濺射鎳靶材生產中的冷卻裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及濺射靶材生產技術領域，更具體地說，特別涉及一種濺射鎳靶材生產中的冷卻裝置。
【背景技術】
[0002]濺射鎳靶材的要求較傳統材料行業高，一般要求如尺寸、平整度、純度、各項雜質含量、密度、N/0/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制；較高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物(氧化物)含量與尺寸、導磁率、超高密度與超細晶粒等等。磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式，就是用電子槍系統把電子發射并聚焦在被鍍的材料上，使其被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。現有的濺射靶材有金屬，合金，陶瓷，硼化物等。
[0003]在濺射靶材生產過程中會發出大量的熱量，如果不及時進行冷卻，容易造成局部燒焦或呈現晶粒化現象，現有技術中基本是直接將濺射靶材置于冷卻背板上進行冷卻，這種冷卻效率較低，有時達不到使用的要求。為此，有必要設計一種濺射鎳靶材生產中的冷卻
目.ο
【實用新型內容】
[0004]本實用新型的目的在于提供一種結構簡單的濺射鎳靶材生產中的冷卻裝置。
[0005]為了解決以上提出的問題，本實用新型采用的技術方案為:
[0006]濺射鎳靶材生產中的冷卻裝置，包括多塊鎳靶材、冷卻背板和磁鋼，多塊鎳靶材并列拼接后貼合安裝于冷卻背板上，所述磁鋼安裝在冷卻背板的背面，所述冷卻背板內設有循環冷卻管道，所述冷卻背板的端部還設有與循環冷卻管道兩端連通的冷卻水進口和冷卻水出口。
[0007]根據本實用新型的一優選實施例:多塊所述鎳靶材的厚度一致。
[0008]根據本實用新型的一優選實施例:位于冷卻背板中部的鎳靶材的厚度小于冷卻背板兩端的靶材的厚度，且中間至兩端厚度遞增。
[0009]與現有技術相比，本實用新型的有益效果在于:本實用新型在冷卻背板中設置循環冷卻管道，可根據需要向循環冷卻管道內通入冷卻循環水，極大的提高了冷卻效率。
【附圖說明】
[0010]為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0011]圖1為本實用新型實施例一濺射鎳靶材生產中冷卻裝置的結構示意圖。
[0012]圖2為本實用新型的濺射鎳靶材生產中冷卻裝置的中冷卻背板的俯視圖。
[0013]圖3為本實用新型實施例二濺射鎳靶材生產中冷卻裝置的結構示意圖。
[0014]附圖標記說明:1、鎳靶材，2、冷卻背板，3、磁鋼，4、循環冷卻管道，5、冷卻水進口，
6、冷卻水出口。
【具體實施方式】
[0015]下面結合附圖對本實用新型的優選實施例進行詳細闡述，以使本實用新型的優點和特征能更易于被本領域技術人員理解，從而對本實用新型的保護范圍做出更為清楚明確的界定。
[0016]實施例一
[0017]參閱圖1和圖2所示，本實用新型提供一種濺射鎳靶材生產中的冷卻裝置，包括多塊鎳靶材1、冷卻背板2和磁鋼3，多塊鎳靶材I并列拼接后貼合安裝于冷卻背板2上，所述磁鋼3安裝在冷卻背板2的背面，所述冷卻背板2內設有循環冷卻管道4，所述冷卻背板2的端部還設有與循環冷卻管道4兩端連通的冷卻水進口 5和冷卻水出口 6。
[0018]本實施例中，多塊所述鎳靶材I的厚度一致。
[0019]本實施例通過在冷卻背板2中設置循環冷卻管道4，在冷卻水進口 5和冷卻水出口 6上連接水管，可根據需要向循環冷卻管道4內通入冷卻循環水，極大的提高了冷卻效率。
[0020]實施例二
[0021]參閱圖3所示，本實施例的其他結構與實施例一相同，不同之處在于:位于冷卻背板2中部的鎳靶材I的厚度小于冷卻背板2兩端的鎳靶材I的厚度，且中間至兩端厚度遞增。
[0022]通過本實施例的設置，能避免濺射強烈區域的小塊靶材過早消耗完畢，從而延長鎳靶材I的使用壽命，提高鎳靶材利用率。
[0023]上述實施例為本實用新型較佳的實施方式，但本實用新型的實施方式并不受上述實施例的限制，其他的任何未背離本實用新型的精神實質與原理下所作的改變、修飾、替代、組合、簡化，均應為等效的置換方式，都包含在本實用新型的保護范圍之內。
【主權項】
1.濺射鎳靶材生產中的冷卻裝置，包括多塊鎳靶材(I)、冷卻背板(2)和磁鋼(3)，多塊鎳靶材(I)并列拼接后貼合安裝于冷卻背板(2)上，所述磁鋼(3)安裝在冷卻背板(2)的背面，其特征在于:所述冷卻背板(2)內設有循環冷卻管道(4)，所述冷卻背板(2)的端部還設有與循環冷卻管道(4)兩端連通的冷卻水進口(5)和冷卻水出口(6)。2.根據權利要求1所述的濺射鎳靶材生產中的冷卻裝置，其特征在于:多塊所述鎳靶材(1)的厚度一致。3.根據權利要求1所述的濺射鎳靶材生產中的冷卻裝置，其特征在于:位于冷卻背板(2)中部的鎳靶材(I)的厚度小于冷卻背板(2)兩端的鎳靶材(I)的厚度，且中間至兩端厚度遞增。
【專利摘要】本實用新型涉及濺射靶材生產技術領域，公開了一種濺射鎳靶材生產中的冷卻裝置，包括多塊鎳靶材、冷卻背板和磁鋼，多塊鎳靶材并列拼接后貼合安裝于冷卻背板上，所述磁鋼安裝在冷卻背板的背面，所述冷卻背板內設有循環冷卻管道，所述冷卻背板的端部還設有與循環冷卻管道兩端連通的冷卻水進口和冷卻水出口。本實用新型在冷卻背板中設置循環冷卻管道，可根據需要向循環冷卻管道內通入冷卻循環水，極大地提高了冷卻效率。
【IPC分類】C23C14/34
【公開號】CN205295448
【申請號】
【發明人】王嗣杰
【申請人】沈陽興工銅業有限公司
【公開日】2016年6月8日
【申請日】2016年1月2日