專利名稱：一種易于處理蝕刻痕的電容觸控屏結構的制作方法
技術領域：
一種易于處理蝕刻痕的電容觸控屏結構技術領域[0001]本實用新型涉及一種具有易處理蝕刻痕的電容觸控屏其結構。
背景技術：
[0002]電容觸控屏已經成為數字設其輸入設備中一個常見的設置，尤其是帶有顯示功能的觸控屏，近年來得到越來越廣泛的運用，并且其功能、性能都因此取得長足發展。[0003]這類觸控屏具有多層結構，其中許多層級的部分都需要具備良好的透光特性，特別是運用在顯示屏表面者，其技術要求必須達到不會使顯示圖案呈現明顯色差甚至是遮擋。這必然要求其材料和工藝都要滿足這個條件，目前，該領域的材料本身已然具有較好的透光性。其問題多會出現在制備工藝上。[0004]特別是帶有透明導電材料的導電膜，其ITO電極層經由蝕刻工藝完成，在成型后乃至組裝為整個觸控屏的過程中，其蝕刻的痕跡往往需要及時處理，才能保證整個導電膜的透光性；但普遍地，目前導電膜在與其他層粘貼后就被封閉而無法觸及，以至于加工過程中其蝕刻痕若未及時清理，就會使整個觸控屏的質量受到影響，這大大影響了成品的視覺效果。如圖I所示，現有一種單層感應層方案的電容觸控屏剖面結構示意圖；在其成型工藝中，玻璃蓋板層10、遮光矩陣20、與整個第一導電膜層40先構成一整體,然后第一導電膜層 40中的第一基片層41再與其他部件比如液晶顯示模塊、保護膜等組裝完成產品。在這后續過程中，第一導電膜層40其感應層42所在的表面已經被封閉于遮光矩陣20之下，其蝕刻痕無法再被處理，以至于帶來整個模組蝕刻痕明顯、無法消除等影響外觀視覺效果；如圖 2所示，是現有一種雙層感應層方案的電容觸控屏剖面結構示意圖，該方案比圖I多了一個第二導電膜層50，第二導電膜層50包括第二基片層51和第二感應層52。同樣地，在整個模組與其他部件共同完成組裝時，其第一感應層42、第二感應層52均已經被封閉，無法再對其進行處理，而其上所有的蝕刻痕無法得到解決。實用新型內容[0005]針對上述現有觸控屏其導電膜蝕刻痕難以及時處理的問題，本實用新型提出一種易于處理蝕刻痕的電容觸控屏結構，其技術方案如下[0006]一種易于處理蝕刻痕的電容觸控屏結構，包括[0007]—玻璃蓋板層(10),置于最上方,其上表面暴露于自由空間；[0008]一遮光矩陣(20)，其上表面配合于所述玻璃蓋板層(10)的下表面；[0009]一第一導電膜層(40)，位于所述遮光矩陣(20)的下方，包括一第一基片層(41)和其下表面上附著的第一感應層(42);以及[0010]一表面層(60)，置于所述第一感應層(42)的下方，并通過一第一光學膠層(31)與所述第一導電膜層(40 )粘接配合。[0011]作為本技術方案的優選者，可以在如下方面具有改進[0012]較佳實施例中，所述第一導電膜層(40)其第一基片層(41)的上表面通過一第二光學膠層(32)粘接于所述遮光矩陣(20)的下方。[0013]較佳實施例中，所述第一導電膜層(40)與所述遮光矩陣(20)之間還具有一第二導電膜層(50 )，該第二導電膜層(50 )包括[0014]一第二基片層(51)，通過一第二光學膠層(32)粘接配合于所述第一基片層(41) 的上方；[0015]一第二感應層(52)，附著于所述第二基片層(51)的上方，其所在第二基片層(51) 的一面通過一第三光學膠層(33 )粘貼配合于所述遮光矩陣(20 )的下方。[0016]較佳實施例中，所述第一感應層(42)和第二感應層(52)為平面內相互垂直的電極陣列。[0017]較佳實施例中，所述表面層(60)為PET膜，透明膜、液晶顯示模塊、IXD或0LED。[0018]本實用新型技術方案帶來的有益效果是[0019]I.第一感應層的蝕刻痕在其封閉之前得到足夠充分的處理，避免了蝕刻痕帶來的顏色偏差乃至失效的情況。[0020]2.在雙層感應層的情況下，具有蝕刻痕隱患的第二感應層也是在整個感應模塊成型后才予以封閉，所以避免了無法處理蝕刻痕的隱患。
[0021]
以下結合附圖實施例對本實用新型作進一步說明[0022]圖I是現有一種單層感應層方案的電容觸控屏剖面結構示意圖；[0023]圖2是現有一種雙層感應層方案的電容觸控屏剖面結構示意圖；[0024]圖3是本實用新型實施例一的剖面結構示意圖；[0025]圖4是本實用新型實施例二的剖面結構示意圖。
具體實施方式
[0026]實施例一[0027]如圖3所示，一種具有易處理蝕刻痕的、單層導電膜層的觸控屏結構，其自上至下包括一玻璃蓋板層10、一遮光矩陣20、一第二光學膠層32、一第一導電膜層40、一第一導電膠層31和底部的表面層60。[0028]其制作的工序如下[0029]首先處理第一導電膜層40 :在第一導電膜層40其第一基片層41的一個表面蝕刻加工具有ITO電極的第一感應層42，此為電容式觸控屏的感應部件。當第一導電膜層40成型后，第一感應層42朝下，以至于第一基片層41空閑的表面可以直接用第二光學膠層32 粘貼于玻璃蓋板層10、以及遮光矩陣20的下方，如此，第一感應層42仍然暴露在外，在此過程若第一感應層42所在的第一基片層41表面其蝕刻痕未完全清理，則仍然有機會對該表面進行處理，確保整個模組的蝕刻痕被處理完畢。最后再利用第一光學膠層31與表面層 60粘貼配合，可構成完整的觸控屏模組。可見，第一感應層42的蝕刻痕在其封閉之前得到足夠充分的處理，避免了蝕刻痕帶來的顏色偏差乃至失效的情況。[0030]實施例二 [0031]如圖4所示，本實施例為一雙層感應層的方案，其成型過程是4[0032]首先處理第一導電膜層40和第二導電膜層50，即分別在第一基片層41、第二基片層51上蝕刻生成第一感應層42和第二感應層52，特別地，第一感應層42和第二感應層52 為平面內相互垂直的電極陣列；然后再用第二光學膠層32將第一基片層41和第二基片層 51直接粘貼，使第一感應層42朝下、第二感應層52朝上；再將第二感應層52與遮光矩陣 20下表面用第三光學膠層33粘貼配合固定，最后才是整個模組通過其下方的第一感應層 41與表面層60通過第一光學膠層31粘貼配合。可見，具有蝕刻痕隱患的第一感應層41最后才得到封閉，第二感應層42也是在整個感應模塊(即所有具有感應層的組合層)成型后才予以封閉，所以避免了無法處理蝕刻痕的隱患。[0033]本實施例中，表面層60為一液晶顯不模塊,整個模組用于構成具有顯不功能的觸控屏，或為PET膜，或為透明膜材質。[0034]以上所述，僅為本實用新型較佳實施例而已，故不能依此限定本實用新型實施的范圍，即依本實用新型專利范圍及說明書內容所作的等效變化與修飾，皆應仍屬本實用新型涵蓋的范圍內。權利要求1.一種易于處理蝕刻痕的電容觸控屏結構，其特征在于包括 一玻璃蓋板層(10),置于最上方,其上表面暴露于自由空間； 一遮光矩陣(20)，其上表面配合于所述玻璃蓋板層(10)的下表面； 一第一導電膜層(40)，位于所述遮光矩陣(20)的下方，包括一第一基片層(41)和其下表面上附著的第一感應層(42);以及 一表面層(60)，置于所述第一感應層(42)的下方，并通過一第一光學膠層(31)與所述第一導電膜層(40)粘接配合。
2.根據權利要求I所述ー種易于處理蝕刻痕的電容觸控屏結構，其特征在于所述第ー導電膜層(40)其第一基片層(41)的上表面通過ー第二光學膠層(32)粘接于所述遮光矩陣(20)的下方。
3.根據權利要求I所述ー種易于處理蝕刻痕的電容觸控屏結構，其特征在于所述第ー導電膜層(40)與所述遮光矩陣(20)之間還具有一第二導電膜層(50)，該第二導電膜層(50)包括 一第二基片層(51),通過ー第二光學膠層(32)粘接配合于所述第一基片層(41)的上方； 一第二感應層(52),附著于所述第二基片層(51)的上方,其所在第二基片層(51)的一面通過ー第三光學膠層(33)粘貼配合于所述遮光矩陣(20)的下方。
4.根據權利要求3所述ー種易于處理蝕刻痕的電容觸控屏結構，其特征在于所述第一感應層(42)和第二感應層(52)為平面內相互垂直的電極陣列。
5.根據權利要求I至4中任一項所述一種易于處理蝕刻痕的電容觸控屏結構，其特征在于所述表面層(60)為PET膜或透明膜。
6.根據權利要求I至4中任一項所述一種易于處理蝕刻痕的電容觸控屏結構，其特征在于所述表面層(60)為液晶顯示模塊、OLED、IXD。
專利摘要本實用新型公開了一種易于處理蝕刻痕的電容觸控屏結構，其特征在于它包括一玻璃蓋板層(10)，置于最上方，其上表面暴露于自由空間；一遮光矩陣(20)，其上表面配合于所述玻璃蓋板層(10)的下表面；一第一導電膜層(40)，位于所述遮光矩陣(20)的下方，包括一第一基片層(41)和其下表面上附著的第一感應層(42)；以及一表面層(60)，置于所述第一感應層(42)的下方，并通過一第一光學膠層(31)與所述第一導電膜層(40)粘接配合。本技術方案第一感應層的蝕刻痕在其封閉之前得到足夠充分的處理，避免了蝕刻痕帶來的顏色偏差乃至失效的情況。
文檔編號G06F3/044GK202815798SQ20122036697
公開日2013年3月20日 申請日期2012年7月26日 優先權日2012年7月26日
發明者邱錦輝, 陳猛坤, 連東旭 申請人:漳州寶發光電科技有限公司