專利名稱：用于耳廓再造手術的耳支架定位裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及醫療器械領域，特別涉及一種在耳廓再造手術中使耳支架放置位置與另ー側正常耳対稱的輔助器械。
背景技術：
耳廓再造手術適用于先天性或外傷等因素造成的外耳缺損、先天性小耳或無耳，耳廓再造手術一般分三期進行第一期，將擴張器埋于乳突區；第二期，取肋軟骨雕塑成型或使用人造耳支架埋在擴張器的位置，等待與耳部周圍長好；第三期，修整耳垂及殘耳組織。從上述過程可以看出，耳廓再造手術是ー種難度較高的整形外科手術，形態逼真 的耳廓需要與正常耳相同或接近于正常耳，影響手術效果的因素主要是耳支架的雕刻造型和耳支架埋入擴張器位置時的定位。目前，大部分的患者均有ー側是正常耳，耳廓再造手術僅需在另ー側制作出與正常耳対稱的耳朵即可。現有技術中，醫生在放置耳支架時，通過肉眼觀察、主觀判斷來定位耳支架，使其與正常耳對稱，由于手術時患者平躺，醫生的觀察角度受限，常造成視覺誤差，導致術后效果不理想。針對上述不足，需探索一種可精確定位耳支架使其與正常耳対稱的裝置，避免醫生通過肉眼觀察和主觀上的判斷來定位造成術后效果不理想。
發明內容
有鑒于此，本發明提供一種用于耳廓再造手術的耳支架定位裝置，該裝置可定位于頭部，通過對比測量正常耳的位置來確定耳支架的安放位置，解決現有技術中僅憑醫生的肉眼觀察和主觀判斷來定位耳支架而造成術后效果不理想的技術問題。本發明通過以下技術手段解決上述技術問題本發明的用于耳廓再造手術的耳支架定位裝置，包括頭圈、上端連接于頭圈前側正中的參考條、兩根上端與頭圈連接的耳定位條和一一對應連接于耳定位條上的對比測量條，所述兩根耳定位條豎直設置于參考條兩側，所述頭圈、參考條、耳定位條和對比測量條上均設有長度刻度。進一歩，所述頭圈上的長度刻度由頭圈前側正中向兩側對稱分布。進ー步，所述耳定位條上端與頭圈滑動配合。進ー步，所述對比測量條與耳定位條滑動配合。進ー步，所述對比測量條為軟條。進ー步，所述耳定位條上端與頭圈鉸接形成可前后擺動的結構，耳定位條上設置有0-180度量角器，量角器的O度刻度端固定在耳定位條上。進ー步，所述耳定位條上垂直設置可上下滑動的耳邊緣高度測量尺，所述耳邊緣高度測量尺以可沿其自身軸向往復滑動的方式設置于耳定位條上。
進ー步,所述頭圈前側正中設置有水平儀。本發明的有益效果本發明的用于耳廓再造手術的耳支架定位裝置，包括頭圈、上端連接于頭圈前側正中的參考條、兩根上端與頭圈連接的耳定位條和一一對應連接于耳定位條上的對比測量條，所述兩根耳定位條豎直設置于參考條兩側，所述頭圈、耳定位條和對比測量條上均設有長度刻度，使用吋，將頭圈戴在患者頭部，使參考條與面部中線重合，調節兩根耳定位條對稱于參考條，其中一根耳定位條位于正常耳部位，通過耳定位條測量出正常耳的高度位置，通過對比測量條測出正常耳的耳輪腳至眉心的距離、耳屏至外眼角的距離以及耳垂至鼻翼外側的距離，確定正常耳的前后位置，通過手術側的對比測量條及上述數據來定位耳支架，同時，還可通過對比測量尺測量耳廓高度，從而使耳支架與正常耳的前翻角度一致，使其與正常耳對稱，避免醫生肉眼觀察和主觀判斷造，提高手術效果。
下面結合附圖和實施例對本發明作進ー步描述。 圖I為本發明的結構示意圖；圖2為圖I的左視圖。
具體實施例方式以下將結合附圖對本發明進行詳細說明，如圖所示本實施例的用于耳廓再造手術的耳支架定位裝置，包括頭圈I、上端連接于頭圈I前側正中的參考條2、兩根上端與頭圈I連接的耳定位條3和一一對應連接于耳定位條3上的對比測量條4，頭圈I上設置ー個收緊機構制成大小可調的結構，以適應不同直徑的頭部，所述兩根耳定位條3豎直設置于參考條2兩側，所述頭圈I、參考條2、耳定位條3和對比測量條4上均設有長度刻度，長度刻度便于調整兩根耳定位條調整至對稱，以及對正常耳的位置數據進行測量，測量點主要選取耳輪腳、耳屏和耳垂，并以眉心、眼角和鼻翼作為參照，通過測量數據來確定手術側耳支架的放置位置，使用方便，定位準確。作為上述技術方案的進ー步改進，所述頭圈I上的長度刻度由頭圈I前側正中向兩側對稱分布，以頭圈前側正中為O刻度，便于在調整耳定位條對稱時讀數。作為上述技術方案的進ー步改進，所述耳定位條3上端套于頭圈I與之滑動配合，方便調節，可適應不同五官特征的患者。作為上述技術方案的進ー步改進，所述對比測量條4端部套于耳定位條3上并與之滑動配合，可上下調節，可適應不同患者眉眼鼻高度不同的需要。作為上述技術方案的進ー步改進，所述對比測量條4為軟條，可采用撓性較好的塑料制成，可隨面部特征的凹凸起伏彎曲，測量更精確。作為上述技術方案的進ー步改進，所述耳定位條3上端與頭圈I鉸接形成可前后擺動的結構，耳定位條3上設置有0-180度量角器6，量角器6的O度刻度端固定在耳定位條3上，使用時，通過ー側的耳定位條前后擺動來定位正常耳的前后邊緣位置，記錄量角器的角度值，然后根據該角度值來擺動另ー側的耳定位條，即可確定耳支架固定的前后位置，定位準確。作為上述技術方案的進ー步改進，所述耳定位條3上垂直設置可上下滑動的耳邊緣高度測量尺7，所述耳邊緣高度測量尺7以可沿其自身軸向往復滑動的方式設置于耳定位條3上，耳邊緣高度測量尺7 —般不超過5cm，可用于測量耳朵邊緣與顱骨的距離，采用上述以正常耳為參照的方法，同樣可以保證雙側耳邊緣距離顱骨的距離一致。作為上述技術方案的進一步改進，所述頭圈I前側正中設置有水平儀5，便于使患者平躺時面部垂直朝上進行觀察或進行其他操作。 最后說明的是，以上實施例僅用以說明本發明的技術方案而非限制，盡管參照較佳實施例對本發明進行了詳細說明，本領域的普通技術人員應當理解，可以對本發明的技術方案進行修改或者等同替換，而不脫離本發明技術方案的宗旨和范圍，其均應涵蓋在本發明的權利要求范圍當中。
權利要求
1.一種用于耳廓再造手術的耳支架定位裝置，其特征在于包括頭圈(I)、上端連接于頭圈(I)前側正中的參考條(2)、兩根上端與頭圈(I)連接的耳定位條(3)和一一對應連接于耳定位條(3)上的對比測量條(4)，所述兩根耳定位條(3)豎直設置于參考條(2)兩側，所述頭圈(I)、參考條(2)、耳定位條(3)和對比測量條(4)上均設有長度刻度。
2.根據權利要求I所述的用于耳廓再造手術的耳支架定位裝置，其特征在于所述頭圈(I)上的長度刻度由頭圈(I)前側正中向兩側對稱分布。
3.根據權利要求2所述的用于耳廓再造手術的耳支架定位裝置，其特征在于所述耳定位條(3)上端與頭圈(I)滑動配合。
4.根據權利要求3所述的用于耳廓再造手術的耳支架定位裝置，其特征在于所述對比測量條⑷與耳定位條⑶滑動配合。
5.根據權利要求4所述的用于耳廓再造手術的耳支架定位裝置，其特征在于所述對比測量條(4)為軟條。
6.根據權利要求5所述的用于耳廓再造手術的耳支架定位裝置，其特征在于所述耳定位條(3)上端與頭圈(I)鉸接形成可前后擺動的結構，耳定位條(3)上設置有0-180度量角器出)，量角器出)的0度刻度端固定在耳定位條(3)上。
7.根據權利要求6所述的用于耳廓再造手術的耳支架定位裝置，其特征在于所述耳定位條(3)上垂直設置可上下滑動的耳邊緣高度測量尺(7)，所述耳邊緣高度測量尺(7)以可沿其自身軸向往復滑動的方式設置于耳定位條(3)上。
8.根據權利要求1-7任意一項所述的用于耳廓再造手術的耳支架定位裝置，其特征在于所述頭圈(I)前側正中設置有水平儀(5)。
全文摘要
本發明公開了一種用于耳廓再造手術的耳支架定位裝置，包括頭圈、上端連接于頭圈前側正中的參考條、兩根上端與頭圈連接的耳定位條和一一對應連接于耳定位條上的對比測量條，所述兩根耳定位條豎直設置于參考條兩側，所述頭圈、耳定位條和對比測量條上均設有長度刻度，使用時，將頭圈戴在患者頭部，使參考條與面部中線重合，調節兩根耳定位條對稱于參考條，其中一根耳定位條位于正常耳部位，通過對比測量條測出正常耳的耳輪腳至眉心的距離、耳屏至外眼角的距離以及耳垂至鼻翼外側的距離，通過手術側的對比測量條及上述三個距離數據來定位耳支架，同時，還可通過對比測量尺測量耳廓高度，從而使耳支架與正常耳的前翻角度一致，使其與正常耳對稱。
文檔編號A61F11/00GK102727342SQ20121017686
公開日2012年10月17日 申請日期2012年5月31日 優先權日2012年5月31日
發明者樊東力, 潘正英, 王韶亮, 石小花, 趙映蘭 申請人:中國人民解放軍第三軍醫大學第二附屬醫院