專利名稱：草莓育苗裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及植物栽培技術領域，尤其涉及一種草莓育苗裝置。
背景技術：
草莓為縮根性多年生常綠草本植物，園藝學上將其歸為漿果類。草莓漿果不僅 色澤艷麗、味道鮮美，而且含有豐富的養分以及人體必需的礦物質、維生素、多種氨基 酸等，深受消費者青睞。草莓設施栽培一般在每年8月底至9月上中旬定植，11月下旬 開始結果上市，一直延續到次年5月中下旬結束，同年9月重新種植草莓苗，因而草莓種 植需每年更換種苗。目前，我國草莓育苗普遍采用露地育苗的方式進行，每年3月底4月上旬，草 莓種植者采用組培苗或開花結果植株上長出的匍匐莖苗作為草莓母株種植到大田里，經 過一段時期培育后，在適合的光照、溫度、濕度等環境條件和植株自身較好的營養水平 條件下，草莓母株抽生匍匐莖，在匍匐莖頂端形成匍匐莖芽，匍匐莖芽生根之后形成子 苗，子苗培育長大就成為新的草莓種苗。隨著設施蔬菜、花卉等園藝作物工廠化育苗技術的廣泛運用，國內草莓種植者 開始嘗試在溫室、大棚等設施內采用平鋪式薄層基質育苗、營養缽育苗等方法培育草莓 種苗(草莓無土育苗技術，潘樹，中國果樹；ChinaFraits; 2002 (4)營養缽育苗對豐香草 莓生長結果的影響錢亞明，趙密珍等，江蘇農業科學2009年第2期；)。但仍存在設施 利用率低、種苗繁殖系數低、管理不方便等弊端。
發明內容本實用新型提供了一種草莓育苗裝置，解決了傳統露地育苗易感染病菌，受土 壤、氣候等環境因素影響大的問題。一種草莓育苗裝置，包括縱向截面為梯形的栽培架，栽培架頂面設有沿其長度 方向設置的栽培槽，兩側斜面上鋪設有穴盤。所述的栽培架高度為1.4 1.8m，基本與正常人身高差不多，最大限度提高了栽 培面積，但又不影響操作。所述的栽培槽寬度為0.3 0.5m。所述的斜面與水平面所成角度為75 85度，該角度下斜面在水平面的投影寬度 在50 70cm，與人手臂相差不大，便于操作。所述的栽培槽內設有沿栽培槽長度方向設置的滴管，可以對母株進行滴水和澆 施營養液。所述栽培臺內部設有正對穴盤背面的噴頭，用于對子株根系噴霧。所述的穴盤從上至下穴孔數量逐漸增加，如頂部穴盤為32穴，底部穴盤為50 穴。利用上述裝置進行草莓育苗的方法，包括[0014]將草莓母株種植在栽培槽內，當匍匐莖芽生長至兩葉一心時，將其固定在穴盤 內，在子株生根前，采用第一培養液和第二培養液交替對母株進行滴灌，子株生根后， 采用第三培養液分別對母株和子株根系進行滴管和噴霧，直至子株成苗。所述的第一培養液各營養元素配比為(mg/kg) N 90 110、P 40 60、K 90 110、B 0.01 0.02、CuO.Ol 0.02、Fe 0.1 1、Mn 0.01 0.05、MoO.OOl 0.01、Zn 0.01 0.05 ；所述的第二培養液各營養元素配比為(mg/kg) N60 80、K60 80、Ca 70 80、Mgl 5、B 0.01 0.1、Cu 0.1 0.2、Fe 0.1 0.2、Mn 0.1 0.2、Mo 0.01 0.05、ZnO. 1 0.2、S 1 10 ；所述的第三培養液各營養元素配比為(mg/kg) N40 60、P 140 160、K 90 110、Mg 1 5、B 0.01 0.1、CuO.Ol 0.1、Fe 0.1 0.5、Mn 0.01 0.02、Mo 0.01 0.05、Zn 0.1 0.2、S 1 10。所述栽培槽內的基質包括體積比為3 1 2 1 2的泥炭、礱糠灰和珍珠山。所述穴盤內的基質包括緩釋肥以及體積比為3 1 2 1 2的泥炭、礱糠灰 和珍珠巖，緩釋肥用量為穴盤容積的3 5%。，所述的緩釋肥可選用N-P-K 18-6-12配方。本實用新型裝置包括頂部栽培槽和兩側斜面上的穴盤，因為栽培槽和穴盤遠離 地面，可以免去病蟲害和土壤環境的影響，可控性強，便于管理，土地利用率高。利用本實用新型裝置在不同時期對母株和子株滴管或噴霧不同的培養液，一方 面所用培養液浪費少，育苗成本低，另一方面適宜母株和子株的生長，生成的草莓苗根 系完整發達，莖基部粗壯，碳水化合物含量高。
圖1為本實用新型草莓育苗裝置的結構示意圖。
具體實施方式
如圖1所示，一種草莓育苗裝置，包括由鋼管和毛竹搭建而成栽培架1，栽培架 1一般建在大棚內部，長度略小于大棚的長度，栽培架1的縱向截面為如圖1所示的等腰 梯形，栽培架1的頂面安裝有沿其長度方向設置的栽培槽2，寬度與栽培架1頂面寬度一 致，兩側斜面上鋪設有穴盤3，穴盤大小為54cmX28cm，頂部穴盤為32穴，穴孔容積 150cm3,底部穴盤為50穴，穴孔容積100cm3。栽培架1的高度為1.4 1.8m，頂面寬度為0.3 0.5m，底面寬度為1.4 1.8m， 斜面的傾角大致在75 85度，栽培槽2的高度為0.2 0.3m。同時在搭建栽培架1的 地面上設有深15 35cm、寬度為110 120cm的凹槽4，凹槽4南端高北端低，兩端落 差20cm，內部鋪設有6mm聚乙烯薄膜，用于回收營養液。栽培槽2內設有沿其長度方向設置的滴管5，斜面正上方設有噴霧裝置7，用于 補充穴盤內基質的水分以及子株降溫，栽培架1內部設有正對穴盤2背面的噴頭6，用于 對子株根系噴灑營養液。[0026]栽培時，在栽培槽2和穴盤3內裝盛基質，基質由體積比3 1 1的泥炭、礱 糠灰和珍珠巖組成，其主要理化性質為pH5.4，EC 0.66Ms/cm,容重0.26，總孔隙度 52.7，N 10.85mg/kg, P 18.26mg/kg, k 13.8mg/kg，有機質含量 29.34%。穴盤內除了 基質外，還混有N-P-K 18-6-12的緩釋肥，用量為穴盤容積的4%。。每年4月初，栽培 槽2內的基質表面鋪上滴管5，然后在上面種植母株，母株單行種植，株間距為0.25m， 至匍匐莖芽生長至二葉一心時期，將匍匐莖芽固定在穴盤內生根，在生根前，一直用下 述兩種培養液對母株進行滴管，下述兩種配方均是營養元素的配比。培養液l(mg/kg) N 100，P 50, K 100，B 0.0125，Cu 0.0125，Fe 0.5，Mn 0.025, Mo 0.005, Zn 0.025 ；培養液2(mg/kg) N 70，K 70，Ca 77.5，Mg 2.8，B 0.06，Cu 0.19，Fe 0.175，Mn 0.175，Mo 0.015，Zn 0.175，S 4.0 ；2種營養液間隔滴管，間隔時間根據溫度和草莓植株生長情況，間隔5 10天。 子株生根后(8月初)，采用培養液3對母株進行滴管并對子株根系進行噴霧。母株滴管 間隔時間為5 10天，而噴霧為間隔1小時噴霧30s。滿足草莓子苗的養分和水分需求。培養液3(mg/kg) N50，P 150, K 100，Mg 3，B 0.06，Cu 0.06，Fe 0.25， Mn 0.0125，Mo 0.025，Zn 0.125，S 4。在夏季高溫時節，可以開啟噴霧裝置7，對子株進行降溫。9月上中旬，子株普遍長有4 5張完全葉，此時子苗根系已包裹成團，適當控 制穴盤內的基質水分，剪斷連接子苗的匍匐莖，就很容易把子苗從穴盤內取出來。采用這種 方法繁殖草莓苗，每畝地可以繁殖草莓苗10 12萬株，是露地培育草 莓苗產量的2 2.5倍。單株草莓苗葉片數4 5張完全葉，短縮莖直徑0.9 1.2cm， 全株鮮重25.5 30.3g，而露地培育的草莓苗的短縮莖直徑0.45cm 0.86cm，全株鮮重 17.7 22.4g，因此，草莓穴盤苗的質量比露地苗好。此外，進行草莓穴盤苗的水分、養 分控制、冷藏及短日照處理，可以使得草莓提前10 15天上市，從而提高了草莓種植的 經濟效益。
權利要求1.一種草莓育苗裝置，其特征在于包括縱向截面為梯形的栽培架，栽培架頂面設 有沿其長度方向設置的栽培槽，兩側斜面上鋪設有穴盤。
2.根據權利要求1所述的草莓育苗裝置，其特征在于所述的栽培架高度為1.4 1.8m。
3.根據權利要求1所述的草莓育苗裝置，其特征在于所述的栽培槽寬度為0.3 0.5m。
4.根據權利要求1所述的草莓育苗裝置，其特征在于所述的斜面與水平面所成角 度為75 85度。
5.根據權利要求1所述的草莓育苗裝置，其特征在于所述的栽培槽內設有沿栽培 槽長度方向設置的滴管。
6.根據權利要求1所述的草莓育苗裝置，其特征在于所述栽培架內部設有正對穴 盤背面的噴頭。
7.根據權利要求1所述的草莓育苗裝置，其特征在于所述的斜面上方設有噴霧裝置。
專利摘要本實用新型公開了一種草莓育苗裝置，包括縱向截面為梯形的栽培架，栽培架頂面設有沿其長度方向設置的栽培槽，兩側斜面上鋪設有穴盤。本實用新型裝置栽培槽和穴盤遠離地面，可以免去病蟲害和土壤環境的影響，可控性強，便于管理，土地利用率高。
文檔編號A01G25/02GK201789833SQ20102054180
公開日2011年4月13日 申請日期2010年9月26日 優先權日2010年9月26日
發明者余紅, 忻雅, 方獻平, 來文國, 王淑珍, 童建新, 肖文斐, 蔣金權, 鄭桂珍, 阮松林, 馬華升 申請人:杭州市農業科學研究院