針對目前電鍍行業中，電鍍液中金屬雜質含量較高、對電鍍質量影響大、常規化學處理難度大并且繁瑣而精心設計的較為理想的金屬雜質(主要是鐵的含量)處理裝置。它主要由凈化槽、電鍍槽與整流器及鍍液泵幾大部分構成，在凈化槽內安裝有陶瓷杯、陽極與陰極裝置構成。通過此凈化裝置內陰極上的反應，可以有效地去除鍍液中金屬雜質及油污，提高了鍍液性能，保證了被鍍工件的電鍍質量。
在鍍槽、氧化槽、凈化槽中產生的氣體即為大量的氫氣和氧氣。由于鍍液成分簡單，不會有其它有害氣體產生。
為證明該裝置的實用性及有效性，我們在地質礦產部檢測中心，對該裝置處理后的雜質及其鍍液質量做了檢測，其結果顯示效果優良。其主要有益效果是可有效克服鍍液中金屬雜質及油污對鍍層的不利影響，保證了電鍍質量。
四
如圖是電鍍凈化裝置的結構示意圖。
圖中1、凈化槽 2、整流器 3、電鍍槽 4、鍍液泵 5、微孔陶瓷杯
6、陽極 7、陰極五、實施方式由圖可知，本實用新型的凈化槽1一側連接有鍍液泵4與電鍍槽3，在凈化槽1的另一側安裝連接整流器2，在凈化槽1內安裝制有微孔陶瓷杯5與陽極6、陰極7構成。凈化槽1的啟用是根據電鍍溶液中鐵雜質的含量而決定的，當鐵雜質含量較低或電鍍工件的數量很少時，是不能使用凈化槽的。鍍液在凈化槽經過處理后，再溢流至主槽。
一般情況下，當鍍液的深鍍能力(測試可采用直角陰極法、內孔法、平行陰極法)降低，非其它因素所致，被鍍工件表面鍍層不均，亮鉻沉積范圍縮小、光澤性差，工作電流波動較大而啟用本裝置。另，可通過測定溶液的導率和電流效率而定是否啟用本裝置。
根據電解原理，金屬鐵離子通過微孔陶瓷杯，不斷在陰極沉積為金屬單質，而鍍液中其它金屬離子被微孔陶瓷杯阻礙，繼續以離子狀態存在，這樣就有效地去除了鍍液中的鐵離子。
權利要求1.電鍍液凈化裝置，主要由凈化槽，電鍍槽與整流器幾大部分構成，其特征是凈化槽(1)一側連接鍍液泵(4)、電鍍槽(3)，在凈化槽(1)的另一側安裝連接整流器(2)，在凈化槽(1)內安裝有微孔陶瓷杯(5)與陽極(6)、陰極(7)構成。
專利摘要電鍍液凈化裝置，屬電鍍行業中去除鍍液中金屬雜質，保證電鍍工件質量的裝置。解決電鍍液中金屬雜質含量較高，對電鍍質量影響大的問題。它主要由凈化槽，電鍍槽與整流器幾大部分構成，在凈化槽(1)一側連接鍍液泵(4)與電鍍槽(3)，在凈化槽(1)的另一側安裝連接整流器(2)，在凈化槽(1)內安裝有微孔陶瓷杯(5)與陽極(6)、陰極(7)構成。其主要有益效果是可有效地克服鍍液中金屬雜質及油污對鍍層的不利影響，保證了電鍍質量。
文檔編號C25D21/00GK2737807SQ200420053990
公開日2005年11月2日 申請日期2004年9月18日 優先權日2004年9月18日
發明者李淦, 胡志強, 張平, 韓遵安 申請人:勝利油田高原泵業有限責任公司