<listing id="vjp15"></listing><menuitem id="vjp15"></menuitem><var id="vjp15"></var><cite id="vjp15"></cite>
<var id="vjp15"></var><cite id="vjp15"><video id="vjp15"><menuitem id="vjp15"></menuitem></video></cite>
<cite id="vjp15"></cite>
<var id="vjp15"><strike id="vjp15"><listing id="vjp15"></listing></strike></var>
<var id="vjp15"><strike id="vjp15"><listing id="vjp15"></listing></strike></var>
<menuitem id="vjp15"><strike id="vjp15"></strike></menuitem>
<cite id="vjp15"></cite>
<var id="vjp15"><strike id="vjp15"></strike></var>
<var id="vjp15"></var>
<var id="vjp15"></var>
<var id="vjp15"><video id="vjp15"><thead id="vjp15"></thead></video></var>
<menuitem id="vjp15"></menuitem><cite id="vjp15"><video id="vjp15"></video></cite>
<var id="vjp15"></var><cite id="vjp15"><video id="vjp15"><thead id="vjp15"></thead></video></cite>
<var id="vjp15"></var>
<var id="vjp15"></var>
<menuitem id="vjp15"><span id="vjp15"><thead id="vjp15"></thead></span></menuitem>
<cite id="vjp15"><video id="vjp15"></video></cite>
<menuitem id="vjp15"></menuitem>

用于處理過程中的方法

文檔序號:1111480閱讀:285來源:國知局
專利名稱:用于處理過程中的方法
技術領域
本發明涉及一種用于諸如藥物處理等處理過程中的方法。本發明還涉及一種處理裝置,例如藥物處理裝置,以及處理容器例如藥物處理容器的用途,或者與這種容器相連的管件的用途。
背景技術
使用具有長管件或管道結構的生產線常見于很多行業,例如藥物工業,化工工業,食品工業等。這些管件結構通常用于由或者向容器輸送材料,或者在兩個容器之間輸送材料。舉例來說,在生產不同形式的定量藥物例如藥片或藥囊時,藥物成分在不同的處理結構中被處理或輸送。一種處理結構可以是制粒容器,另一處理結構可以是干燥容器,又一處理結構可以是用于從制粒容器至干燥容器引導材料或物質的管件。此外,由若干處理容器和/或管件構成的系統也可以被當作處理結構。
在生產藥物時,希望降低不同批次的材料混合的危險,或者降低處理結構中殘留高危險性物質例如高效能藥物或化學或微生物反應性材料的危險。還期望檢測處理結構內部的任何幾何變化,例如處理結構的受損或斷開部分,從而工作人員可以在早期采取適宜的措施。除了實際處理結構或其組成部件的變化外,幾何變化還可以是處理結構內的材料量變化。
在這種情況下,制造人員必須獲得進入處理結構內部的途徑,以便實施手工清潔度測試或損傷檢測。在一些情況下,這種測試可能難以執行,例如由于處理結構的尺寸,處理結構的位置,或是將被清理或檢測的處理結構內的部位。另外,由于不知道是否處理結構沒有殘留材料或出現其它幾何變化,工作人員趨向于以超出所需的頻率檢測處理結構,導致不必要的時間損失和附加制造成本。
因此,期望能夠以容易和可靠的方式檢測不同批次的處理過程中殘留下任何材料,或者檢測處理結構的內部幾何形狀的其它變化。還期望減少可能有的時間損耗和生產成本。

發明內容
本發明的一個目的是減少目前通常采用的手工測試的缺點。通過獨立權利要求中限定的方法、裝置和用途,可以實現上述目的以及將在后文中清楚體現出來的其它目的。
本發明基于這樣的認識,即可以使用已有的結構以確定結構內存在材料殘留,或是結構內部幾何形狀的其它變化。通過允許已有的處理結構被用作檢測設備的一部分,其中該檢測設備傳送與結構內的幾何形狀或環境有關的信息,工作人員不必打開結構以獲得進入其內的途徑,即可獲取信息。因此,通過將已有的處理結構用作信息載體,檢測任何材料殘留或其它幾何變化可以以基本上非侵襲性和/或非破壞性的方式實現。
應當指出,在本申請中,術語″處理結構″不僅包括容器、干燥器、混合器或在其中處理材料的類似物;而是還包括生產線中的任何管件或其它管狀結構或儲存器具,材料由它們輸送或容納,而不經受任何特殊處理。此外術語″處理結構″不局限于僅表示單一的管件或單一的容器,而是還可以理解為管件或容器的組合,或者這些器具的任何其它組合。換言之,術語″處理結構″在此既可以用于表示包括單一的器具,例如容器或管件,也可以表示器具以系統形態的任何組合。
本發明可以應用于各種類型的行業,其中一些非局限性的例子為藥物工業、化工工業、食品工業、冶金工業和農業,然而其它類型的行業也是可以的。因此,可以理解,本發明不局限于任何特定的處理領域或任何特定的處理裝置,然而,出于解釋的目的并且為了便于理解,下面的描述主要涉及藥物工業。
術語″材料″、″藥物材料″或″藥物物質″在此被理解為包括選自下面一組的至少任何一項粉末,粉末與水或其它液體的組合,固體,固體與水或其它液體的組合,漿料,液體,懸浮物。還可以是上述項目組合。還可以理解,藥物材料和物質不局限于僅僅表示一或多種活性成分,還可以指一或多種非活性成分,通常被稱作賦形劑,或是活性和非活性成分的組合。
結構內有關幾何形狀的信息被適宜地通過引入處理結構中的信號傳送,所述信號為任何可傳送信息的可檢測物理量或脈沖。基于結構內部幾何形狀、存在或不存在對象等等,所述信號可以以不同的方式受到影響。通過分析信號被如何影響,可以判斷處理結構的內部條件是否從一個時間至另一時間發生變化。
因此,根據本發明的一個方面,提供了一種用于諸如藥物處理等處理過程中的方法。所述方法包括向處理結構中供應材料,例如藥物材料,處理結構是例如容器或管件,或者一或多個容器和/或管件的任何組合;從所述處理結構排出材料;之后,發射至少一個信號,所述信號將在所述處理結構中傳播,并且適宜地,還被引導通過所述處理結構;接收如此傳播的信號;將接收到的信號的至少一個參數值與基準值作比較,以判斷處理結構是否有任何殘留材料或者處理結構中是否有任何幾何變化。
類似地,根據本發明的第二方面,提供了一種處理裝置,例如藥物處理裝置。所述裝置包括處理結構,例如容器或管件,或者一或多個容器和/或管件的任何組合,用于在所述處理結構處理材料(例如藥物材料)或輸送材料通過所述處理結構;至少一個發射器,用于發射至少一個信號,所述信號將在所述處理結構中傳播;至少一個接收器,用于接收如此傳播的信號;分析單元,例如計算機或微處理器,其操作性地連接著接收器,用于確定有關接收到的信號的參數。適宜地,分析單元也可以操作性地連接著發射器。
信息承載信號可以具有不同的參數。舉例來說,如果信號包括波,則其可以通過參數例如相位、幅值、功率和頻率來描述。所述波可以是電磁波或聲波,其傳播通過處理結構,其中所述波的相位、幅值、功率和/或頻率將基于存在或不存在藥物材料或處理結構內的其它幾何變化而受到不同影響。作為替代方式,信號可以包括電磁波和聲波的組合。應當指出,聲波(也被稱作壓力波)不是必然意味著其為可聽見的聲音,而指的是這樣的波,其傳播中受到的干擾隨著介質中的壓力而變化。作為替代方式,信號可以是電流,其可以由于處理結構內部變化引起的電阻、電容等的改變而受到影響。在這種情況下,處理結構可以適宜地絕緣。
如前所述,電磁波可以被用于傳送有關處理結構內部條件的信息。因此,根據本發明的至少一個實施例,所述處理結構被用作波導體。這樣,該實施例包括發射至少一種電磁波,所述電磁波將在所述處理結構中傳播,接收如此傳播的電磁波,將接收到的電磁波的至少一個參數值與所述基準值作比較。
根據至少一個實施例,處理結構由金屬或適于引導電磁波的任何其它材料制成。
與前面解釋的一樣,參數可以是例如波的幅值、功率、相位或頻率。舉例來說,關于處理結構內部條件的信息可以通過將接收到的信號的幅值的檢測值與基準或設定幅值作比較而獲得。適宜地,檢測值和基準值之間的差異超過預定差值,將被認為表示處理結構內的條件變化。所述預定差值可以是零或非零值。在這一點上,條件變化意味著在接收信號時處理結構內的條件不同于以前的情況。條件變化因此可以是存在于處理結構中的藥物材料量的變化,或由于損傷導致壁的幾何變化。條件變化可以基于介電常數或者至少是其實部或虛部的變化而適宜地檢測。舉例來說,如果處理結構是空的,而空氣的介電常數是已知的,如果一些藥物或其它殘留異物存在于處理結構內,介電常數將會不同,從而影響傳播的信號幅值和/或相位。如果確認出條件變化,在其被再次使用之前,工作人員可以采取適宜的措施,例如清理或維修處理結構。如果確認沒有條件變化,工作人員不需要花費時間進入處理結構內部。
處理過程或對該過程的其它一般控制所經受的任何中斷,例如在檢測到條件變化的情況下要求采取的某種行為,可以手工或自動實施。因此,廣義上講,本發明的至少一個實施例包括基于檢測參數或參數值至少部分地控制處理過程。控制處理過程的行為可以例如至少包括停止所述過程的行為。然而,如果所獲得的參數或參數值不需要任何采取任何行為,則控制處理過程的行為可以例如至少包括繼續所述過程或提供需要被處理的新材料的行為等。所述控制適于自動實施,舉例來說,通過下面將要描述的分析和控制單元。所述控制可以隨從于具有反饋回路或一些其它一般類型的控制方案的流程圖。受控制的過程可以是批量處理過程,其中每個時間處理一個批量的材料,或是連續處理過程,其中材料被連續處理。適宜地,與連續處理過程相關,發射信號、接收信號和判斷信息的行為被連續實施,以監視過程的進程。然而,這些行為也可以在一個批量處理過程內連續實施。請注意,術語″連續″,可以包括在若干離散的時刻測量,但有基本上穩定的間隔或一定的重復頻率,而非隨機的。在連續測量中,一段時間內的綜合信號參數值可被用作基準值。除了上面描述的控制行為,另一控制處理過程的行為可以包括實施維修操作。
在藥物材料被引入處理結構之前,即在處理結構的清潔條件或狀態下,基準參數值被適宜地確定。發射和接收一或多個信號在這種清潔狀態下以相應的方式被實施,直到處理結構建立任何變化的條件時的后續發射和接收。因此,通過發射具有一或多個特定參數值的處理結構的″清潔″信號和接收如此傳播的信號,以及確定參數值或參數,可以獲得初始響應,并且可以實現校正。當藥物材料隨后被引入和排出時,相對于校正狀態的變化可以被檢測,適宜地通過使發射的信號的參數值與校正時發射的信號相同。如果接收到的信號不同于初始響應,則表示處理結構內有變化,例如殘留藥物顆粒,或者一些其它幾何變化,例如壁受損。作為設置基準值的替代方式,可以進行理論數學計算。另一替代方式是實施仿真,例如計算機仿真,以判斷基準值以便于″清理″處理結構。又一替代方式,如后文所述,是這樣的情況,其中期望對非零量例如預定的充填級別進行校正。因此,一般而言,校正可以表達為以下述方式確定基準值,即在已知量例如零或非零量的藥物材料存在于處理結構中時,發射至少一個信號,所述信號將在所述處理結構中傳播,接收如此傳播的信號,以及確定有關接收到的信號的至少一個參數的值。
傳送通過已有處理結構的信息可以從所施加的微波射線中獲得。根據本發明的至少一個實施例,所述信號包括至少一種電磁波,其中所述電磁波的頻率在100MHz至3THz的范圍內,例如采用微波的形式,微波頻率在300MHz至300GHz的范圍內。在藥物生產線中,管狀結構和容器的尺寸基本上在微波波長的級別,已知微波區域可以用于具有與它們的波長相當的尺寸的組成部件。同其它類型的射線例如NTR相比,微波射線具有良好的穿透能力。隨著微波穿透藥物粉末,它們將受到影響和失真,例如改變幅值或相位,從而可以實現檢測。微波可以被控制為充滿它們被引入的整個空腔,即微波能夠到達角落和其它小空間。應當指出,微波適用于具有圓形輪廓或橫截面的處理結構,以及具有矩形輪廓或橫截面的處理結構。如果整個處理結構不具有單一的連續橫截面,處理結構在被用于計算時可以被認為包括具有不同輪廓或橫截面的若干段。
如果處理結構的形式為具有圓形輪廓且直徑為d的管件,所用微波信號的波長λ可以適宜地從下述大致區域選擇1.3d≤λ≤1.7d,以便獲取單一模式的電磁傳播。單一模式的傳播提供了系統中測量的可預見性和可再現性。系統可以使用更高階的傳播模式,這是在λ<1.3d的情況下產生的,盡管由于共存的傳播模式之間的相互干擾可能導致對系統變化的敏感性減小和實施中的可預見性降低。在具有尺寸a·b的矩形管件輪廓的情況下,適于使用的波長位于a≤λ≤2a范圍內,其中假定a>b。可如此獲得的單一模式傳播也會提供良好的靈敏性和測量可再現性。在a=b(其中a≤λ≤2a)或λ<a的情況下,更高階的傳播模式將出現,其具有與圓形橫截面情況下的更高階傳播模式類似的結果。如果處理結構的形式為制造用容器,選擇可以使用的一或多個頻率可以通過仿真實現,因為更為復雜的電磁環境可能需要更為專門并以基于現場情況進行調節的方式選擇一或多個頻率。總而言之,所建議的途徑的應用不局限于由此選擇一或多個頻率(一或多個波長),而是可以在性能和可預見性方面進行改進,如果這種調節/考慮被記入所用的特定系統配置的話。應當指出,盡管本申請主要描述了使用至少一個波長的信號,但本發明及其各方面和實施例不局限于僅使用單一的波長或頻率。因此,本發明還涵蓋了發射將在處理結構中傳播的多種電磁波形式的信號,所述電磁波具有多個頻率。換言之,在本發明的范圍內,若干信息載體信號可被采用。
根據本發明的至少一個實施例,可以使用發射模式或反射操作模式,或者甚至是所述操作模式的組合。在發射模式,信號,其形式適宜地為電磁波,將從處理結構的第一位置傳送到處理結構的第二位置。舉例來說,所述兩個位置可以是處理結構的兩個相反側。然而,其它替代方式也是可行的。在其從第一位置向第二位置的傳播過程中,信號可以因處理結構內的幾何形狀或存在任何材料而受到影響。這可以導致信號失真,該失真可以在第二位置被檢測到。在反射模式,所傳播的信號在被接收之前到達處理結構內表面而被反射。所反射的信號在其被發射時的相同位置被適宜地接收。這一點可以這樣實現,即首先將天線用于發射信號,然后將同一天線用于接收所反射的信號。作為替代方式,或作為補充,位于另一位置的另一天線可以接收所反射的信號。
根據本發明的至少一個實施例,所述至少一個發射的信號,適宜地包括至少一種電磁波,在兩個或更多個位置被接收,有益地通過位于各自相應位置的兩個或更多個接收器例如接收天線接收。一或多個信號既可以從單一的發射器例如發射天線發射,或者作為替代方式,通過至少兩個發射器發射。如果若干發射器被使用,它們每個可以具有相關的接收器。通過在不同的指定位置布置成對的發射器/接收器并且考察它們各自的響應,可以檢測處理結構內的哪個區域有藥物材料殘留。
使用若干發射器和接收器的另一優點是更容易檢測較小物體,例如小顆粒,特別是如果在長距離實施測量的話。因此,基于期望測量的一或多個區域,以及期望的可檢測的對象尺寸,可以決定應當使用多少個發射器和接收器。除了不覆蓋那些已知一般不會存留材料的無關區域以外,傳感器(發射器/接收器)可以安置在那些容易存在可檢測的材料殘留物的區域。如有必要,傳感器可以通過不同的方法識別或區分,例如唯一的頻率與每個發射器相關,或者每個發射器使用唯一的信號編碼,或者任何其它適宜的多重訪問方法。還可以設想只使用一個發射器,其以設定的頻段例如包括微波頻率區域發射信號,并且安置若干接收器以檢測相應的子頻段。
作為在不同位置設有發射器和接收器的替代方式,或者作為補充措施,一個陣列的接收器和/或發射器可被提供在公共模塊上。這種發射器/接收器陣列可以以一維格式提供,其中發射器和/或接收器沿著一條線布置,或者以二維格式提供,其中發射器和/或接收器布置為矩形矩陣。其它格式也是可行的。以模塊形式提供的這種類型的陣列可以被當作由若干子天線構成的大天線,或者模塊上的每個發射器和/或接收器可以被當作多個獨立設置天線。所述多個天線可以因此而被當作基本上安置在相對于處理結構的同一位置,或者可能被安置在″不同的″位置但彼此相隔相對短距離。還可以理解,若干陣列可被同時采用,以便在處理結構上進行測量。
根據本發明的至少一個實施例,一或多個反射器可以安置在所發射的信號的傳播路徑中,以便至少部分地阻止所發射的信號的傳播,并且至少部分地反射所發射的信號。使用反射器可以進行更大量的不同的測量。舉例來說,通過將反射器布置在處理結構內的信號傳播路徑中,信號將被部分地反射和適宜地接收于反射器的同一側,從而獲得一種可行測量模式,并且通過去除反射器以允許信號沿著其路徑傳播,并且被接收于進一步遠離的位置,可以獲得另一測量模式。另外,如果反射器可至少部分地透過信號,則所反射的部分信號可以被接收于反射器一側,而所發射的部分信號可以被接收于反射器的另一側。還可以設想,可以使用這樣的反射器,其可以改變將被反射的信號數量,舉例來說,通過改變反射器的有效阻斷區域。
本領域技術人員可以理解,通過改變所用反射器的數量或一或多個反射器的位置,關于例如材料殘留物的附加信息可以獲得。特別地講,通過使用反射器,可以便于發現這種材料殘留物的大概位置。
反射器可以被用于至少部分地關閉或封閉處理結構的至少一種部分。因此,根據本發明的至少一個實施例,反射器的形式可以是一或多個封閉或密封元件,例如閥、滑動閘門或類似物。通過關閉處理結構,可以獲得有限的空間以便測量。例如,這可以被用于確定材料殘留物或處理結構中損傷的大概位置。因此,封閉不同的部位并在其中實施測量,可以通過與子空間或子空間的基準狀態作比較而確定處理結構中的哪個子空間或子空間發生了任何變化。然而,如前所述,反射器不是必須完全阻止信號傳播,關于子空間的同一原理還適用于部分透過型反射器。
采用封閉或密封元件形式的反射器可以是處理結構中已有的閥。閥可以打開,以使材料從中輸送通過,并且可以在實施測量之前關閉,以檢測是否留下任何材料殘留物。作為替代方式,可以設想,附加反射器可以應用于已有的處理結構,例如,如果希望獲取更大或更小的子空間,以便于定位諸如材料殘留物等形式的侵入物或其它內部幾何變化。
此外,使用反射器允許單一的單元或少量的發射器和接收器被用于在處理結構中進行測量。舉例來說,如果位于處理結構一端的單元被同時用作發射器和接收器,則反射器可以以一定次序啟動以在不同的子空間中實施反射模式的測量。因此,信號可以朝向至少部分地反射信號的第一反射器發射,并且將接收到的反射信號與基準進行比較。然后,該反射器打開或停用,而更遠離或接近發射器/接收器單元的另一反射器被啟動,然后實施新的測量等。通過這種方式,通過檢測哪一次測量指示可能存在材料殘留物,哪一次測量沒有指示存在,可以發現諸如材料殘留物等的大致位置。
此外,采用管件形式的第一處理結構可以被用于將電磁能量耦合到第二處理結構例如更大的處理容器中。其優點在于,已經存在于第一處理結構上的探頭可以被用于獲得有關第二處理結構內狀態的信息。因此,第一處理結構本身可以被當作發射器和/或接收器天線。
應當指出,盡管本說明書關注在一種位于生產線中的處理結構上實施的測量,但本發明的方法可被用于若干其它處理結構。因此,可以有一對或一個陣列的發射器和接收器布置在例如制粒容器上,另一對或一個陣列布置在干燥容器上,又一對或一個陣列布置在連接所述兩個容器的管件上。作為替代方式,可以有這樣的一對,其中一個發射器位于第一處理結構中,一個接收器位于第二處理結構中。每個處理結構上的接收器,以及適宜地還有發射器,可以操作性地連接著單一的共用分析單元,例如計算機或微處理器。作為替代方式,每個處理結構可以具有其自己的指定分析單元。
因此,從上面的描述應當清楚的是,本發明預期可以使用安置在不同位置或同一位置(例如作為一個單元)的發射器和接收器。本發明還預期可以使用單一或多個發射器和接收器,一種可能是將它們沿著制造系統布置成列。
為了實施本發明的至少一個實施例,所述一或多個發射器和接收器可以被布置在處理結構之外。在這種情況下,處理結構可以被適當地設有窗口或一些其它壁部,其至少部分地透過所發射的信號,從而使得所發射的信號能夠進入處理結構,并且使得所傳播的信號能夠離開處理結構,以便通過所述一或多個接收器進行檢測。作為替代方式,一部分的壁是可打開的,以使得一或多個發射器和/或接收器可以隨著探頭進入處理結構而被引入。探頭可以適宜地自動引入,例如在藥物材料已從處理結構排出之后。
前面描述了將處理結構用作波導體以實施本發明。處理結構可以是例如處理系統中已有的部件。然而,還可以設想,可以通過其它途徑實現這一點,即波導體被組合到處理系統中,當然在一些情況下波導體可以從其它供應商獲得,而非系統的其它部件的供應商。在組合后,波導體可以被用作處理結構,用于接收、容納、輸送和/或處理藥物材料。這種實施方式包含在本發明第三方面中。
因此,根據本發明的第三方面,提供了一種用于諸如藥物處理等處理過程中的方法。所述方法包括提供波導體,其被構造和設置尺寸以便引導電磁波例如微波的傳播;向所述波導體中供應材料;在所述波導體中處理材料或通過波導體輸送材料;從所述波導體排出材料;發射至少一種電磁波形式的信號,其將在所述波導體中傳播;接收如此傳播的電磁波;利用與接收到的電磁波有關的至少一個參數判斷波導體中是否有任何殘留材料或波導體中是否有任何幾何變化。
對應于根據本發明第三方面的所述方法,提供了一種根據本發明第四方面的處理裝置,例如藥物處理裝置。所述裝置包括波導體,其被構造和設置尺寸以便引導電磁波例如微波的傳播,其中波導體包括入口,用于將材料引入波導體中,以及出口,優選與所述入口分開,用于從波導體排出材料。盡管入口一般與從出口分開,但也可以設想,同一端口被同時用作入口和出口。所述裝置還包括至少一個發射器,用于發射至少一種電磁波形式的信號,其將在所述波導體中傳播,以及至少一個接收器,用于接收如此傳播的電磁波,所述裝置還包括分析單元,例如計算機或微處理器,其操作性地連接著接收器,用于確定與接收到的電磁波有關的參數。分析單元可以向工作人員提供視頻或音頻信息,從而作出決定,是否要在處理結構中采取任何行為,例如維修處理結構或清理處理結構中的材料,或者相反,添加更多材料,如后文所述。一些行為可以自動進行,而不需要通知工作人員,例如,如果在一個批量已被移除并且沒有材料殘留物被檢測到時,由分析單元控制的閥可以打開,以允許新的批量進入處理結構。
可以理解,本發明的第三和第四方面可包含前面結合本發明的第一和第二方面所描述的任何實施例或任何特征,只要這些實施例或特征與使用波導體的所述第三和第四方面相容即可。
可以理解,波導體控制電磁波的傳播,從而所述波被強制隨從于由波導體的物理結構限定的路徑。具有給定尺寸的波導體將不會傳播低于一定頻率(截斷頻率)的電磁波。本發明的至少一些方面和實施例將處理結構用作引導裝置,以沿著處理結構引導電磁波。
前面描述的本發明各方面和它們的不同實施例主要被描述為有關在從處理結構排出材料之后檢測材料殘留物,例如藥物材料殘留物,或者檢測其它內部幾何變化,例如處理結構的受損、松開或斷開部分。然而,內部幾何變化還可以是從一個時間至另一時間的材料量變化。舉例來說,在檢測材料殘留物時,在任何材料被引入處理結構之前,材料量為零。在材料預期被排出之后,任何殘留量將是非零量。在另一情況下,可能希望向處理結構中充填材料直至預定的級別,即預定量。在充填了一些之后,測量可以指示該級別尚未達到,即測出的量不等于預定量。因此,可以通過分析單元實施繼續充填,適宜地自動進行,該分析單元可以操作性地連接著材料供應源,以控制添加更多的材料。接下來進行新的測量,以檢測是否有內部幾何變化,即理想的預定量是否達到。因此,對這種類型的內部幾何變化進行檢測,不但涉及結構變化,還涉及含量或容納量的變化,也包含在前面描述的本發明方面中。此外,所有上述類型的檢測都包含在本發明的第五方面中。
根據本發明的第五方面,提供了用于諸如藥物處理等處理過程中的方法。所述方法包括提供處理結構,例如容器、管件或者它們的組合,例如一或多個容器和/或管件的組合,其適于接收材料(例如藥物材料)。處理結構被用作波導體,即發射至少一種電磁波形式的至少一個信號,其將沿著處理結構傳播并被處理結構引導。如此傳播的電磁波被接收,其中接收到的電磁波的至少一個參數值被與有關處理結構內部基準狀態的基準值相比較。基于對所述值的比較,可以判斷處理結構內部的當前狀態是否不同于所述基準狀態。
應當指出,術語″當前狀態″需要被解讀為所傳播的信號被接收和測量的時間點的狀態。因此,它不應局限于恰好在評估或解釋信號的時刻處理結構的狀態,該時刻可以位于較晚的階段中。
如前所述,可能希望檢測處理結構內的材料量變化。因此,根據本發明的至少一個實施例,基準狀態和當前狀態可以與處理結構中的材料容量相關,其中處理結構在基準狀態容納第一量的材料,在當前狀態容納第二量的材料。因此,所述至少一個實施例包括判斷所述第二量是否不同于所述第一量。
如前所述,第一量可以是零(空的處理結構)或非零量,同樣,第二量可以是零或非零量(在非零情況下,假定任何材料性質變化是可忽略的)。如果基準狀態為預定非零量的材料存在于處理結構中的狀態,則工作人員可以測量當前狀態,例如以確保實際量保持低于預定量,或者確保其達到預定量,或者確保其超過預定量。這一點可以這樣實現,即除了理想基準狀態以外,還使用若干附加預定基準狀態。附加基準狀態表示與理想基準狀態相比存在更高或更低級別的材料。因此,根據本發明的至少一個實施例,所述方法還包括基于對第二量是否不同于第一量的判斷而改變處理結構內的材料量,例如通過添加或排出。這可以通過反饋或控制系統而適宜地自動實現。
應當指出,除了已經描述的以外,本發明的第五方面包含前面結合本發明的各個方面描述的任何實施例或任何特征,只要這些實施例或特征與將處理結構用作波導體的方式相容即可。
此外,根據本發明的第六方面,提出了將已有的處理結構用作波導體的見解,其中提供了將處理容器(例如藥物處理容器)或與這種容器相連的管件用作波導體,以檢測材料的存在(例如藥物材料)。類似地,根據本發明的第七方面,提供了處理容器(例如藥物處理容器)或與這種容器相連的管件的用途,即用作波導體以檢測其中的材料量(例如藥物材料)隨時間的變化。因此,通過將處理結構用作波導體,可以在第一時間點進行測量,適宜地根據前面描述的方法,以及在第二時間點進行另一測量,比較兩次的響應,以便判斷所述量是否在兩次測量之間發生變化。
將處理結構(例如管件或容器)用作微波引導裝置的附加措施是通過采用諧振操作模式實現的。微波諧振器可以由發射線路的一段限定,其聯帶著阻抗不連續性(阻抗過渡邊界)。在管件結構的情況下,所述不連續性可以形成于管件兩端。它們可以是從波導體結構至空氣的開路過渡(例如打開閥),或是通過金屬板關閉波導體結構的短路過渡(例如關閉閥)。在容器結構的情況下,整個結構本身也可以被當作中空諧振器。諧振器內的場通過耦合發射器/接收器系統而被激勵,類似前面或后面討論的情況。如果激勵的場與阻抗過渡邊界處反射的場同相,諧振就會發生。諧振的條件基于下面因素而變化不連續性的類型(空氣,金屬等),所述諧振結構的類型(波導體,同軸纜線等),其尺寸以及所用頻率;但一般而言,對于所傳播的能量的有效波長,輸入和反射的能量之間的相位差應當為n×2π(n為整數)。與諧振相關的參數有諧振頻率和/或Q因子(儲存在諧振器中的能量與一個周期中耗散的能量之比)。根據本發明的應用,用于出現諧振的頻率可被調節。測量諧振頻率和/或Q因子相對于初始建立的基準狀態的變化可被用于指示存在材料殘留物或其它性質的變化。例如,在確定出材料殘留物的情況下,到達諧振頻率和/或Q因子的預定基準值將代表預定的狀態(空的結構)已經達到。類似地,當基準狀態為存在一定量的材料時,到達預定的諧振頻率/Q因子將表示其被實現。使用諧振操作模式的一個優點在于,可以通過使用單一的發射器/接收單元實施。另一優點在于,具有對測量結構中的環境變化的高靈敏性。然而,如有必要,使用若干單元也是可行的選擇。
除了能夠在處理結構中實施了某一處理過程后檢測諸如材料殘留物以外,本發明也可以被用于連續監視該處理過程。因此,根據本發明的第八方面,提供了一種監視方法,用于監視將一定量的材料輸送通過處理結構(例如藥物處理結構)的過程,所述處理結構可以是例如容器、管件或者它們的組合,例如一或多個管件和/或容器之間的組合。這種監視輸送一定量的材料的方法包括通過下述方式將處理結構用作波導體,即重復或連續地發射電磁波形式的信號,其將沿著處理結構傳播并被處理結構引導;接收如此傳播的電磁波;將接收到的電磁波的至少一個參數值與基準值作比較,所述基準值代表在所述一定量的材料被引入處理結構之前處理結構內部的基準狀態。當所述一定量的材料被引入處理結構后,所述參數值將變得不同于所述基準值,當所述一定量的材料已經輸送通過并排出處理結構后,所述參數值將返回到基本上與所述基準值一致。
因此,通過提示監視中的響應如何變化,可以看出材料已被或正被添加到處理結構,以及材料已被或正被從處理結構排出。盡管實際中可以將空的處理結構用作基準級別,但部分充填的處理結構也可以被采用。后一情況可被用于例如監視是否有基本上均勻量的材料流動通過處理結構,其中響應的變化表示材料的流量是否增加或減小。
應當指出,除了已經描述的以外,本發明的第八方面包含前面結合本發明的各個方面描述的任何實施例或任何特征,只要這些實施例或特征與將處理結構用作波導體的方式相容即可。
下面將參照附圖描述本發明的一些非限定性實施例。


圖1a和圖1b示意性地示出了本發明的至少一個實施例的基本原理,其中示出了不同的介電常數如何影響流經處理結構或波導體的電磁能。
圖2示意性地示出了藥物處理系統的各個部件,其中至少采用了本發明的一個實施例。
圖3示意性地示出了處理結構,其中至少采用了本發明的另一實施例。
圖4示出了另一處理結構,其中至少采用了本發明的又一實施例。
具體實施例方式
圖1a和圖1b示意性地示出了本發明的至少一個實施例的基本原理,其中示出了不同的介電常數如何影響流經處理結構(管件)或波導體10的電磁能。波導體10在這些圖中具有矩形輪廓,然而,相應的原理也可以用于其它輪廓。
波導體10在圖1a顯示為是空的,即波導體10內唯一的電介質是空氣。電磁能量,例如微波能量,通過波導體的輸入端12被傳遞到波導體10中。假定電磁能量具有在輸入端12的理想耦合,并且具有單一的傳播模式。流經波導體10的電磁能的分布表示為不同的陰影,其灰度級代表能量強度,其中白色表示高強度,黑色表示低強度或零強度。從圖1a可以看出,所傳播的電磁波在到達波導體另一端14時沒有損失任何能量,這一點可以從該圖中的相同能量強度看出。能量流分布經過波導體10幾乎恒定。
圖1b所示的波導體10容納著少量的藥物材料16,例如粉末,其介電常數不同于空氣的介電常數。藥物材料16的位置靠近波導體10的輸入端,如波導體10中的側面輪廓線所示。由于藥物材料16的介電常數的原因,通過輸入端傳輸的電磁波受到的影響不同于只有空氣存在于波導體10中的情況。如顯示于圖1b,隨著電磁波傳播通過藥物材料16,發生顯著的能量損失(顯示為亮陰影沿著藥物材料16快速變化為暗陰影),流經圖1a和圖1b中的波導體的電磁能具有明顯的差異。這種在輸出端14或沿著波導體的任何位置可檢測的差異可以被用于檢測材料殘留物的存在。
此外,可以理解,這種可檢測的差異的原理還可以被用于例如確定存在于處理結構例如容器中的材料量。傳播的電磁能量的衰減可以被認為基本上與其傳播通過的材料量成正比。因此,假定處理結構,例如制粒容器等容器,將被充填一定量的材料,其中所述量預期衰減傳播通過材料的電磁能量功率(強度)的50%(在此,為了簡化,場分布效應被忽略)。在將材料初始供應到處理結構中后,如果檢測到傳播通過材料的電磁能量的功率高于所傳送的功率的50%,則可能推斷所述一定量的材料尚未達到。因此,從上面的描述應當清楚的是,盡管圖1a和圖1b顯示的波導體10或處理結構為管件的形式,上述原理還適用于其它處理結構,例如容器或其各部分。
此外,聲波或受空氣和其它材料影響不同的任何其它信號可以被用于檢測材料殘留物的存在或材料量。
此外,處理結構的任何損傷或斷開部分也可以導致同無損處理結構相比電磁能量功率的不同衰減。在這一點可以理解,本發明也可以被用于檢測兩個處理結構是否至少部分地斷開。
圖2示意性地示出了藥物處理系統20的各個部件,其中本發明的至少一個實施例被采用。藥物處理系統20的一個示出的部件為制粒容器22,在其中活性成分與充填劑和結合劑例如水混合。另一部件為干燥容器24,在其中混合的藥物材料被干燥以獲得理想的低含水量。采用管件26形式的連接件允許在制粒容器22中混合的材料被傳送到干燥容器24。制粒容器22具有一或多個入口(未示出),用于接收將被混合的材料,以及出口28,混合的材料可從該出口進入管件26。類似地,干燥容器24具有入口30,其連接著管件26,用于接收混合的材料,以及一或多個出口(未示出),用于輸出充分干燥的材料,以便進一步處理。制粒容器22的出口28安置在比干燥容器24的入口30沿豎直方向更高的位置,從而允許重力作用在混合的材料上,以便將其輸送通過傾斜的管件26,當然,其它用于促進輸送通過管件的結構也可以采用。
兩個傳感器或探頭32、34設置在管件26上,它們在本實施例中包括天線,用于發射和/或接收電磁射線,適宜地采用微波的形式。然而,在其它實施例中,它們可以是聲學探頭。天線32、34可以穿過管件26的壁,或是被布置成在管件26外側通過可至少部分地透過電磁射線的窗口發射和接收電磁射線。
第一閥36設置在制粒容器22的出口28,第二閥38設置在干燥容器24的入口30。閥36、3 8的一個功能是控制材料流動。舉例來說,在材料在制粒容器22被混合至理想程度之前,至少第一閥36關閉以便防止材料離開制粒容器22。閥36、38的另一功能是限定一個空間以便于電磁射線測量,以及用作反射器以反射傳播的電磁波。將閥用作反射器允許單一的單元被同時用作發射器和接收器。此外,如果系統被適宜地調節,并且存在干擾(例如材料殘留物),則信號將被衰減更多,因為它將經過干擾兩次或更多次,因此將存在與基準信號之間的更大的可檢測差異。此外,諧振模式可被采用,如前面所描述。
此外,根據本發明的至少一個實施例,分析單元40至少連接著一個所述天線32、34,該天線接收所傳播的電磁波。參數值,例如幅值或相位被與該參數的基準值相比較,以便判斷管件26的狀態,例如在材料被允許從管件26流入干燥容器24后是否有任何材料殘留物。然而,如顯示于圖2,分析單元40也可以操作性地連接著其它組成部件,即另一天線和閥36、38,并且在后文中被統稱作分析和控制單元40。分析和控制單元40在這里顯示為具有電線42,用于連接不同的組成部件。然而,分析和控制單元40也可以通過其它措施操作性地連接著所述組成部件,例如聲頻控制或將微波一直傳導至分析和控制單元40的同軸纜線。
在至少一個操作模式中,充分混合的材料從制粒容器22通過管件26進入干燥容器24。之后,指令信號可以從分析和控制單元40發出以關閉閥36、38,或者閥36、38可以手工關閉。接下來,分析和控制單元40啟動一個所述天線32、34以發射一或多種電磁波形式的電磁射線,其在管件26內傳播并且被另一天線接收。分析和控制單元40將分析接收到的電磁波的內容,例如通過將所述波的幅值與響應于空的管件26的預期幅值作比較。如果存在差異,該差異代表藥物材料殘留在管件26中,或者管件26受損或斷開,則分析和控制單元40將提醒工作人員,以采取適宜的措施(例如清理或維修)。然而,分析和控制單元40做出的判斷表示管件足夠清潔,則分析和控制單元40可以在材料在制粒容器22中令人滿意地混合后打開閥36、38。
應當指出,在發射電磁射線時,圖2中的閥36、38不是必然要被關閉。測量結果可能仍提供出令人滿意的可區分的信息。因此,在電磁波在管件內傳播時,兩個閥36、38可以打開,或者一個所述閥可以打開,另一個被關閉。
還應指出,所述兩個天線32、34中的任何一個可以用作接收和/或發射天線。因此,不是必須使其中一個發射而另一個接收。一種很好的可行方式是,使用一個天線,例如天線32,該天線既發射又接收電磁波。作為替代方式,兩個天線32、34都可以同時發射和接收電磁波。另一替代方式是,一個所述天線,例如天線32,用作發射和接收天線,另一天線34只用作發射天線或只用作接收天線。天線32、34的位置的選擇可以基于普通的電磁學方面的原因,以避免結構性干擾。為了利用閥或類似反射器的反射功能的優點,已經發現,例如適宜將天線安置在距閥nλ/4的距離處,其中n為正奇數(n=1,3,5,...)。所使用的一或多個頻率可以基于管件26的幾何形狀選擇。
還應指出,盡管圖2僅示出了兩個天線32、34,但其它數量的天線可被提供。舉例來說,可提供以反射模式工作的單一的天線(適宜地關閉的閥),或者可提供多于兩個天線,例如若干組或陣列。
圖3示意性地示出了一種處理結構,其中至少本發明的另一實施例被采用。處理結構的形式為長管件50或由連接在一起的若干管件構成的系統。如果若干管件被連接在一起,它們可以包括連接著小直徑管件的大直徑管件,或者管件可以具有相等的直徑。管件50可以是一些類型的連接管件,類似圖2中所示的,或者藥物處理系統中的其它類型的供應或排放管件。盡管沒有分析或控制單元顯示在圖3中,這樣的單元可以被適當地設置。
由于盤繞的管件50的長度原因,若干天線可被提供。在所示的實施例中設有四個天線52、54、56、58。天線可以以任何組合方式用作發射器和/或接收器。還設有位于管件50一端的第一閥60,位于管件50另一端的第二閥62,以及設于管件50中途的第三閥64。可被打開和關閉的閥60、62、64在它們的關閉位置用作反射器,其中入射電磁波將至少部分地被關閉的閥反射(允許一些投射)。在閥60、62、64全部關閉、全部打開、或者一個或兩個打開的狀態下,可以實施測量。
通過在不同的天線52、54、56、58實施組合的測量,可以估測可能殘留藥物材料或發生損傷的位置。通過關閉第三閥64,可以判斷在閥64的哪一側存在殘留材料。還可以僅將一個所述天線,例如天線52,用作發射器和接收器,而所示的閥60、62、64或多個閥依次關閉,從而可在管件50的若干子空間實施測量,以便發現殘留材料形式的侵入或管件50的其它幾何變化例如受損壁部的大概位置。本領域技術人員可以認識到,為了發現任何殘留材料大概位置,使用天線52、54、56、58和閥60、62、64的若干其它途徑或改型可以采用。另外,可以理解,將容器而非管件部分安置在例如閥62和64之間,同樣可以實施前面描述的各種組合測量。因此,例如天線52可以被用作容器上的發射器和天線(對應于56或58),而閥64可以被用作接收器。
圖4示出了另一處理結構70,其中至少本發明的又一實施例被采用。處理結構70限定了容納空間。下面描述的所執行的測量可以應用于任何類型的藥物制造容器,但圖中顯示為在制粒容器70中進行測量。容器70的壁上設有兩個由探頭構成的天線72、74,然而,它們可以是其它數量的。一個所述天線,例如天線72,可以是發射器,另一天線74可以是接收器,或者作為替代方式,一個或兩個所述天線72、74可以同時用作發射器和接收器。基于電磁原理,可以選擇頻率和天線位置。
圖4還示出了兩個供應源76、78,不同的藥物材料可以從它們通過相應的供應管線80、82供應至制造容器。分析和控制單元84通過例如電線86或聲頻控制而操作性地連接著所述供應源76、78和天線72、74。基于包含在接收到的一或多種電磁波中的信息,分析和控制單元84可以控制供應源,以將更多的材料進給到容器70,直至接收到的電磁波與一或多個相應的基準值相比具有適宜的一或多個參數值。分析和控制單元84還可以被用于操作模式,以檢測在材料由容器排出之后是否有任何材料留在容器70中。
應當指出,圖2、圖3和圖4中所示的配置可被用于任何彼此之間的組合或與其它配置相組合。舉例來說,在圖2中所示系統部件的配置中,制粒容器22也可以設有圖4所示的探頭72、74,其中這些探頭可以操作性地連接著專門地分析和控制單元84,或者連接著在圖2中探頭32、34所連接的同一單元40。此外,圖2中的干燥容器24也可以裝配有探頭,以便能夠在排放之后檢測任何殘留藥物材料,檢測是否達到了充填級別,或者檢測是否有任何損傷出現在干燥容器24上,等等。因此,探頭可同時存在于制造容器以及這種容器上的管件上。此外,本發明可以實施于除圖中所示之外的其它類型的藥物處理裝置。還可以理解,本發明可以實施于不同類型的藥物處理。舉例來說,本發明可以實施于批量處理和/或連續處理。
權利要求
1.一種用于諸如藥物處理等處理過程中的方法,包括-向處理結構中供應材料,所述處理結構為例如容器、管件或者一或多個容器和/或管件的組合;-從所述處理結構排出材料;-發射至少一個信號,所述信號將在所述處理結構中傳播;-接收如此傳播的信號;-將接收到的信號的至少一個參數值與基準值作比較;以及-基于對所述值的比較來判斷處理結構中是否有任何殘留材料或者處理結構中是否有任何幾何變化。
2.如權利要求1所述的方法,包括-將所述處理結構用作波導體,其中發射信號的步驟包括發射至少一種電磁波,所述電磁波將在所述處理結構中傳播,并且接收信號的步驟包括接收如此傳播的電磁波;其中,將接收到的信號的至少一個參數值作比較的步驟包括將與接收到的電磁波有關的至少一個參數值與基準值作比較。
3.一種用于諸如藥物處理等處理過程中的方法,包括-提供波導體,其被構造和設置尺寸以便引導電磁波例如微波的傳播;-向所述波導體中供應材料;-在所述波導體中處理材料或通過波導體輸送材料;-從所述波導體排出材料;-發射至少一種電磁波形式的信號,其將在所述波導體中傳播;-接收如此傳播的電磁波;以及-利用與接收到的電磁波有關的至少一個參數判斷波導體中是否有任何殘留材料或波導體中是否有任何幾何變化。
4.一種用于諸如藥物處理等處理過程中的方法,包括-提供處理結構,所述處理結構為例如容器、管件或者一或多個容器和/或管件的組合,并且適于接收材料;-通過下述方式將處理結構用作波導體-即發射至少一種電磁波形式的至少一個信號,其將沿著處理結構傳播并被處理結構引導;-接收如此傳播的電磁波;-將接收到的電磁波的至少一個參數值與有關處理結構內部基準狀態的基準值作比較;以及-基于對所述值的比較來判斷處理結構內部的當前狀態是否不同于所述基準狀態。
5.一種監視方法,用于監視將一定量的材料輸送通過處理結構例如藥物處理結構的過程,所述處理結構為例如容器、管件或者一或多個容器和/或管件的組合,所述方法包括-通過下述方式將處理結構用作波導體-即重復或連續地發射電磁波形式的信號,其將沿著處理結構傳播并被處理結構引導;-接收如此傳播的電磁波;-將接收到的電磁波的至少一個參數值與基準值作比較,所述基準值代表在所述一定量的材料被引入處理結構之前處理結構內部的基準狀態;其中,在所述一定量的材料引入處理結構時,所述參數值將變得不同于所述基準值,當所述一定量的材料已經輸送通過并排出處理結構后,所述參數值將返回到基本上與所述基準值一致。
6.如權利要求2-5中任一所述的方法,其特征在于,所述電磁波的頻率在100MHz-3THz的范圍內,優選采用頻率在300MHz-300GHz范圍內的微波的形式。
7.如權利要求2-6中任一所述的方法,其特征在于,所接收到的電磁波為反射波,所述反射波在與電磁波的發射位置基本上相同的位置被接收,其中所述發射和接收優選由單一的天線實施。
8.如權利要求2-7中任一所述的方法,其特征在于,第一天線被用于發射電磁波,第二天線被用于接收所傳播的電磁波。
9.如權利要求2-8中任一所述的方法,包括通過至少兩個天線在兩個或更多個位置接收所述至少一種電磁波。
10.如權利要求2-9中任一所述的方法,包括通過至少兩個天線從兩個或更多個位置發射電磁波。
11.如權利要求2-10中任一所述的方法,包括從設置在公共模塊上的一個陣列的發射器和/或接收器發射和/或接收至少一種電磁波。
12.如權利要求1所述的方法,其特征在于,發射信號的步驟包括發射至少一個聲波,所述信號將在所述處理結構中傳播,并且,接收信號的步驟包括接收如此傳播的聲波;其中,將接收到的信號的至少一個參數值作比較的步驟包括將有關接收到的聲波的至少一個參數值與所述基準值作比較。
13.如權利要求1-12中任一所述的方法,還包括至少部分地基于所述至少一個參數或參數值來控制所述過程,其中控制行為至少包括停止所述過程或繼續所述過程的行為。
14.如權利要求1-13中任一所述的方法,其特征在于,至少發射、接收和判斷被連續實施,以監視過程的進程。
15.如權利要求1-14中任一所述的方法,包括通過下述方式確定基準值在已知量例如零或非零量的材料存在于處理結構中時,發射至少一個信號,所述信號將在所述處理結構中傳播,接收如此傳播的信號,以及確定有關接收到的信號的至少一個參數的值。
16.如權利要求1-15中任一所述的方法,其特征在于,所述至少一個參數為選自下面一組中的任何一個所接收到的信號的幅值、相位、功率以及頻率。
17.如權利要求1-16中任一所述的方法,包括在所發射的信號的傳播路徑中使用至少一個反射器,以便至少部分地阻止所發射的信號的傳播并且至少部分地反射所發射的信號。
18.如權利要求4所述的方法,其特征在于,所述狀態與處理結構中的材料容量相關,其中處理結構在基準狀態容納第一量的材料,在當前狀態容納第二量的材料;其中所述方法包括基于對所述值的比較來判斷所述第二量是否不同于所述第一量。
19.如權利要求18所述的方法,其特征在于,所述第一量基本上為零,其中所述方法包括判斷是否有任何材料存在于處理結構中,例如在材料被供應到處理結構中并且隨后被至少部分地排出后。
20.如權利要求18所述的方法,其特征在于,所述第一量為非零量的材料,其中所述方法包括確定是否達到了一定的充填級別。
21.如權利要求18-20中任一所述的方法,還包括基于對第二量是否不同于第一量的判斷來改變處理結構內的材料量,例如通過添加或排出實現改變。
22.如權利要求4所述的方法,其特征在于,所述狀態與處理結構的內部幾何形狀有關,其中,處理結構在第一時間點具有基準狀態下的第一內部幾何形狀,在第二時間點具有當前狀態下的第二內部幾何形狀,其中所述方法包括基于對所述值的比較來判斷在所述第一和第二時間點之間處理結構內部是否發生幾何變化,例如處理結構出現受損或斷開部分。
23.如權利要求1-22中任一所述的方法,包括調節將被發射的信號的頻率,以在處理結構中發生諧振,其中測量是在諧振操作模式下實施的。
24.如權利要求1-23中任一所述的方法,其特征在于,所述材料為一或多種藥物材料。
25.一種處理裝置,例如藥物處理裝置,包括-處理結構,例如容器、管件或者一或多個容器和/或管件的組合,用于在所述處理結構中處理或容納材料或將材料輸送通過所述處理結構;-至少一個發射器,用于發射至少一個信號,所述信號將在所述處理結構中傳播;-至少一個接收器,用于接收如此傳播的信號;以及-分析單元,例如計算機或微處理器,其操作性地連接著接收器,用于確定有關接收到的信號的參數。
26.如權利要求25所述的處理裝置,其特征在于,所述至少一個發射器包括至少一個天線,用于發射至少一種電磁波形式的所述至少一個信號,所述電磁波將在所述處理結構中傳播,所述至少一個接收器包括至少一個天線,用于接收如此傳播的電磁波,所述分析單元操作性地連接著接收器,用于確定與接收到的電磁波有關的參數。
27.一種處理裝置,例如藥物處理裝置,包括-波導體,其被構造和設置尺寸以便引導電磁波例如微波的傳播,波導體包括入口,其用于將材料引入波導體中,以及出口,其優選與所述入口分開,用于從波導體排出材料;-至少一個發射器,用于發射至少一種電磁波形式的信號,其將在所述波導體中傳播;-至少一個接收器,用于接收如此傳播的電磁波;以及-分析單元,例如計算機或微處理器,其操作性地連接著接收器,用于確定與接收到的電磁波有關的參數。
28.如權利要求25所述的處理裝置,其特征在于,所述至少一個發射器被布置成發射至少一個聲波形式的所述至少一個信號,所述信號將在所述處理結構中傳播,所述至少一個接收器被布置成接收如此傳播的聲波,所述分析單元操作性地連接著接收器,用于確定有關接收到的聲波的參數。
29.如權利要求25-28中任一所述的處理裝置,其特征在于,所述至少一個發射器和接收器被提供為單一的單元。
30.如權利要求25-28中任一所述的處理裝置,其特征在于,所述至少一個發射器和接收器被提供為彼此分開的單元。
31.如權利要求25-30中任一所述的處理裝置,包括設置在公共模塊上的一個陣列的接收器和/或發射器。
32.如權利要求25-31中任一所述的處理裝置,包括至少一個反射器,其可被定位在所發射的信號的傳播路徑中,以便至少部分地阻止所發射的信號的傳播并且至少部分地反射所發射的信號。
33.如權利要求25-32中任一所述的處理裝置,其特征在于,所述材料為一或多種藥物材料。
34.一種處理容器或與這種容器相連的管件的用途,其被用作波導體,以檢測材料的存在。
35.一種處理容器或與這種容器相連的管件的用途,其被用作波導體,以檢測其中的材料量隨時間的變化。
36.如權利要求34或35所述的用途,包括實施根據權利要求1-24中任一所述的方法中所限定的各種行為。
37.如權利要求34或35所述的用途,其特征在于,所述處理容器或管件構成根據權利要求25-33中任一所述的處理裝置中的部件。
38.如權利要求34-37中任一所述的用途,其特征在于,所述處理容器為藥物處理容器,所述材料為藥物材料。
全文摘要
本發明提供了一種用于諸如藥物處理等處理過程的裝置和方法。至少一個信號在適于接收材料的處理結構中被傳播。所傳播的信號被接收,并且其參數值被與基準值相比較。基于所述比較,判斷處理結構中是否存在所述材料或任何其它幾何變化。信號的形式可以是電磁波,例如微波。另外,本發明還提供了處理容器或與這種容器相連的管件的用途。
文檔編號A61J1/22GK101087664SQ200580044477
公開日2007年12月12日 申請日期2005年12月20日 優先權日2004年12月22日
發明者S·福萊斯塔德, L·格勒迪納爾斯凱 申請人:阿斯利康公司
網友詢問留言 已有0條留言
  • 還沒有人留言評論。精彩留言會獲得點贊!
1
韩国伦理电影