光美容設備的制作方法

專利名稱：光美容設備的制作方法
技術領域：
本發明涉及用于利用電磁輻射(“EMR”)，尤其是具有300nm到IOOym之間的波長的輻射來處理各種皮膚病、美容、保健和免疫情況的方法和設備，并且更特別涉及在它們足夠安全的功率和能量水平下操作，以及足夠廉價以在包括水療美容院(spa)、沙龍和家庭在內的醫療和非醫療環境中運行的這樣的方法和設備。
背景技術：
多年來，光學輻射已經被用于處理各種皮膚病和其他醫療情況。目前，使用專業級別的設備來執行光美容過程。這種過程總的涉及使用激光、閃光燈或其他相對高功率的光學輻射源來將超過lOOwatt/cm2的能量傳遞到患者的皮膚表面，且總的來說，傳遞大致超過該數值的能量。這些處理所需的高功率光學輻射源(a)昂貴且裝配體積大和費用高；(b) 產生大量的熱量，如果沒有消散，其可損壞輻射源并導致其他問題，因此，需要至少對所述源使用體積大且昂貴的冷卻技術；以及(c)對患者和操作者都具有安全方面的危險，例如， 對人員的眼睛和患者皮膚的非目標區域。因此，必須頻繁地為該設備添加昂貴的安全裝置， 并且通常這種設備必須只能由醫療人員操作。患者皮膚表面的高能量還引起安全方面的顧慮，并可能限制可接收處理的患者類型；例如，其可能經常不能處理皮膚非常黑的人。由于需要冷卻處理區域以外和/或其它鄰接的組織以保護這種非目標組織，高能量可能進一步增加處理設備的成本。迄今為止，用于執行光學皮膚病過程的設備的高成本總的在數萬美元，并且這種過程由醫療人員執行的要求意味著這種處理通常不是經常的，且僅有有限數量的相對富裕的患者可以獲得。然而，各種情況，其中有些非常普通，也可使用光美容過程(也稱為光美容處理) 來處理。例如，這種處理包括，但不限于，毛發生長管理，包括在不期望的區域中限制或消除毛發生長和在所期望的區域刺激毛發生長，對PFB(偽小囊刺(Pseudo Follicolitus Barbe)、血管損傷、皮膚再生的處理，包括改善皮膚肌理、毛孔徑尺寸、彈性、皺紋和皮膚緊致的皮膚抗衰老，改善的血管和淋巴系統，改善的皮膚濕潤度，移除著色的損傷，重新著色， 紋身減小/移除，牛皮癬、減小體臭，減輕油性，減少出汗，減輕/移除疤痕，預防和阻止包括皮膚癌的皮膚疾病，改善皮下區域，包括減少脂肪/脂肪團或減少脂肪/脂肪團的出現，緩解疼痛，對肌肉、關節等的生物刺激，以及許多其他情況。此外，痤瘡也是可以使用光美容過程處理的情況之一。痤瘡是皮脂腺的大范圍失調。皮脂腺是小的產油腺體。皮脂腺通常為皮脂毛囊(其為毛囊的一種)的一部分，其還包括(但不限于)皮脂導管(sebaceousduct)和毛發溝道(pilary canal) 0毛囊可包含有萎縮的毛發(這種毛囊最可能為發生痤瘡的毛囊)、毫毛(這種毛囊為較小可能出現痤瘡的毛囊)、或可能包含正常毛發(正常情況下痤瘡不會出現在這種毛囊中)。毛囊的失調有很多，且包括尋常痤瘡，其為最常見的皮膚煩惱。痤瘡的發展通常從形成非發炎的痤瘡(黑頭粉刺)開始，其發生于當腺體到皮膚表面的出路被堵塞時，使得皮脂在腺體、皮脂導管和毛發溝道內堆積。盡管痤瘡的準確發病機理仍存在爭議，可以肯定的是黑頭粉刺的形成涉及漏斗下部(infrainfimdibulum)中角質細胞層的形成和脫落的顯著變化。特別地，黑頭粉刺的形成是脫落機制(異常細胞角質化)和漏斗下部的上皮層細胞的核分裂能力(加速的增殖)二者的缺陷的結果。主要由細菌活動導致的皮脂中甘油三酸酯的化學分解釋放出游離脂肪酸，其又引起產生典型痤瘡損傷的發炎反應。在毛囊皮脂腺單位的微生物群體中，最著名的是痤瘡丙酸菌(Propionibacterium Acnes，簡稱P. Acnes)。這些細菌是形成發炎痤瘡的病因。有各種用于痤瘡的藥。局部或系統的抗生素是處理的主流。口服異維甲酸是用于嚴重病例的非常有效的制劑。然而，多名研究人員都報告過增加的P. Acnes的抗生素抗性， 并且異維甲酸的嚴重副作用限制了其使用。因此，繼續在尋找具有最小副作用，且最好沒有副作用的有效痤瘡處理方法。為此，提出了數種利用光的技術。例如，R. Anderson披露了使用激光敏感染料對皮脂腺失調進行激光處理，該發明的方法涉及將含有發色團的合成物施加于皮膚表面的一個部分，使得足夠量的合成物滲透到皮膚內的空間中，然后將該皮膚部分暴露于(光)能量下，使得所述合成物變得光化學活化或光熱活化。N. Kollias等人披露了類似的技術，其涉及將受痤瘡折磨的對象暴露在波長在320和350nm之間的紫外光下。P. Papageorgiou, A. Katsambas, A. Chu 在 2000 年出版的 Br. J. Dermatology 第 142 期第 973-978 頁的文章 “Phototherapy with blue (415nm) and red (660nm) light in the treatment of acne vulgaris (在尋常痤瘡的處理中使用藍光(波長415nm)和紅光 (660nm)的光照療法)”(其通過引用而被包含在此處)中報道了將藍光(波長415nm)和紅光(660nm)用于痤瘡的光照療法。在E.Mendes，G. I ron，A. Harel的名稱為“Method oftreating acne (處理痤瘡的方法)，，的美國專利5，549, 660中還披露了一種使用至少一個工作于連續波(cont inuous-wave，簡稱CW)模式和660nm波長的發光二極管來處理痤瘡的方法。這種處理代表了使用內生的光敏劑的光動力學療法的變化。特別地，眾所周知 P. Acnes產生卟啉(主要是糞卟啉)，其為有效的光敏劑。當受到具有可以被光敏劑強烈吸收的波長的光照射時，該分子可引起被稱作產生單態氧的過程。該單態氧扮演對周圍分子的強氧化劑的角色。該過程最終導致細菌的破壞和條件的臨床改善。該行為的其他機制也可能在這種光處理的臨床效率中扮演一定角色。B. W. Stewart"Method of reducing sebum productionby application of pulsed light (通過應用脈沖光來減少皮脂產生的方法)”的美國專利6，235，016B1中， 教導了一種利用基本上被皮脂的脂質成分吸收的波長范圍的脈沖光來減少人皮膚中皮脂產生的方法。該行為的基本機制是對分化的和成熟的皮脂腺細胞的光熱解。盡管可應用特定的技術或過程，使用可見光特別是光譜的藍光范圍來處理痤瘡通常被認為是痤瘡處理的有效方法。痤瘡細菌產生卟啉作為其正常新陳代謝過程的一部分。通過光照射卟啉產生光敏效應，其用于例如，癌癥的光動力學療法中。卟啉的最強吸收波段稱作索瑞帶(Soretband)，其位于可見光譜的紫-藍范圍中G05-425nm)。當吸收光子后，卟啉分子經歷單態-三態轉變，并產生單態原子氧，其將損傷組織的細菌氧化。當照射痤瘡細菌時，會開始相同的光化學過程。該過程包括在細菌產生的內生卟啉內吸收光。因此，嚇啉分解，釋放出單態氧，其將細菌氧化并根除P. acnes，從而顯著減少炎性病變量。這種處理的特定臨床效果曾經被報道過(A. R. Shalita, Y. Harth，和M. Elman，“Acne Photo Clearing(APC. TM. )Using a Novel, High-Intensity, Enhanced, Narrow-Band, Blue LightSource(使用新型、高強度、增強的、窄帶、藍光源的痤瘡光清除(APC.TM.))”， Clinical Application Notes，V. 9，附)。在臨床研究中，當使用金屬鹵化物燈的光以90mW/ cm2和MJ/cm2劑量對35名患者每周處理兩次10分鐘時，得到了平均損傷量減小60%。總的處理過程持續了 4周，其中每個患者受到了八次處理。目前，由于多個原因，用于處理痤瘡和其他情況的光美容程序在皮膚科醫生的辦公室進行。這些原因有用于執行該過程的設備花費；關于設備的安全考慮；以及照顧患者皮膚上光致傷口的需要。這種傷口可由高功率輻射導致的患者上皮損傷引起，并且可能導致嚴重的疼痛和/或感染的風險。期望能夠提供方法和設備，其足夠廉價且足夠安全，使得這種處理可以由非醫療人員執行，并且甚至由受處理的人員自己控制，允許世界人民的非常擴大的一部分可獲得這種處理。

發明內容
本發明的一個方面是用于處理組織的設備，其包括具有多個部分的光源組件。每個部分有至少一個光源布置用于照射所述組織，并且至少一個組織接近傳感器布置用于指示何時所述部分處于所述組織的附近。控制器耦合至組織接近傳感器和光源，并且對每個部分，所述控制器配置為響應于所述組織接近傳感器來控制所述光源。本發明這方面的優選實施例可包括下面一些附加特征。所述控制器可配置為當所述組織接近傳感器指示所述部分位于所述組織附近時，點亮所述光源。對每個部分，當所述部分與所述組織接觸時，至少一個組織接近傳感器可配置為發出控制信號，并且當所述部分相對于所述組織移動時，所述組織接近傳感器可配置為發出控制信號。所述傳感器可為接觸傳感器或速度傳感器。所述光源可為固態光源且可包括至少兩個發光二極管。所述部分可以為鄰近的或它們可間隔一段距離。所述部分還可配置為通過多個孔口來發射輻射，一個或多個部分配置為通過一個孔口發射輻射，而其他部分配置為通過另一個孔口發射輻射。本發明的另一方面為用于處理組織的光美容設備，具有帶有第一區域和第二區域的孔口，定向為使發光通過第一區域和第二區域的光源，電連接至光源并配置為接收輸入信號和傳送輸出信號的控制器，電連接至所述控制器以便當所述第一區域位于所述組織附近時提供第一傳感器信號至所述控制器的第一傳感器，電連接至所述控制器以便當所述第二區域位于所述組織的附近時提供第二傳感器信號至所述控制器的第二傳感器，以及電連接至控制器并電連接至光源的電源。所述控制器可配置為響應于第一和第二傳感器信號而改變傳遞至光源的功率量。本發明該方面的優選實施例可包括下面一些附加特征。控制器可配置為獨立于第二區域發射的光的第二強度而改變第一區域發射的光的第一強度。所述控制器可配置為改變第一區域的光的第一強度而將第二區域的第二強度維持在基本恒定值。所述控制器可配置為從基本上為零開始改變第一區域的光的第一強度，而將第二區域的第二強度維持在基本恒定。第二強度可大致為零。當第一區域位于組織附近且所述第二區域沒有位于組織附近時，所述控制器可配置為改變第一強度。
所述電源可具有沿第一路徑電連接至控制器并電連接至第一區域的第一場效應晶體管和沿第二路徑電連接至控制器的第二場效應晶體管。控制器可配置為提供沿第一路徑的第一控制信號和沿第二路徑的第二控制信號，使得電能由第一場效應晶體管提供給第一區域，并且電能由第二場效應晶體管提供給第二區域。光源可具有包括發光二極管的第一陣列的第一部分，且還可具有包括發光二極管的第二陣列的第二部分。所述第一和第二陣列的發光二極管可安裝在基底上，并電連接以為第一陣列提供第一電連接，以及為第二陣列提供第二電連接。第一陣列中的發光二極管的子集還可包括在第二陣列中。第三傳感器可電連接至控制器，且所述孔口可包括第三區域。當第三區域位于所述組織附近時，第三傳感器可提供第三傳感器信號給控制器。本發明的另一方面為用于使用光美容設備處理組織的方法，通過接收相應于孔口的第一區域并指示第一區域是否位于組織附近的第一傳感器信號，當第一區域位于組織附近時使用來自第一區域的光照射所述組織，接收相應于孔口的第二區域并指示第二區域是否位于組織附近的第二傳感器信號，并當第二區域位于組織附近時，使用來自第二區域的光照射所述組織。本發明該方面的優選實施例可包括下面一些附加特征。當傳感器信號指示第一區域位于組織附近時，該設備可發出控制信號以點亮相應于第一區域的至少一個光源。當第一區域接觸組織時，可發出所述控制信號。當第一區域相對于組織移動時，可發出控制信號。該設備可獨立地控制從第一和第二區域發射的光的強度。第一區域的光的強度可變化， 而維持第二區域的光的強度在基本恒定的值。第一區域的光的強度可從基本為零的值變化到第二非零值，而維持第二區域的光的強度在基本恒定值。該設備可將第二區域的強度維持在基本零值。當第一部分位于組織附近時，包括當第二部分不位于組織附近時，第一區域的強度可增加。本發明的另一方面是用于控制處理組織的手持設備的方法，其包括步驟確定設備的孔口的第一部分是否位于組織附近；產生第一傳感器信號以指示孔口的第一部分接近組織；確定孔口的第二部分是否位于組織附近；產生第二傳感器信號以指示孔口的第二部分接近組織；以及響應于第一和第二傳感器信號而產生第一和第二控制信號。當第一部分位于組織附近時，第一控制信號可導致第一光源發射光穿過第一部分，且當第二部分位于組織附近時，第二控制信號可導致第二光源發射光穿過第二部分。本發明的另一方面是使用具有第一和第二孔口的設備處理組織的方法，其包括步驟接收相應于第一孔口并指示第一孔口是否位于組織附近的第一傳感器信號；當第一孔口位于組織附近時，使用來自第一孔口的光照射組織；接收相應于第二孔口并指示第二孔口是否位于組織附近的第二傳感器信號；以及當第二孔口位于組織附近時，使用來自第二孔口的光照射組織。本發明的又一方面為適于處理具有變化的輪廓的組織的手持光美容設備。該設備具有包含多個孔口的頭部，基本上位于殼體內并定向為通過多個孔口發射光的光源組件， 以及用于使得光的施加能穿過該多個孔口的一個或多個的控制器。本發明該方面的優選實施例可包括下面一些附加特征。光源可包括多個光源，其中多個光源中的至少一個通過多個孔口中的一個提供光，且多個光源的至少第二個通過多個孔口的另一個提供光。多個孔口可相對于彼此移動。殼體具有臂，其配置為相對于多個孔口的第二孔口而移動第一孔口。第一孔口可位于臂的遠端。殼體可具有可展開的本體， 配置為相對于多個孔口的第二孔口而移動第一孔口。本發明的又一方面為適于處理具有變化輪廓的組織的手持光美容設備。該設備可具有帶有包含孔口的頭部的殼體，和位于殼體內并定向為通過孔口發射光的光源，電連接至光源的電源配置為提供電能給光源。孔口可包括具有第一寬度、配置為發射光至組織的相對較大區域的寬闊部分，和具有第二、較小寬度、配置為發射光至組織的相對較小區域的狹窄部分。本發明該方面的優選實施例可包括下面一些附加特征。頭部可包括擴大的部分， 從光美容設備延伸出去，孔口的狹窄部分位于擴大的部分中，并配置為發射光到高度帶輪廓(highly contoured)的組織上。所述孔口可為非對稱的。所述孔口形狀可基本上為淚滴形或其他形狀。所述設備還可具有多個孔口。所述殼體可包括第二電磁輻射源，其定向為從殼體通過第二孔口傳遞電磁輻射至組織。第二孔口還可具有小于第一孔口的區域，并可相對于第一孔口移動。本發明的又一方面為用于使用電磁能處理痤瘡的手持設備，其具有帶有孔口的殼體，安裝在殼體內并定向為通過孔口發射輻射的輻射源，以及安裝在殼體內并與輻射源處于熱連通的散熱元件。輻射源可配置為以大約lOmW/cm2和大約lOOW/cm2之間的輻射來照射組織。本發明該方面的優選實施例可包括下面一些附加特征。所述輻射源可配置為以大約lOOmW/cm2和大約lOOW/cm2之間的輻射來照射組織。所述輻射源可配置為以大約IW/ cm2和大約lOOW/cm2之間的輻射來照射組織。所述輻射源可配置為以大約lOW/cm2和大約 100ff/cm2之間的輻射來照射組織。所述孔口可具有至少大約km2的面積。所述孔口可具有至少大約9cm2的面積。 所述孔口可具有至少大約14. 44cm2的面積。所述孔口可具有至少大約16cm2的面積。所述輻射源可配置為提供至少大約2. 5W光功率。所述輻射源可配置為提供至少大約5W光功率。所述輻射源可配置為提供至少大約10W光功率。所述手持設備可為用于消費者自行使用的設備。在配置為持于用戶手中的設備中，所述手持設備可基本上獨立，并可缺少除了持于手中的部件以外的其他大的部件。(然而，在某些實施例中，獨立的手持設備中可存在一些附加的部件，例如，電源線、在不操作時為設備重新充電或保持該設備的遠程基座單元，以及可重復使用和可重新填充的容器。所述殼體可具有包含孔口的頭部，和用戶握持的手柄部分。所述孔口可包括藍寶石窗口或塑料窗口。輻射源可為固態電磁輻射源，諸如LED輻射源。輻射源可以為激光輻射源。所述輻射源可以為半導體元件陣列。所述輻射源可為電磁輻射源。所述設備可具有第一輻射源和第二輻射源，能在不同波長范圍內產生輻射。輻射源還能夠在多個波長下運行。第一輻射源能夠獨立于第二輻射源而產生輻射。所述手持設備可具有電源，配置為在連續波模式、準連續波模式、脈沖波模式或其他功率模式中提供功率。所述傳感器可電連接至控制器，并配置為當孔口的相應部分接觸組織時提供電信號。當傳感器提供電信號時，控制器可導致輻射源被點亮。
該設備可具有多個輻射源，相應傳感器連接至控制器并配置為提供電信號以控制每個源。所述輻射源可為固態電磁輻射源陣列。所述孔口可為導熱的，允許通過孔口從輻射源轉移熱量至組織的受處理區域。該設備還可包括報警器，其電連接至控制器以提供輸出信號至報警器以提供信息給用戶。所述報警器可為可聽聲音發生器。所述報警器可為發光設備。所述報警器可配置為警告用戶處理時間已經屆滿。本發明的又一方面是用于使用電磁能處理痤瘡的手持設備，其具有帶有孔口的殼體，定向為通過所述孔口發射輻射的輻射源，電連接至輻射源的控制器，以及電連接至控制器的傳感器。控制器可配置為響應于來自傳感器的輸入信號而提供輸出信號，且輻射源可配置為使用大約lW/cm2和大約lOOW/cm2之間的輻射來照射所述組織。本發明的又一方面為用于使用輻射處理組織的手持光美容設備。該設備可具有帶有孔口的殼體，安裝于殼體內并配置為通過所述孔口傳輸輻射至組織的輻射源，以及安裝于殼體內以移除所述源產生的熱量的循環冷卻系統。所述冷卻系統可包括含有流體的貯存
ο本發明該方面的優選實施例可包括下面一些附加特征。手持光美容設備可具有耦合至孔口的窗口，且所述冷卻系統可從該窗口移除熱量。所述窗口可配置為在運行期間接觸組織。所述貯存器可包含至少50cc流體。所述貯存器可包含至少IOOcc流體。所述貯存器可包含至少200cc流體。所述貯存器可包含至少250cc流體。所述貯存器可包含至少大約ISOcc流體。所述貯存器可包含至少307cc流體。所述貯存器可含有水、包括流體和固體的混合物，或者其他流體或混合物。所述貯存器為可移除連接至所述設備的容器。所述冷卻系統可包括熱耦合至所述源的散熱元件，泵以及所述貯存器和所述散熱元件之間的流體路徑。所述泵可配置為使得流體從貯存器通過所述流體路徑流向散熱元件。所述手持光美容設備還可包括傳感器和配置為接收來自傳感器的輸入信號來控制源的控制器。傳感器可為溫度傳感器，其配置為當探測到大于等于預定閾值溫度的溫度時提供輸入信號。所述溫度傳感器可熱耦合至至少一個輻射源、貯存器，或耦合至所述孔口并配置為接觸組織的窗口。所述控制器可配置為阻止所述源產生輻射。本發明的又一方面是使用電磁輻射處理組織的手持光美容設備。該設備可包括具有開口的殼體，配置為通過所述開口發射光的輻射源，以及具有在熱收集元件和散熱元件之間延伸的流體傳導路徑的位于所述殼體內的冷卻回路。所述冷卻回路可與源處于熱連通以將熱量從源轉移至熱收集元件，和從熱收集元件轉移至散熱元件。本發明該方面的優選實施例可包括下面一些附加特征。熱收集元件可為散熱裝置，并且可為與源處于熱連通的導熱材料。散熱元件可為含有流體的貯存器。所述散熱元件可為散熱器。所述散熱元件可為配置為散熱的一組散熱片。冷卻回路可含有水或其他液體。冷卻回路可含有流體的混合物且還可包括固體顆粒。散熱元件可為可移除連接至所述設備的容器。所述冷卻回路可包括可移除連接至所述設備的容器，其含有用于通過冷卻回路循環的流體。冷卻回路為閉合回路。冷卻回路可為開路，其具有包含用于通過冷卻回路的流體的流體源。流體源可為可重新填充的容器并可移除地連接至手持光美容設備。
流體傳導路徑還可具有第一管路和泵。所述泵可與熱收集元件和散熱元件都處于流體連通。所述泵可配置為將流體從熱收集元件通過第一管路泵至散熱元件。本發明的又一方面是使用電磁輻射處理組織的手持光美容設備。該設備可包括具有光學窗口的殼體，安裝于設備內并定向為通過光學窗口向組織發射電磁輻射的電磁輻射源，安裝于設備內的泵，設備內的流體通道，以及安裝于設備內的第一和第二散熱裝置。第一散熱裝置可熱連接至第一電磁輻射源。泵可與第一和第二散熱裝置流體連通，并被配置為泵送所述流體穿過第一散熱裝置元件，通過所述通道，然后穿過第二散熱裝置，從而使熱量從源轉移到第二散熱裝置。本發明該方面的優選實施例可包括以下一些附加特征。所述源可為固態光源陣列。所述手持光美容設備還可具有耦合至殼體的傳感器，以及殼體內的控制器。所述傳感器可電連接至控制器以響應于來自傳感器的信號來控制源。所述傳感器可為溫度傳感器以在探測到設備的閾值溫度時提供輸入傳感器信號。當溫度傳感器指示設備已經達到安全運行的閾值溫度時，所述控制器可配置為終止運行。所述控制器還可電連接至電磁輻射源以響應于第一輸入信號而改變供給電磁輻射源的電能。本發明的又一方面是使用輻射處理組織的設備。該設備可具有殼體，帶有光學窗口的孔口，以及輻射源。所述輻射源可定向為通過所述光學窗口向組織發射輻射。所述光學窗口可具有外部研磨面，配置為在操作中與組織接觸。本發明該方面的優選實施例可包括以下一些附加特征。所述研磨面可具有微研磨凸起。在使用中，所述研磨面可適于向組織施加壓力。所述微研磨凸起可具有1到500微米峰到峰值之間的表面粗糙度。所述微研磨凸起可具有50到70微米峰到峰值之間的表面粗糙度。所述微研磨凸起可布置為圓形圖案。所述微研磨凸起可為藍寶石顆粒。所述微研磨凸起可為塑料顆粒。所述輻射源可配置為提供對組織具有抗炎效果的波長范圍內的輻射。所述設備可具有至少一個接觸傳感器以及與所述接觸傳感器和所述輻射源電連通的控制器。當外部表面接觸皮膚時，所述控制器可配置為使得輻射源照射組織。例如震動或轉動機構的致動設備可連接至窗口以使得外部表面相對于殼體移動。所述光學窗口可從所述孔口移除。所述設備可具有第一光學窗口和第二光學窗口，在第一光學窗口移除后，也可連接至所述孔口。本發明的又一方面是使用輻射處理組織的設備。所述設備可具有殼體，孔口，定向為通過所述孔口向組織發射輻射的輻射源，以及耦合至所述殼體并配置為接觸組織的研磨本發明該方面的優選實施例可包括下面一些附加特征。研磨面可位于孔口的外表面。研磨面可位于孔口周圍的殼體外表面。所述研磨面可位于大致鄰近孔口的至少一部分的殼體的外表面。研磨面可為微研磨表面，且可包括微研磨凸起。在使用過程中，研磨面可適于向組織施加壓力。研磨面可具有1到500微米峰到峰值的表面粗糙度。研磨面可具有50到70 微米峰到峰值的表面粗糙度。所述研磨表面可由以圓形圖案布置的結構構成。研磨面可包括藍寶石顆粒或塑料顆粒。輻射源可配置為在對組織具有抗炎效果的波長范圍內提供輻射。所述設備可具有至少一個接觸傳感器以及與所述接觸傳感器和所述輻射源電連通的控制器。當外表面接觸皮膚時，所述控制器可配置為導致輻射源照射組織。該設備還可具有連接至所述研磨面的致動設備以使得研磨面相對于殼體移動。所述致動設備可為振動機構，轉動機構或其他機構。所述研磨面可移除地連接至所述設備。本發明的又一方面是使用光美容設備處理組織的方法，具有步驟使光美容設備的研磨面與組織接觸；照射組織；相對于組織移動研磨面同時研磨面保持與組織接觸。本發明該方面的優選實施例可包括以下一些附加特征。移動研磨面可伴隨有移除角質層的細胞。該方法還可包括接收接觸傳感器信號并且僅當接觸傳感器信號指示研磨面的至少一部分接觸組織時，照射組織。該設備還可將研磨面與組織的接觸維持在一定壓力范圍內以避免過度研磨，并且還可將研磨面的接觸保持在足夠的壓力以提供有效的組織研磨。該設備還可使用對組織具有抗炎效果的波長的輻射來照射。本發明的又一方面為用于使用輻射處理組織的手持設備的附件。所述附件可具有構件，其具有研磨面和將構件固定在手持設備上的安裝部。研磨面配置為在手持設備操作中放置為接觸組織。所述構件還可包括窗口，研磨面為窗口的外表面。所述窗口可配置為跨過手持設備孔口的至少一部分安裝。當構件安裝到手持設備時，研磨面可配置為基本上鄰近手持設備孔口的至少一部分。當構件安裝到手持設備時，研磨面可配置為位于手持設備孔口周圍。研磨面可為微研磨面，并且還可包括微研磨凸起。在使用中，研磨面適于對組織施加壓力。所述研磨面可具有1到500微米峰到峰值之間的表面粗糙度，并且，更具體的， 可具有50到70微米峰到峰值之間的表面粗糙度。本發明的又一方面是用于處理組織的手持光美容設備的適配器。所述適配器可包括用于將輻射從設備傳送至組織的孔口，用于允許適配器連接至設備和從設備移除的連接器，以及當適配器連接至設備時，配置為由設備進行探測的機構。本發明該方面的優選實施例可包括以下一些附加特征。所述適配器可小于所述設備的孔口。所述適配器可大于所述設備的孔口。適配器的孔口形狀可不同于設備的孔口形狀。所述適配器可具有多個孔口。所述適配器可具有修改機構，用于改變從設備發射的輻射特性。所述修改機構可改變設備發射的輻射強度。所述修改機構可會聚所述設備產生的光。所述機構可為識別機構以向設備提供關于適配器的識別信息。所述機構可被設備的傳感器探測。所述機構可為電傳感器、機械傳感器、磁傳感器、接觸傳感器、鄰近傳感器、運動傳感器、或其他類型的傳感器。所述適配器還具有真空機構和殼體中的開口以將待處理的組織的一部分拉入所述開口。本發明的又一方面是用于處理組織的手持光美容設備的適配器。該適配器可包括用于將來自設備的輻射的至少第一部分傳送給組織的第一孔口，用于將來自設備的輻射的至少第二部分傳送給組織的第二孔口，以及用于允許適配器連接至設備和從設備移除的連接器。本發明該方面的優選實施例可包括下面一些附加特征。所述適配器可包括孔口， 并且第一和第二孔口中的一個或二者都可具有不同于設備孔口的尺寸。一個或兩個孔口可小于所述設備的孔口。一個或兩個孔口的形狀可不同于所述設備的孔口。一個或兩個孔口可為圓形。第一孔口可大于第二孔口。
第一孔口可包括延伸穿過孔口的材料，其對輻射至少部分部分透明，例如濾光器。 第一孔口可包括調整機構，其配置為改變第一孔口的尺寸。第一孔口可相對于第二孔口移動。所述適配器可具有定尺寸為阻擋第一孔口的不透明表面。不透明表面可相對于第一孔口移動，當第二孔口不受阻擋時，其可定尺寸并定位為阻擋基本上整個第一孔口。所述適配器還可具有傳感器和電連通路徑。電連通路徑的電連接器可定位為接觸光美容設備的電連接器，使得當適配器連接至設備時，傳感器與設備電連通。所述傳感器可為相應于第一孔口的鄰近傳感器，以當第一孔口位于組織附近時提供信號。所述適配器還可具有機構，其配置為當所述適配器連接至設備時，可被設備探測到。所述機構可向設備提供關于適配器的識別信息。所述機構還可配置為可由設備的傳感器探測到。本發明的又一方面為用于處理組織的光美容設備。該設備可包括孔口、配置為通過孔口向組織發射光的光源、與光源電連通并被配置為提供電能至光源的電源、與電源電連通的控制器、用于允許適配器連接至設備和從設備移除的適配器安裝部、和用于探測適配器與適配器安裝部連接的探測器。所述控制器可配置為響應于來自探測器的一個或多個信號來控制輻射的傳輸。本發明該方面的優選實施例可包括下面一些附加特征。該設備具有孔口，以使來自光源的輻射通過連接至適配器安裝部的適配器。所述設備可具有多個適配器，每個都具有孔口，以當每個適配器連接至適配器安裝部時，使來自光源的輻射通過所述孔口。所述控制器可配置為響應于來自探測器的一個或多個信號以控制來自光源的輻射的傳輸。所述光源可為若干光源的一個。所述控制器可配置為響應于來自探測器的一個或多個信號來控制光源。所述控制器可配置為響應于來自探測器的一個或多個信號以控制來自光源的輻射強度。所述控制器可配置為響應于來自探測器的一個或多個信號以控制來自光源的輻射波長。本發明的不同方面可實現各種優點。例如，以若干種方式增加處理功效(同現有技術相比)和用戶滿意度，包括但不限于a)改變處理輻射的波長和/或增加附屬波長；b) 操控處理的時間域；c)改變處理規程，特別地，允許每天或甚至更頻繁的應用——其在專業環境中不適用；d)將使用電磁輻射的處理與涉及機械動作的處理相結合，例如，通過使用光學窗口的表面；e)提供各種形狀和尺寸的輸出窗口以處理特定需要，例如，處理單獨的損害或為多個用戶提供針對個人的輸出窗口 ；以及f)將EMR動作與局部物質的傳遞的實現相結合，其可能例如對光加成，被光活化，或補償使用光的處理。本領域普通技術人員將理解許多實施例是可能的，并且雖然一些實施例可實現上述優點的一些或全部，其它實施例不能實現這些優點，并且實現一個或多個完全不同的優點。


將參照附圖以示例方式來描述本發明的圖示性、非限制性實施例，其中在不同的圖中，相同的附圖標記表示相同的元件，且其中圖1為根據本發明一些方面的光美容設備的前透視圖；圖2為圖1的光美容設備的側透視圖3為圖1的光美容設備的分解圖；圖4為圖3的光美容設備的LED模塊的透視圖；圖5為圖4的LED模塊的分解圖；圖6為圖3的光美容設備的LED模塊的前示意圖；圖7為圖3的光美容設備的光學反射器的前示意圖；圖8為根據本發明的方面的LED模塊的一部分的橫截面側視圖；圖9為圖3的光美容設備的散熱裝置組件的后透視圖；圖10為圖3的光美容設備的散熱裝置組件的一部分的后透視圖；圖11為圖3的光美容設備的一些內部部件的前透視圖；圖12為圖3的光美容設備的控制系統的示意圖；圖13為用于隨圖3的光美容設備一起使用的附件的前透視圖；圖13A為圖13的附件的側橫截面圖；圖14為光美容設備的一個實施例的另一示例的側視圖；圖15為用于光美容設備的孔口的另一示例的前示意圖；圖16為光美容設備的實施例的又一示例的前視圖；圖17為光美容設備的可替換實施例的分解圖；圖18為圖17的光美容設備的側透視圖；圖19為圖17的光美容設備的泵組件的分解圖；圖20為圖17的光美容設備的泵組件和貯存器的橫截面側視圖；圖21為光美容設備的實施例的又一示例的透視圖；圖22為圖21的光美容設備的一部分的橫截面側視圖；圖23為圖21的光美容設備的一部分的橫截面側視圖；圖M為圖21的光美容設備的光源部件的分解圖；圖25為圖21的光美容設備的光源部件的分解圖；圖沈為圖21的光美容設備的光源的透視圖；圖27簡要圖示圖21的光美容設備的頭部；圖觀為具有研磨面的光學窗口的示意圖；圖四為含有研磨面的可連接且可分開的窗口的實施例的側透視圖；圖30為圖31的窗口的橫截面示意圖；圖31為具有兩個可連接且可分離的用于分配洗劑或其他物質的墊片的又一實施例的側透視圖；圖32為各種黃素的吸收譜作為波長的函數的圖示；圖33為設計為主要在藍光和橙光波長范圍發光的實施例的發射光譜圖示；圖34為通過微孔陣列分配物質的附件的可替換實施例的前透視圖；以及圖35為圖34的附件的側橫截面視圖。
具體實施例方式在非醫療環境下的光美容過程盡管出于醫學原因(例如，需要術后傷口護理)，某些光美容過程，諸如通常將整個表皮層移除的(X)2激光面部修復，將可能繼續暫時在皮膚科醫生的辦公室中執行，但是如果消費者能使用節省成本的設備以安全和有效的方式執行該過程，則有很多光美容過程可以由消費者在非醫療環境(例如，家庭)中執行，作為消費者日常衛生方式的部分。由消費者在非醫療環境中使用的光美容設備可具有一個或多個下列特性(1)該設備優選消費者可安全使用，并應該避免對身體的傷害，包括眼睛、皮膚和其他組織；(2)該設備優選易于使用，從而允許消費者或其他操作員在最少的訓練或其他指導下有效并安全地使用該設備；C3)該設備優選將足夠堅固耐用以承受濫用；( 該設備優選易于維護；(6)該設備優選相對可廉價地制造并能夠大量生產；(7)該設備優選小型且易于存放，例如在浴室中；以及(8)該設備優選具有由電驅動并意圖在諸如浴室中使用的用于消費者器具的安全特征標準。該設備可基本上于配置為用戶手持的設備中獨立，并且除了操作過程中手持部件外， 可缺少其他重要部件。(然而，在某些實施例中，獨立手持設備中可存在一些附加部件，例如電源線，當不使用時用于給設備重復充電或保持該設備的遠程基座單元，以及可重復使用和可重復填充的容器。目前可獲得的光美容設備具有涉及一個或多個上述挑戰的限制。然而，存在與產生這種由消費者在非醫療環境中使用的設備相關的技術挑戰，包括安全性、處理的有效性、 設備的成本和設備尺寸。低功率電磁輻射本發明通常涉及在合適的頭部中使用低功率電磁輻射源，或者優選低功率電磁輻射源的陣列，其被保持在處理區域上相當長一段時間，即，一秒到一個小時，或者在每次處理中在處理區域上移動若干次。取決于所處理的人體的區域和情況，在處理過程中區域上的累積停留時間是可變化的。該處理可以頻繁的間隔重復，即每天，或甚至一天數次，每周、每月或其他適當的間隔。處理之間的間隔可基本上固定或可在“需要的”基礎上。例如，處理可在基本上規律的或固定基礎上來開始處理情況，然后在“按需”的基礎上用于維持。處理可持續數周、數月、數年和/或可包含于用戶的常規日常衛生行為中。某些處理 ^t 2003 ^ 12 M 19 H11 ^^ "Light TreatmentsFor Acne And Other Disorders OfFollicles (用于處理痤瘡和其他毛囊失調的光處理)”的美國專利申請10/740，907中進行了進一步討論，其通過引用而被包含于此。這樣，盡管過去已經使用光來處理各種情況，但這種處理通常涉及以很長間隔重復的一至十次處理，例如每周、每月或更長。相比之下，根據本發明多個方面的實施例所使用的處理數量可從十次到數千次，處理之間的間隔從若干小時到一周或更長。人們認為，在某些情況下，諸如痤瘡或皺紋，具有低功率的多次處理可提供與高功率的單次處理相同的效果。處理機制可包括光化學、光熱、感光器、細胞相互作用的光控或這些效應的一些組合。 對多次系統處理，小劑量的光可與系統地使用藥物相同的方式有效調整細胞、器官或人體功能。取代必須在諸如診所的受監控的條件下執行的使用單個或少量強光處理，可在家庭中使用諸如手持光美容設備使用顯著的較低功率和劑量的較大量處理達到同樣的菌群減少水平。使用相對較低的功率處理，消費者可在家庭或其他非醫療環境中使用光美容設備。本發明中建議的特定光參數和輔助化合物的配方提供了這種處理策略。由于它們必須基于處理的高次數和頻繁來執行，例如每天到每周，這些處理可優選在家中進行。(當然，本發明的一些實施例可附加地在醫療環境中用于治療性、指導性或其他目的，例如由醫師、護士、醫師助理、理療師、職業治療師，等等)取決于將要進行的處理，光源可配置為以單波長、多波長、或單個或多個波帶發射。光源可為相干光源，例如紅寶石激光器、變石激光器或其他固態激光器、氣體激光器、二極管激光條、或其他合適的激光光源。可替換地，所述源可為非相干光源，例如LED、弧光燈、 閃光燈、熒光燈、鹵素燈、鹵化物燈或其他合適的燈。可使用各種基于光的設備來發射所需的光劑量至人體。所用的電磁輻射源可在用戶的皮膚表面提供從大約lmwatt/cm2到大約lOOwatt/cm2之間的功率密度，優選IOmwatt/ cm2到lOwatt/cm2的范圍。如上所述，通過在延長的時間周期中相對頻繁的處理，所采用的功率密度將使得顯著的治療效果得以實現。功率密度還可作為若干因素的函數而變化，包括但不限于，所處理的條件、所采用的單個或多個波長以及所期望處理的身體位置，即，處理深度、用戶的皮膚類型等。例如，合適的源可提供大約1-100瓦的功率，優選2-10瓦。合適的源包括固態光源，例如1.發光二極管(LED)—這些包括邊發射LED(EELED)、面發射LED(SELED)或高亮度LED(HBLED)。所述LED可基于不同的材料，諸如，但不限于，GaN、AlGaNJnGaN、AnnGaN、 AlInGaN/AlN,AlInGaN(發射從 285nm 至 550nm) ,GAP,GAP :N、GaAsP、GaAsP :N、AlGaInP (發射從550nm至660nm)、SiC、GaAs, AlGaAs, BaN、InBaN (在近紅外和紅外發射)。另一種合適的LED類型是有機LED，使用聚合物作為有源材料，并且以非常低的成本具有寬的發射光
■i並曰O2.超發光二極管(SLD) — SLD可用作寬發射譜源。3.激光二極管(LD)—激光二極管可能是最有效的光源(LS)。波導激光二極管 (WGLD)非常有效，但由于很難將光耦合進入光纖，因此不是最優選的。對于制作在晶片或其他基底上的大面積發射器矩陣，垂直腔面發射激光器(VCSEL)可最有效地用于光纖耦合。 這不但節能而且成本低。用于LED的同樣的材料可用于二極管激光器。4.具有激光二極管泵浦的光纖激光器(FL)。5.具有電泵浦或來自LD、LED或電流/電壓源的光泵浦的熒光固態光源(FLS)。 FLS可為具有電泵浦的有機纖維。6.發光電容器(LEC)。LEC為電致發光光源，通過將電致發光材料放置于電場中而產生。在本發明的實施例中，其它合適的低功率激光器、迷你燈或其他低功率燈或類似物還可用作光源。LED為目前優選的輻射源，這是由于其低成本、易于封裝、且可在適于處理各種組織情況的寬波長范圍內獲得。特別地，改進的化學氣相沉積(MCVD)技術可用于以相對低的成本生長含有所期望LED和/或VCSEL陣列的晶片，優選二維陣列。固態光源優選用于單色應用。然而，在處理過程中，例如白熾燈、熒光燈、微鹵化物燈或其它合適的燈的燈是用于施加白色、紅色、近紅外、以及紅外照射的優選光源。由于固態光源的效率為1_50%，并且源以非常高密度封裝安裝，從發射區域移除熱量通常是源功率的主要限制。為了更好的冷卻，LED或其他光源的陣列可安裝在鉆石、藍寶石、BeO、Cu、Ag、Al、熱管、或其它合適的導熱體上。用于特定設備的光源可制造或形成為含有若干基本部件的封裝。為了提高從半導體發射結構到皮膚的光的傳輸，該結構和皮膚之間的空間填充具有折射率1. 3到1. 8范圍，優選1. 35到1. 65之間的透明材料，不留空氣隙。使用本發明的實施例可處理的情況的一個示例是痤瘡。一方面，所描述的處理涉及破壞導致與痤瘡相關的特征發炎的細菌(P. acnes)。通過以P. Acnes中存儲的卟啉為靶， 可實現細菌的破壞。厭氧細菌合成卟啉，例如原卟啉、糞卟啉、以及Zn-原卟啉，作為它們新陳代謝的產物。卟啉吸收400-700nm的可見光譜區域中的光，最強的吸收峰在400-430nm 范圍。通過在所選波長范圍提供足夠強度的光，可引發光動力學過程，其導致細菌細胞結構成分的不可修復的傷害，并最終使其死亡。此外，由于吸收光能產生的熱量可加速細菌的死亡。例如，使用光源發射的大約405nm波長的光，利用設計為以皮膚表面大約0. 01-10ff/cm2 的功率密度照射皮膚表面下0. 2-lmm的光學系統，可實現所期望的效果。在本發明的又一方面中，通過血液和其他內生組織發色團吸收光，所述處理可間接導致痤瘡損傷外觀的消退或改善。■處細麵書垂德WH設計為處理例如痤瘡的根據本發明一些方面的光美容設備參照圖1至圖3所描述。光美容設備100是由消費者或用戶例如在家庭中用作消費者或用戶日常衛生制度的一部分的設備。在本實施例中，光美容設備100為手持單元，其大約52mm寬；270mm長；總的內部體積大約307cc ；以及具有總重大約370g。優選地，光美容設備100伴有簡單且易于跟隨的指導，其指導用戶如何安全且有效地使用光美容設備100。這些指導可為書面的且可包括圖片和/或這種指導可通過諸如錄影帶、DVD和/或因特網的可視媒體來提供。光美容設備100總的分別包括近側部110和遠側部120。近側部110作為手柄， 其允許用于握住設備并控制處理。遠側部120被稱作光美容設備100的頭部，并包括孔口 130，當孔口 130被置于接觸或鄰近待處理組織表面時，其允許光美容設備100產生的光照射待處理組織。通常，為了處理痤瘡，用戶將光美容設備100的孔口 130置于其皮膚上以控制處理。當從光美容設備100的正面看去時，遠側部120向外張開以略微寬于近側部110。 當從光美容設備100的側面看去時，遠側部120彎曲以定向孔口 130相對于延伸穿過近側部110的縱軸線135成大約45度角。當然，該角度在其它實施例中可不同，以潛在地改善設備的人體工程學。可替換的，一個實施例可包括可調整或可移動的頭部，其可在不同方向樞軸轉動，例如向上和向下以增大或減小孔口相對于近側部110的縱軸線的相對角度，和/ 或圍繞近側部110的縱軸線回旋或旋轉。光美容設備100被設計為符合下面表1中列出的規范。如上所述，本實施例描述的光美容設備100具有大約370g的重量，其確定為提供足夠的冷卻劑以提供大約10分鐘的總處理時間。類似于光美容設備100的可替換的實施例重大約270g，并且可提供大約5 分鐘的總處理時間。類似地，其他實施例可包括更多或更少的冷卻劑以增加或減少可用的處理時間。表1 用于處理痤瘡的光美容設備的實施例的設備規范。
28
權利要求
1.用于處理組織的設備，包括電磁輻射源組件，具有多個部分，每個部分具有 至少一個電磁輻射源，設置為照射所述組織；以及至少一個組織鄰近傳感器，設置為指示何時所述部分位于所述組織附近；和控制器，耦合到所述組織鄰近傳感器和所述電磁輻射源，其中，對每個部分，所述控制器配置為響應于所述至少一個組織鄰近傳感器來控制所述至少一個電磁輻射源。
2.權利要求1的設備，其中對每個部分，控制器配置為當所述至少一個組織鄰近傳感器指示所述部分位于所述組織附近時，點亮所述至少一個電磁輻射源。
3.權利要求2的設備，其中，對每個部分，所述至少一個組織鄰近傳感器配置為當所述部分接觸所述組織時，發出控制信號。
4.權利要求2的設備，其中，對每個部分，所述至少一個組織鄰近傳感器配置為當所述部分相對所述組織移動時，發出控制信號。
5.權利要求1的設備，其中所述鄰近傳感器為接觸傳感器。
6.權利要求1的設備，其中所述鄰近傳感器為速度傳感器。
7.權利要求1的設備，其中所述電磁輻射源包括固態電磁輻射源。
8.權利要求1的設備，其中，對每個部分，所述至少一個電磁輻射源包括至少兩個發光二極管。
9.權利要求1的設備，其中所述部分為相鄰的。
10.權利要求1的設備，進一步包括孔口，其中所述電磁輻射源組件的所述部分配置為通過所述孔口發射電磁輻射。
11.權利要求1的設備，其中所述部分間隔一段距離。
12.權利要求1的設備，其中所述部分的至少一個與所述部分的至少第二個間隔一段距離。
13.權利要求1的設備，進一步包括第一和第二孔口，其中所述電磁輻射源組件的所述部分的至少一個配置為通過所述第一孔口發射電磁輻射，并且所述電磁輻射源組件的所述部分的至少第二個配置為通過所述第二孔口發射電磁輻射。
14.用于處理組織的光美容設備，包括 孔口，具有第一和第二區域；電磁輻射源，定向為通過所述第一和第二區域發射電磁輻射； 控制器，電連接至所述電磁輻射源并配置為接收輸入信號和發送輸出信號； 第一傳感器，電連接至所述控制器，所述第一傳感器配置為當所述第一區域位于所述組織附近時，提供第一傳感器信號給所述控制器；第二傳感器，電連接至所述控制器，所述第二傳感器配置為當所述第二區域位于所述組織附近時，提供第二傳感器信號給所述控制器；電源，電連接至所述控制器并電連接至所述電磁輻射源，所述控制器配置為響應于所述第一和第二傳感器信號來改變傳輸至所述電磁輻射源的功率量。
15.權利要求14的光美容設備，其中所述控制器配置為與所述第二區域發射的電磁輻射的第二強度無關地改變所述第一區域發射的電磁輻射的第一強度。
16.權利要求15的光美容設備，其中所述控制器配置為改變所述第一區域的電磁輻射的所述第一強度，而將所述第二區域的所述第二強度維持在基本恒定值。
17.權利要求15的光美容設備，其中所述控制器配置為從基本上零開始改變所述第一區域的電磁輻射的所述第一強度，而保持所述第二區域的所述第二強度基本恒定。
18.權利要求17的光美容設備，其中所述第二強度基本為零值。
19.權利要求15的光美容設備，其中所述控制器配置為當所述第一區域位于所述組織附近且所述第二區域沒有位于所述組織附近時，改變所述第一強度。
20.權利要求14的光美容設備，其中所述電源包括沿第一路徑電連接至所述控制器并電連接至所述第一區域的第一場效應晶體管和沿第二路徑電連接至所述控制器的第二場效應晶體管；并且其中所述控制器配置為沿所述第一路徑提供所述第一控制信號并且沿所述第二路徑提供所述第二控制信號，使得電功率通過所述第一場效應晶體管供給所述第一區域，且電功率通過所述第二場效應晶體管供給所述第二區域。
21.權利要求14的光美容設備，其中所述電磁輻射源包括具有發光二極管的第一陣列的第一部分。
22.權利要求21的光美容設備，其中所述電磁輻射源包括具有發光二極管的第二陣列的第二部分。
23.權利要求22的光美容設備，其中所述第一和第二陣列的所述發光二極管安裝在基底上并電連接，以提供第一電連接到所述第一陣列并為所述第二陣列提供第二電連接。權利要求17的光美容設備，其中所述第二陣列中還包括所述第一陣列中的發光二極管的子集。
24.權利要求14的光美容設備，進一步包括電連接至所述控制器的第三傳感器，其中所述孔口包括第三區域，所述第三傳感器配置為當所述第三區域位于所述組織附近時，提供第三傳感器信號至所述控制器。
25.使用具有孔口的光美容設備處理組織的方法接收相應于所述孔口的第一區域并指明所述第一區域是否位于所述組織附近的第一傳感器信號；當所述第一區域位于所述組織附近時，使用來自所述第一區域的電磁輻射照射所述組織；接收相應于所述孔口的第二區域并指明所述第二區域是否位于所述組織附近的第二傳感器信號；以及當所述第二區域位于所述組織附近時，使用來自所述第二區域的電磁輻射照射所述組織。
26.權利要求25的方法，進一步包括當所述傳感器信號表明所述第一區域位于所述組織附近時，發出控制信號以點亮相應于所述第一區域的至少一個電磁輻射源。
27.權利要求沈的方法，其中當所述第一區域接觸所述組織時，發出所述控制信號。
28.權利要求沈的方法，其中當所述第一區域相對所述組織移動時，發出所述控制信號。
29.權利要求25的方法，進一步包括獨立地控制從所述第一區域和第二區域發射的電磁輻射的強度。
30.權利要求四的方法，其中所述第一區域的電磁輻射的所述強度變化，而將所述第二區域的電磁輻射的所述強度維持在基本恒定值。
31.權利要求四的方法，其中所述第一區域的電磁輻射的所述強度從基本零值變化至第二非零值，而將所述第二區域的電磁輻射的所述強度維持在基本恒定值。
32.權利要求四的方法，進一步包括將所述第二區域的所述強度維持在基本零值。
33.權利要求四的方法，其中當位于所述組織附近設置所述第一部分時，包括當所述第二部分不在所述組織附近時，所述第一區域的所述強度增大。
34.用于控制手持設備以處理組織的方法，包括步驟 確定設備的孔口的第一部分是否位于所述組織附近；產生第一傳感器信號，表明所述孔口的第一部分位于所述組織附近； 確定孔口的第二部分是否位于所述組織附近； 產生第二傳感器信號，表明所述孔口的第二部分位于所述組織附近； 響應于所述第一和第二傳感器信號而產生第一和第二控制信號； 其中當所述第一部分位于所述組織附近時，所述第一控制信號導致第一電磁輻射源通過所述第一部分發射電磁輻射，并且其中當所述第二部分位于所述組織附近時，所述第二控制信號導致第二電磁輻射源通過所述第二部分發射電磁輻射。
35.使用具有第一和第二窗口的設備處理組織的方法，包括接收相應于所述第一窗口并表明所述第一窗口是否位于所述組織附近的第一傳感器信號；當所述第一窗口位于所述組織附近時，使用來自所述第一窗口的電磁輻射照射所述組織；接收相應于所述第二窗口并表明所述第二窗口是否位于所述組織附近的第二傳感器信號；和當所述第二窗口位于所述組織附近時，使用來自所述第二窗口的電磁輻射照射所述組織。
36.適于處理具有變化輪廓的組織的手持光美容設備，包括 殼體，具有含有多個孔口的頭部；電磁輻射源組件，基本上位于所述殼體內并定向為通過所述多個孔口發射電磁輻射；以及控制器，用于使電磁輻射的應用穿過多個孔口的一個或多個。
37.權利要求36的手持光美容設備，其中所述電磁輻射源包括多個電磁輻射源。
38.權利要求37的手持光美容設備，其中多個電磁輻射源的至少一個通過多個孔口的一個提供電磁輻射，并且多個電磁輻射源的至少第二個通過多個孔口的另一個提供電磁輻射。
39.權利要求36的光美容設備，其中所述多個孔口的所述至少一個相對于多個孔口的第二個可移動。
40.權利要求36的光美容設備，其中所述殼體包括具有多個孔口的至少第一孔口的臂，其中所述臂配置為相對于所述多個孔口的第二孔口移動所述第一孔口。
41.權利要求40的光美容設備，其中所述第一孔口位于所述臂的遠端。
42.權利要求36的光美容設備，其中所述殼體包括具有所述多個孔口的至少第一孔口的可擴展的本體，所述本體配置為相對于所述多個孔口的第二孔口移動所述第一孔口。
43.適于處理具有變化輪廓的組織的手持光美容設備，包括 殼體，具有包括孔口的頭部；電磁輻射源，位于所述殼體內且定向為通過所述孔口發射電磁輻射； 電源，電連接至所述電磁輻射源，并配置為向所述電磁輻射源提供電功率； 其中所述孔口包括具有配置為發射電磁輻射到組織的相對較大區域的第一寬度的寬闊部分，以及具有配置為發射電磁輻射至組織的相對較小區域的第二、較小寬度的狹窄部分。
44.權利要求43的光美容設備，其中所述頭部包括從所述光美容設備延伸出去的展開部分，所述孔口的所述狹窄部分位于所述展開部分，并配置為發射電磁輻射到高度帶輪廓的組織上。
45.權利要求44的光美容設備，其中所述展開部分適于處理由所述組織形成的縫隙中的組織。
46.權利要求44的光美容設備，其中所述展開部分適于處理由鼻子和臉頰形成的縫隙中的組織。
47.權利要求43的設備，其中所述孔口為非對稱的。
48.權利要求43的設備，其中所述孔口基本上為淚滴形。
49.權利要求43的設備，其中所述第一孔口具有形成曲線的邊界，該曲線基本上為淚滴、梨、梨形、六次的、 鈴、蝴蝶、或奧特瑞福塔羅德曲線的一個或者多個。
50.權利要求43的設備，其中所述殼體進一步包括第二孔口。
51.權利要求50的設備，其中所述殼體進一步包括第二電磁輻射源；其中所述第二電磁輻射源定向為將電磁輻射從所述殼體，經過所述第二孔口，傳輸到所述組織。
52.權利要求50的設備，其中所述第二孔口具有小于所述第一孔口的面積。
53.權利要求50的設備，其中所述第二孔口可相對于所述第一孔口移動。
54.用于使用電磁輻射處理組織的手持設備，包括 殼體，具有孔口 ；電磁輻射源組件，安裝在所述殼體中并且定向為通過所述孔口發射輻射；以及散熱元件，安裝在所述殼體內并與所述輻射源組件處于熱連通； 其中所述輻射源組件配置為使用大約lOmW/cm2和大約lOOW/cm2之間的輻照度的電磁輻射照射所述組織；以及其中所述手持設備配置為在操作過程中是基本上獨立的并持于用戶手中。
55.權利要求M的手持設備，其中所述輻射源組件配置為使用大約lOmW/cm2和大約 lOOW/cm2之間的輻照度的電磁輻射照射所述組織。
56.權利要求M的手持設備，其中所述輻射源組件配置為使用大約lW/cm2和大約 lOOW/cm2之間的輻照度的電磁輻射照射所述組織。
57.權利要求M的手持設備，其中所述輻射源組件配置為使用大約4W/cm2和大約lOOW/cm2之間的輻照度的電磁輻射照射所述組織。
58.權利要求M的手持設備，其中所述輻射源組件配置為使用大約lOW/cm2和大約 lOOW/cm2之間的輻照度的電磁輻射照射所述組織。
59.權利要求M的手持設備，其中所述孔口面積至少為大約km2。
60.權利要求M的手持設備，其中所述孔口面積至少為大約9cm2。
61.權利要求討的手持設備，其中所述孔口面積至少為大約14.Mem2。
62.權利要求M的手持設備，其中所述孔口面積至少為大約16cm2。
63.權利要求M的手持設備，其中所述輻射源組件配置為提供至少大約2.5W光功率。
64.權利要求M的手持設備，其中所述輻射源組件配置為提供至少大約5W光功率。
65.權利要求M的手持設備，其中所述輻射源組件配置為提供至少大約IOW光功率。
66.權利要求討的手持設備，其中所述手持設備為用于由消費者自我使用的設備。
67.權利要求M的手持設備，其中所述殼體具有包含所述孔口的頭部和配置為由用戶持握的手柄部，以便當輻射源組件產生電磁輻射時，允許孔口在組織上移動。
68.權利要求M的手持設備，其中所述孔口包括藍寶石窗口。
69.權利要求M的手持設備，其中所述孔口包括塑料窗口。
70.權利要求M的手持設備，其中所述電磁輻射源組件包括固態電磁輻射源。
71.權利要求70的手持設備，其中所述電磁輻射源為LED輻射源。
72.權利要求M的手持設備，其中所述電磁輻射源組件為激光輻射源。
73.權利要求M的手持設備，其中所述電磁輻射源組件為半導體元件的陣列。
74.權利要求M的手持設備，其中所述電磁輻射源組件包括至少兩個電磁輻射源。
75.權利要求M的手持設備，其中所述電磁輻射源組件包括第一電磁輻射源且所述設備還包括第二電磁輻射源，其中所述第一源能產生波長位于第一波長范圍內的電磁輻射， 且所述第二源能產生波長位于第二波長范圍內的電磁輻射。
76.權利要求75的手持設備，其中所述第一和第二波長范圍不重疊。
77.權利要求75的手持設備，進一步包括電源；其中所述第一電磁輻射源沿第一電連接路徑電連接至所述電源，且所述第二電磁輻射源沿第二電連接路徑電連接至所述電源， 使得所述第一電磁輻射源能夠與所述第二電磁輻射源無關地產生電磁輻射。
78.權利要求M的手持設備，其中所述電磁輻射源組件為半導體元件的陣列。
79.權利要求M的手持設備，其中所述電磁輻射源組件可在多波長下運行。
80.權利要求M的手持設備，其中所述源組件發射最大強度在可見光的藍光范圍的第一波段和最大強度在可見光的橙光范圍的第二波段。
81.權利要求M的手持設備，其中所述源組件發射在藍光范圍中的可見光的第一波長和在630nm、633nm或638nm中的一個的可見光的第二波長。
82.權利要求討的手持設備，其中所述源組件發射最大強度在大約630nm、633nm或 638nm中的一個的可見光的第一波長。
83.權利要求82的手持設備，其中所述源組件發射電磁輻射的第二波長。
84.權利要求M的手持設備，進一步包括電源。
85.權利要求84的手持設備，其中所述電源配置為以連續波模式供電。
86.權利要求84的手持設備，其中所述電源配置為以準連續波模式供電。
87.權利要求84的手持設備，其中所述電源配置為以脈沖波模式供電。
88.權利要求討的手持設備，進一步包括電連接至控制器的第一傳感器，所述第一傳感器配置為當所述孔口的第一部分接觸所述組織時提供第一電連接信號，當所述傳感器提供所述第一電信號時，所述控制器使得所述電磁輻射源組件被點亮。
89.權利要求88的手持設備，其中所述電磁輻射源組件包括第一電磁輻射源和第二電磁輻射源，且該設備進一步包括電連接至所述控制器的第二傳感器，所述第二傳感器配置為當所述孔口的第二部分接觸所述組織時提供第二電信號，當所述傳感器提供所述第二電信號時，所述控制器使得所述第二電磁輻射源被點亮。
90.權利要求M的手持設備，其中所述電磁輻射源組件為固態電磁輻射源的陣列。
91.權利要求M的手持設備，其中所述孔口是導熱的，所述電磁輻射源組件直接鄰近于所述孔口，使得所述孔口提供第三導熱路徑，允許熱量通過所述孔口從所述電磁輻射源組件傳送到所述被處理組織的區域。
92.權利要求討的手持設備，其中所述殼體進一步包括電連接至所述控制器的報警器，所述控制器配置為提供輸出信號至所述報警器以提供信息給所述用戶。
93.權利要求92的手持設備，其中所述報警器為可聽聲音發生器。
94.權利要求92的手持設備，其中所述報警器為光發射設備。
95.權利要求92的手持設備，其中所述報警器配置為警告用戶處理時間期滿。
96.用于使用電磁能處理痤瘡的手持設備，包括具有孔口的殼體；輻射源，定向為通過所述孔口發射電磁輻射；電連接至所述輻射源的控制器；電連接至所述控制器的傳感器，其中所述控制器被配置為響應于來自所述傳感器的輸入信號而提供輸出信號；以及其中所述輻射源被配置為使用大約lW/cm2和大約lOOW/cm2之間的輻射照射所述組織。
97.用于使用電磁輻射處理組織的手持光美容設備，包括具有孔口的殼體；輻射源，安裝在所述殼體內并被配置為通過所述孔口傳遞電磁輻射到所述組織；以及安裝在所述殼體內的冷卻系統，用于移除所述源產生的熱量，其中所述冷卻系統包括含有流體的貯存器。
98.權利要求97的手持光美容設備，進一步包括耦合至所述孔口的窗口且其中所述冷卻系統從所述窗口進一步移除熱量。
99.權利要求97的手持光美容設備，其中所述窗口被配置為在操作中接觸所述組織。
100.權利要求97的手持光美容設備，其中所述貯存器含有至少50cc流體。
101.權利要求97的手持光美容設備，其中所述貯存器含有至少IOOcc流體。
102.權利要求97的手持光美容設備，其中所述貯存器含有至少200cc流體。
103.權利要求97的手持光美容設備，其中所述貯存器含有至少250cc流體。
104.權利要求97的手持光美容設備，其中所述貯存器含有大約ISOcc流體。
105.權利要求97的手持光美容設備，其中所述貯存器含有大約307cc流體。
106.權利要求97的手持光美容設備，其中所述貯存器包括水。
107.權利要求97的手持光美容設備，其中所述貯存器包括混合物。
108.權利要求97的手持光美容設備，其中所述貯存器為可移除地連接至所述設備的容器。
109.權利要求97的手持光美容設備，其中所述冷卻系統包括熱學耦合至所述源的散熱元件、泵和在所述貯存器和所述散熱元件之間的流體路徑，其中所述泵被配置為使得所述流體從所述貯存器通過所述流體路徑流到所述散熱元件。
110.權利要求97的手持光美容設備，進一步包括 傳感器；和控制器，配置為接收來自所述傳感器的輸入信號并配置為響應于來自所述傳感器的所述輸入信號來控制所述源。
111.權利要求110的手持光美容設備，其中所述傳感器為溫度傳感器，配置為在探測到等于或大于預定的閾值溫度的溫度時，提供所述輸入信號。
112.權利要求111的手持光美容設備，其中所述溫度傳感器熱耦合到所述輻射源、所述貯存器、以及耦合到所述孔口并配置為接觸組織的窗口的至少一個。
113.權利要求110的手持光美容設備，其中所述控制器被配置為響應于來自所述傳感器的所述輸入信號而阻止所述源產生電磁輻射。
114.用于使用電磁輻射處理組織的手持光美容設備，包括 具有開口的殼體；輻射源，被配置為通過所述開口發射電磁輻射；以及位于所述殼體內的冷卻回路，包括在熱收集元件和散熱元件之間延伸的流體傳導路徑；其中所述冷卻回路與所述源處于熱連通，并被配置為將熱量從源傳遞至所述熱收集元件以及從所述熱收集元件傳遞到所述散熱元件。
115.權利要求114的手持光美容設備，其中所述熱收集元件為散熱裝置。
116.權利要求114的手持光美容設備，其中所述熱收集元件為與所述熱源處于熱連通的導熱材料。
117.權利要求114的手持光美容設備，其中所述散熱元件為含有流體的貯存器。
118.權利要求114的手持光美容設備，其中所述散熱元件為散熱器。
119.權利要求114的手持光美容設備，其中所述散熱元件為配置為散熱的一組散熱片。
120.權利要求114的手持光美容設備，其中所述冷卻回路含有水。
121.權利要求114的手持光美容設備，其中所述冷卻回路含有液體。
122.權利要求114的手持光美容設備，其中所述冷卻回路含有混合物。
123.權利要求122的手持光美容設備，其中所述混合物含有流體和固體顆粒。
124.權利要求114的手持光美容設備，其中所述散熱元件為可移除地連接至所述設備的容器。
125.權利要求114的手持光美容設備，其中所述冷卻回路進一步包括可移除地連接至所述設備的容器，且其中所述容器含有用于通過冷卻回路循環的流體。
126.權利要求114的手持光美容設備，其中所述冷卻回路為閉合回路。
127.權利要求114的手持光美容設備，其中所述冷卻回路為開放回路，進一步包括流體源，配置為含有用于通過所述冷卻回路的流體。
128.權利要求127的手持光美容設備，其中所述流體源為配置為可重新填充的容器。
129.權利要求127的手持光美容設備，其中所述流體源為可移除地連接至所述手持光美容設備的容器。
130.權利要求114的手持光美容設備，其中所述流體傳導路徑進一步包括第一管路和泵，所述泵與所述熱收集元件和所述散熱元件都流體連通，所述泵配置為將所述流體從所述熱收集元件通過所述第一管路泵到所述散熱元件。
131.用于使用電磁輻射處理組織的手持光美容設備，包括 具有光學窗口的殼體；電磁輻射源組件，安裝在所述設備中并定向為通過所述光學窗口傳遞電磁輻射到所述組織；安裝在所述設備中的泵；位于所述設備中的流體路徑；以及安裝于所述設備中的第一和第二散熱裝置；其中所述第一散熱裝置熱連接至所述第一電磁輻射源組件；其中所述泵與所述第一和第二散熱裝置流體連通并且被配置為泵送流體穿過所述第一散熱裝置元件、通過所述路徑并穿過所述第二散熱裝置，從而使熱量從所述源組件傳遞到所述第二散熱裝置。
132.權利要求131的手持光美容設備，其中所述源組件為固態電磁輻射源陣列。
133.權利要求131的手持光美容設備，進一步包括 耦合至所述殼體的傳感器；和殼體內的控制器；其中所述傳感器電連接至所述控制器，所述控制器配置為響應于來自所述傳感器的信號而控制所述源組件。
134.權利要求133的手持光美容設備，其中所述傳感器為溫度傳感器，配置為在探測到所述設備的閾值溫度時提供所述輸入傳感器信號。
135.權利要求133的手持光美容設備，其中所述控制器被配置為當所述溫度傳感器指明所述設備已經到達安全運行的閾值溫度時，終止運行。
136.權利要求131的手持光美容設備，進一步包括 控制器；和傳感器，電連接至所述控制器，并被配置為提供第一輸入信號； 其中所述控制器電連接至所述電磁輻射源組件并被配置為響應于所述第一輸入信號而改變提供給所述電磁輻射源的電功率。
137.用于使用電磁輻射處理組織的設備，包括 殼體；具有光學窗口的孔口； 電磁輻射源；其中所述電磁輻射源定向為通過所述光學窗口傳遞電磁輻射到所述組織；且其中所述光學窗口包括配置為在操作中接觸所述組織的外研磨面。
138.權利要求137的設備，其中所述研磨面包括微研磨凸起。
139.權利要求137的設備，其中在使用中所述研磨面適于施加壓力到所述組織。
140.權利要求138的設備，其中所述微研磨凸起具有1和500微米峰到峰之間的表面粗糙度。
141.權利要求138的設備，其中所述微研磨凸起具有50和70微米峰到峰之間的表面粗糙度。
142.權利要求138的設備，其中所述微研磨凸起以圓形圖案排列。
143.權利要求138的設備，其中所述微研磨凸起為藍寶石顆粒。
144.權利要求138的設備，其中所述微研磨凸起為塑料顆粒。
145.權利要求137的設備，其中所述電磁輻射源被配置為提供在對所述組織具有抗炎效果的波長范圍的電磁輻射。
146.權利要求137的設備，進一步包括至少一個接觸傳感器和與所述接觸傳感器及所述電磁輻射源電連通的控制器；其中所述控制器被配置為當所述研磨面接觸所述皮膚時，使所述電磁輻射源照射所述組織。
147.權利要求137的設備，進一步包括致動設備，其連接至所述窗口，且被配置為使所述研磨面相對于所述殼體移動。
148.權利要求147的設備，其中所述致動設備為震動機構。
149.權利要求147的設備，其中所述致動設備為轉動機構。
150.權利要求137的設備，其中所述光學窗口可移除地連接至所述孔口。
151.權利要求150的設備，其中所述光學窗口為第一光學窗口，并進一步包括當所述第一光學窗口移除后可連接至所述孔口的第二光學窗口。
152.用于使用電磁輻射處理組織的設備，包括 殼體；孔口 ；輻射源，定向為通過所述孔口傳遞電磁輻射到所述組織；和研磨面，耦合至所述殼體，并被配置為用于接觸所述組織。
153.權利要求152所述的設備，其中所述研磨面位于所述孔口的外表面。
154.權利要求152所述的設備，其中所述研磨面位于環繞所述孔口的所述殼體的外表
155.權利要求152所述的設備，其中所述研磨面位于基本上鄰近所述孔口的至少一部分的所述殼體的外表面。
156.權利要求152所述的設備，其中所述研磨面為微研磨面。
157.權利要求152所述的設備，其中所述研磨面包括微研磨凸起。
158.權利要求152所述的設備，其中在使用中所述研磨面適于對所述組織施加壓力。
159.權利要求152所述的設備，其中所述研磨面具有在1和500微米峰到峰之間的表面粗糙度。
160.權利要求152所述的設備，其中所述研磨面具有在50和70微米峰到峰之間的表面粗糙度。
161.權利要求152所述的設備，其中所述研磨面由以圓形圖案排列的結構構成。
162.權利要求152所述的設備，其中所述研磨面包括藍寶石顆粒。
163.權利要求152所述的設備，其中所述研磨面包括塑料顆粒。
164.權利要求152所述的設備，其中所述輻射源被配置為在對所述組織具有抗炎效果的波長范圍內提供輻射。
165.權利要求152所述的設備，進一步包括至少一個接觸傳感器以及與所述接觸傳感器和所述輻射源電連通的控制器；其中所述控制器被配置為當所述研磨面接觸所述皮膚時，使所述輻射源照射所述組織。
166.權利要求152所述的設備，進一步包括致動設備，其連接至所述研磨面，并被配置為使所述研磨面相對所述殼體移動。
167.權利要求166的設備，其中所述致動設備為震動機構。
168.權利要求166的設備，其中所述致動設備為轉動機構。
169.權利要求152的設備，其中所述研磨面可移除地連接至所述設備。
170.使用光美容設備處理組織的方法，包括 放置所述光美容設備的研磨面與所述組織接觸； 照射所述組織；以及相對所述組織移動所述研磨面，同時所述研磨面保持與所述組織接觸。
171.權利要求170的方法，其中移動所述研磨面的步驟進一步包括從角質層中除去細胞。
172.權利要求170的方法，進一步包括 接收接觸傳感器信號；以及僅當所述接觸傳感器信號指明所述研磨面的至少一部分接觸所述組織時，照射所述組織。
173.權利要求170的方法，進一步包括將所述研磨面與所述組織的接觸保持在一定壓力范圍內以防止過度研磨。
174.權利要求170的方法，進一步包括將所述研磨面的接觸維持在足夠的壓力下以提供有效的所述組織的研磨。
175.權利要求170的方法，其中照射步驟進一步包括使用具有對所述組織具有抗炎效果的波長的電磁輻射進行照射。
176.用于同用于使用電磁輻射處理組織的手持設備一同使用的附件，包括部件，其具有研磨面和配置為將所述部件固定于所述手持設備上的安裝部，其中所述研磨面配置為在所述手持設備操作期間放置為接觸所述組織。
177.權利要求176的附件，其中所述部件進一步包括窗口，且所述研磨面為所述窗口的外表面，所述窗口配置為跨過所述手持設備的孔口的至少一部分安裝。
178.權利要求176的附件，其中所述研磨面被配置為當所述部件安裝在所述手持設備時，基本上鄰近所述手持設備的孔口的至少一部分。
179.權利要求176的附件，其中所述研磨面被配置為當所述部件安裝在所述手持設備上時，位于所述手持設備的孔口周圍。
180.權利要求176的附件，其中所述研磨面為微研磨面。
181.權利要求176的附件，其中所述研磨面包括微研磨凸起。
182.權利要求176的附件，其中在使用期間所述研磨面適于對所述組織施加壓力。
183.權利要求176的附件，其中所述研磨面具有在1和500微米峰到峰之間的表面粗糙度。
184.權利要求176的附件，其中所述研磨面具有在50和70微米峰到峰之間的表面粗糙度。
185.用于處理組織的手持光美容設備的適配器，包括孔口，用于將來自所述設備的電磁輻射傳送至所述組織；和連接器，用于允許所述適配器連接至所述設備和從所述設備移除。
186.權利要求185的適配器，進一步包括當所述適配器連接至所述設備時，配置為由所述設備探測的機構。
187.權利要求186的適配器，其中所述機構為識別機構，配置為由所述設備探測并提供有關所述適配器的識別信息給所述設備。
188.權利要求186的適配器，其中所述機構配置為由所述設備的傳感器探測。
189.權利要求186的適配器，其中所述機構為配置為由所述設備探測的電傳感器。
190.權利要求186的適配器，其中所述機構為配置為由所述設備探測的機械傳感器。
191.權利要求186的適配器，其中所述機構為配置為由所述設備探測的磁傳感器。
192.權利要求186的適配器，其中所述機構為配置為由所述設備探測的鄰近傳感器。
193.權利要求186的適配器，其中所述機構為配置為由所述設備探測的運動傳感器。
194.權利要求186的適配器，其中所述適配器進一步包括配置為傳輸傳感器信號至所述設備的傳感器。
195.權利要求185的適配器，其中所述傳感器為用于接觸傳感器、鄰近傳感器、和運動傳感器的組的傳感器。
196.權利要求185的適配器，其中所述設備包括孔口且所述適配器的孔口小于所述設備的孔口。
197.權利要求185的適配器，其中所述設備包括孔口且所述適配器的孔口大于所述設備的孔口。
198.權利要求185的適配器，其中所述設備包括孔口且所述適配器孔口的形狀不同于所述設備的孔口形狀。
199.權利要求185的適配器，進一步包括修改機構，用于改變從所述設備發射的電磁輻射的特性。
200.權利要求199的適配器，其中所述修改機構改變所述設備發射的所述電磁輻射的強度。
201.權利要求199的適配器，其中所述修改機構會聚所述設備產生的電磁輻射。
202.權利要求185的適配器，其中所述孔口為第一孔口，且進一步包括第二孔口。
203.權利要求185的適配器，進一步包括位于所述殼體內的真空機構和開口，且配置為將待處理組織的一部分拉進所述開口中。
204.用于處理組織的手持光美容設備的適配器，包括第一孔口，用于將來自所述設備的電磁輻射的至少第一部分傳輸至所述組織；第二孔口，用于將來自所述設備的電磁輻射的至少第二部分傳輸至所述組織；以及連接器，用于允許適配器連接至所述設備和從所述設備移除。
205.權利要求204的適配器，其中所述設備包括孔口，并且所述第一和第二孔口的一個或兩個的尺寸不同于所述設備的孔口。
206.權利要求204的適配器，其中所述設備包括孔口，且所述第一孔口小于所述設備的孔口。
207.權利要求204的適配器，其中所述設備包括孔口，且所述第一孔口形狀不同于所述設備的孔口。
208.權利要求204的適配器，其中所述第一孔口為圓形。
209.權利要求204的適配器，其中所述第一孔口大于所述第二孔口。
210.權利要求204的適配器，其中所述第一孔口包括延伸跨過所述孔口的材料，其對所述電磁輻射至少部分透明。
211.權利要求204的適配器，其中所述第一孔口包括過濾器。
212.權利要求204的適配器，其中所述第一孔口包括調整機構，其被配置為改變所述第一孔口的尺寸。
213.權利要求204的適配器，其中所述第一孔口可相對于所述第二孔口移動。
214.權利要求204的適配器，進一步包括定尺寸為阻擋所述第一孔口的不透明表面， 且其可相對于所述第一孔口移動，其中當所述第二孔口沒有被阻擋時，所述不透明表面定尺寸并定位為基本阻擋所述整個第一孔口。
215.權利要求204的適配器，進一步包括傳感器和電連通路徑，且其中定位所述電連通路徑的電連接器以接觸所述光美容設備的電連接器，使得當所述適配器連接至所述光美容設備時，所述傳感器通過所述電連通路徑與所述光美容設備電連通。
216.權利要求215的適配器，其中所述傳感器為相應于所述第一孔口的鄰近傳感器， 其中所述鄰近傳感器配置為當所述第一孔口位于所述組織附近時提供信號。
217.權利要求204的適配器，進一步包括當所述適配器連接至所述設備時，配置為由所述設備探測的機構。
218.權利要求217的適配器，其中所述機構為識別機構，配置為由所述設備探測，并提供有關所述適配器的識別信息給所述設備。
219.權利要求217的適配器，其中所述機構配置為由所述設備的傳感器探測。
220.用于處理組織的光美容設備，包括孔口 ；電磁輻射源，被配置為通過所述孔口發射電磁輻射到所述組織；電源，與所述電磁輻射源電連通并配置為提供電功率給所述電磁輻射源；控制器，與所述電源電連通；適配器安裝部，用于允許適配器連接到所述設備和從所述設備移除；以及探測器，用于探測所述適配器到所述適配器安裝部的連接，其中所述控制器被配置為響應于來自所述探測器的一個或多個信號而控制電磁輻射的發射。
221.權利要求220的光美容設備，進一步包括具有孔口的所述適配器，并配置為當所述適配器連接至所述適配器安裝部時，通過所述孔口傳輸來自所述電磁輻射源的電磁輻射。
222.權利要求220的光美容設備，進一步包括多個適配器，每個具有孔口并配置為當每個所述適配器連接至所述適配器安裝部時，通過所述孔口傳輸來自所述電磁輻射源的電磁輻射。
223.權利要求220的光美容設備，其中所述控制器被配置為響應于來自所述探測器的一個或多個信號而控制所述電磁輻射源的電磁輻射的發射。
224.權利要求220的光美容設備，其中所述電磁輻射源為第一電磁輻射源，且進一步包括第二電磁輻射源，其中所述控制器配置為響應于來自所述探測器的一個或多個信號而控制所述第一和第二電磁輻射源。
225.權利要求220的光美容設備，其中所述控制器被配置為響應于所述探測器的一個或多個信號而控制所述電磁輻射源的電磁輻射的強度。
226.權利要求220的光美容設備，其中所述控制器配置為響應于所述探測器的一個或多個信號而控制所述電磁輻射源的電磁輻射的波長。
227.用于使用電磁輻射處理組織的手持設備，包括 具有孔口的殼體；電磁輻射源，安裝在所述殼體中并定向為通過所述孔口發射輻射； 散熱元件，安裝在所述殼體中并與所述輻射源處于熱連通中；以及反饋回路，具有配置為獲取有關所述處理的信息的反饋傳感器； 其中所述反饋回路被配置為在操作期間提供來自所述反饋傳感器的信息。
228.權利要求227的手持設備，其中所述反饋回路被配置為探測細菌的存在。
229.權利要求227的手持設備，其中所述反饋回路被配置為探測炎癥的存在。
230.權利要求227的手持設備，其中所述反饋回路被配置為探測所述組織的溫度。
231.權利要求230的手持設備，進一步包括控制器，配置為當所述傳感器探測到高于閾值的溫度時，改變所述照射源發射的功率。
232.權利要求230的手持設備，進一步包括控制器，配置為當所述傳感器探測到低于閾值的溫度時，改變所述照射源發射的功率。
233.權利要求227的手持設備，其中所述反饋電路被配置為在操作期間提供信息給用戶。
234.權利要求227的手持設備，進一步包括與所述反饋傳感器連通的控制器，其中所述反饋傳感器被配置為在操作期間提供信號給所述控制器。
235.用于使用電磁輻射處理組織的手持設備，包括 具有孔口的殼體；電磁輻射源組件，安裝在所述殼體中且定向為通過所述孔口發射輻射；以及適配器，跨過所述孔口設置并配置為改變所述源組件發射的輻射。
236.權利要求235所述的手持設備，其中所述設備可同時運行在多個波長下。
237.權利要求235所述的手持設備，其中所述設備發射最大強度在可見光的藍光范圍內的第一波長段和最大強度在可見光的橙光范圍內的第二波長段。
238.權利要求235所述的手持設備，其中所述源在藍光范圍內發射可見光的第一波長，且在630nm、633nm或638nm中的一個發射可見光的第二波長。
239.權利要求235所述的手持設備，其中所述源發射最大強度在大約630nm、633nm或 638nm中的一個的可見光的第一波長。
240.權利要求239所述的手持設備，其中所述源發射電磁輻射的第二波長。
241.權利要求235所述的手持設備，其中所述適配器包括熒光材料。
全文摘要
公開了一種由消費者在非醫療環境使用的設備，其使用至少一個位于適當設備中的低功率電磁輻射源，該適當設備可放置在處理區域上充分長時間，或者可在每次處理中在處理區域上移動一次或多次。當光或其他電磁輻射被施加于皮膚時，該設備可在消費者皮膚表面移動或施加作用于消費者皮膚表面上或附近。該設備包括控制輻射源的控制系統，輻射源包括可獨立控制的不同部分。
文檔編號A61B18/18GK102348425SQ200780016581
公開日2012年2月8日 申請日期2007年3月6日 優先權日2006年3月10日
發明者A·V·比利科夫, G·B·阿特舒勒, I·亞羅斯拉夫斯基, J·S·喬, L·奧謝, S·威爾森 申請人:帕洛瑪醫療技術公司