核孔濾膜及其制造方法
【專利摘要】本發明提供一種核孔濾膜及其制造方法，其中，核孔濾膜包括濾膜基體和多個濾孔，所述濾膜基體厚度為7μm~10μm，多個所述濾孔分布在所述濾膜基體上且分布密度為5×105~1×106個/平方厘米；所述濾孔為圓形直通孔，所述圓形直通孔軸線與所述濾膜基體之間具有70°~90°的夾角，所述濾孔直徑為4.10μm~4.55μm。本發明中，由于濾孔為圓形直通孔，在實際應用中，小于濾孔直徑的微粒很容易通過濾孔，在滿足濾除精度和濾除率的同時，不會導致流量的衰減。
【專利說明】核孔濾膜及其制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及輸液器過濾技術，尤其涉及一種核孔濾膜及其制造方法。
【背景技術】
[0002]輸液療法已經成為現代臨床治療中不可缺少的常規手段和方法之一，在現代臨床治療中具有極其重要的地位。現有的輸液器上均安裝有過濾器，過濾藥液中的有害微粒，以避免輸液過程中出現交叉感染，減小藥液中不溶性微粒對人體的危害。 [0003]過濾器上應用的過濾材料有很多種，其中，核孔濾膜是一種能夠實現精密過濾的過濾膜。圖1為現有的核孔濾膜的示意圖；如圖1所示，現有的核孔濾膜的制造方法為:利用高能重離子輻照濾波基材，在濾膜基材上形成損傷區，再經過適當的化學蝕刻后形成濾膜基體I和濾孔2。其中，濾膜基材厚度在20 μ m以上，核孔濾膜的濾膜基體I厚度為14 μ m~120 μ m,濾孔2為錐形孔，也就是濾孔2的兩端直徑較大、中間直徑較小。
[0004]由于現有的核孔濾膜的濾孔2為錐形孔，該核孔濾膜應用到輸液器的過濾器上，在臨床應用過程中，錐形的濾孔2容易被藥液中的微粒堵塞，因而會造成輸液器流量的衰減，無法滿足臨床應用要求。
【發明內容】
[0005]本發明提供一種核孔濾膜及其制造方法，用于解決現有技術中核孔濾膜容易堵塞，致使輸液器流量衰減的技術缺陷。
[0006]本發明提供的一種核孔濾膜，包括濾膜基體和多個濾孔，所述濾膜基體厚度為
7μ m~10 μ m,多個所述濾孔分布在所述濾膜基體上且分布密度為5 X IO5^l X IO6個/平方厘米;
[0007]所述濾孔為圓形直通孔，所述圓形直通孔軸線與所述濾膜基體之間具有70。~90。的夾角，所述濾孔直徑為4.10 μm~4.55 μ m。
[0008]如上所述的核孔濾膜，其特征在于，所述分布密度為6 X IO5^l X IO6個/平方厘米；所述濾孔直徑為4.25 μ m~4.55 μ m。
[0009]如上所述的核孔濾膜，優選地，所述分布密度為7X 105~1X IO6個/平方厘米；所述濾孔直徑為4.20 μ m~4.55 μ m。
[0010]如上所述的核孔濾膜，優選地，所述圓形直通孔軸線與所述濾膜基體之間具有75°、0°的夾角。
[0011]如上所述的核孔濾膜，優選地，所述濾膜基體厚度為8 μ m~9 μ m。
[0012]本發明還提供一種核孔濾膜的制造方法，包括:
[0013]重離子對厚度為10 μ m~15 μ m的濾膜基材進行輻照，在所述濾膜基材上形成柱狀損傷點區域；其中，重離子運動方向與所述濾膜基材呈70°、0°夾角，重離子輻照密度為5 X IO5~I X IO6個/平方厘米；
[0014]蝕刻液對所述柱狀損傷點區域蝕刻，形成濾膜基體和濾孔；其中，所述濾孔為圓形直通孔，所述圓形直通孔軸線與所述濾膜基體之間具有70°、0°的夾角，所述濾膜基體厚度為7 μ m-10 μ m,所述濾孔分布密度為5 X 1O5^l X 1O6個/平方厘米，所述濾孔直徑為4.10 μ m~4.55 μ m。
[0015]如上所述的核孔濾膜的制造方法，其特征在于，所述分布密度為6X 105~1X 1O6個/平方厘米；所述濾孔直徑為4.25 μ m-4.55 μ m。
[0016]如上所述的核孔濾膜的制造方法，其特征在于，所述分布密度為7X 105~1 X 1O6個/平方厘米；所述濾孔直徑為4.20 μ m-4.55 μ m。
[0017]如上所述的核孔濾膜的制造方法，優選地，所述圓形直通孔軸線與所述濾膜基體之間具有75°、0°的夾角。
[0018]如上所述的核孔濾膜的制造方法，優選地，所述濾膜基體厚度為8 μm-9 μ m。
[0019]本發明提供的核孔濾膜及其制造方法，由于濾孔為圓形直通孔，在實際應用中，小于濾孔直徑的微粒很容易通過濾孔，在滿足濾除精度和濾除率的同時，不會導致流量的衰減。
【專利附圖】
【附圖說明】 [0020]圖1為現有的核孔濾膜的示意圖；
[0021]圖2為本發明實施例提供的核孔濾膜的示意圖；
[0022]圖3為本發明實施例提供的核孔濾膜與現有的核孔濾膜過濾過程的對比圖；
[0023]圖4為本發明實施例提供的核孔濾膜的制造方法的流程圖。
[0024]附圖標記:
[0025]1-濾膜基體；2_濾孔。
【具體實施方式】
[0026]參考圖2，圖2為本發明實施例提供的核孔濾膜的示意圖。
[0027]如圖2所示，本實施例提供的核孔濾膜，包括濾膜基體I和多個濾孔2，濾膜基體I厚度為7 μm-10 μ m,多個濾孔2分布在濾膜基體I上且分布密度為5 X 1O5^l X 1O6個/平方厘米。
[0028]濾孔2為圓形直通孔，圓形直通孔軸線與濾膜基體I之間具有70°、0°的夾角，濾孔2直徑為4.10 μ m-4.55 μ m。具體地，濾孔2可以是垂直于濾膜基體I的直圓孔，也可以與濾膜基體I呈70°、0°的夾角斜圓孔。濾膜基體I的材料可以為PC (聚碳酸酯)，也可以為PET (聚對苯二甲酸類塑料)等材料。
[0029]本實施例提供的核孔濾膜可以應用在輸液器的過濾器上，作為過濾器的過濾材料，臨床應用的輸液器應該滿足如下條件，輸液器的過濾精度為5μπκ濾除率需要達到90%以上，并且要求輸液器在10分鐘內輸液流量達到500ml，符合上述條件的輸液器才能滿足臨床應用要求，若核孔濾膜的濾孔直徑較大，雖可以滿足流量要求，但無法滿足過濾精度和濾除率的要求，若核孔濾膜的濾孔直徑較小，可以滿足濾除精度和濾除率的要求，但無法滿足流量的要求。
[0030]下面具體說明本實施例提供的核孔濾膜具體原理:
[0031]參考圖3，圖3為本發明實施例提供的核孔濾膜與現有的核孔濾膜過濾過程的對比圖。
[0032]如圖3所示，在臨床輸液應用中，為了滿足濾除精度5 μ m、濾除率90%以上的要求，現有的核孔濾膜的濾孔2為圓錐孔，在濾孔大經小于5 μ m時，濾孔小徑會縮小至4 μ m以下，當藥液中的微粒直徑大于濾孔大徑時，如微粒直徑為5.5 μ m，則該核孔濾膜可以將該微粒過濾，若微粒直徑小于濾孔大徑且大于濾孔小徑時，如微粒直徑為4 μ m，則該微粒就容易堵塞在濾孔小徑處，造成流量的大幅衰減。
[0033]而本實施例提供的核孔濾膜，濾孔2為圓形直通孔，濾孔直徑可以為
4.10 μm~4.55 μ m,當藥液中的微粒直徑大于濾孔直徑時，如微粒直徑為5.5 μ m，則該核孔濾膜可以將該微粒過濾，若微粒直徑小于濾孔直徑時，如微粒直徑為4 μ m，則該微粒很容易通過濾孔2，在滿足濾除精度和濾除率的同時，不會造成流量的衰減。
[0034]本實施例提供的核孔濾膜，由于濾孔2為圓形直通孔，在實際應用中，小于濾孔直徑的微粒很容易通過濾孔2，在滿足濾除精度和濾除率的同時，不會導致流量的衰減。
[0035]在上述實施例技術方案的基礎上，進一步地，濾孔直徑與分布密度具有反向相關關系，也就是說，濾孔2的分布密度越大，則濾孔直徑的下限值越小，濾孔直徑的上限值可以保持不變。具體地，分布密度每提高I X IO5的數量級，濾孔直徑的下限值減小0.5 μ m。
[0036]優選地，若濾孔2的分布密度為6Xl(TlX106個/平方厘米；則濾孔直徑為
4.25 μ m~4.55 μ m。若濾孔2的分布密度為7 X IO5~I X IO6個/平方厘米；則濾孔直徑為
4.20 μ m~4.55 μ m。
[0037]在上述實施例的基礎上，更優選的是，圓形直通孔軸線與濾膜基體I之間具有75°、0°的夾角，濾孔2的偏斜角度減小，則核孔濾膜的制造難度越低。進一步地，濾膜基體I厚度為8 μ m~9 μ m。同樣可以減小核孔濾膜的加工難度，降低制造成本。
[0038]參考圖4，圖4為本發明實施例提供的核孔濾膜的制造方法的流程圖。
[0039]如圖4所示，本實施例提供的核孔濾膜的制造方法，包括:
[0040]步驟101，重離子對厚度為10 μ m~15 μ m的濾膜基材進行輻照，在所述濾膜基材上形成柱狀損傷點區域；其中，重離子運動方向與所述濾膜基材呈70°、0°夾角，重離子輻照密度為5 X IO5^l X IO6個/平方厘米。
[0041 ] 具體地，對加速器的離子靶中的離子進行剝離，然后進行加速，在重離子能量達到設定值后，用電磁場對重離子束進行擴散，最后重離子束穿過靶窗，對厚度為1ο μ m~15 μ m的濾膜基材進行轟擊。
[0042]步驟201，蝕刻液對所述柱狀損傷點區域蝕刻，形成濾膜基體和濾孔；其中，所述濾孔為圓形直通孔，所述圓形直通孔軸線與所述濾膜基體之間具有70°、0°的夾角，所述濾膜基體厚度為? μm~1Ο μ m,所述濾孔分布密度為5 X IO5^l X IO6個/平方厘米，所述濾孔直徑為4.10 μ m~4.55 μ m。
[0043]具體地，對輻照后的濾膜基材表面進行物理處理，然后將濾膜基材放置在溫度4(T50°C、濃度為6摩爾/升的NaOH溶液中，對輻照過程中形成的柱狀損傷點區域進行擴孔成型，最后對成型的核孔濾膜表面和濾孔內進行清潔處理。
[0044]本實施例提供的核孔濾膜的制造方法,濾孔基材的厚度10 μ m~15 μ m,制造的核孔濾膜的濾孔直徑為圓形直通孔，在實際應用中，小于濾孔直徑的微粒很容易通過濾孔，在滿足濾除精度和濾除率的同時，不會導致流量的衰減。[0045]在上述實施例技術方案的基礎上，進一步地，濾孔直徑與分布密度具有反向關系，也就是說，濾孔的分布密度越大，則濾孔直徑的下限值越小，濾孔直徑的上限值不變。具體地，分布密度每提高I X IO5的數量級，濾孔直徑的下限值減小0.5 μ m。
[0046]優選地，若濾孔的分布密度為6Xl(Tl X IO6個/平方厘米；則濾孔直徑為4.25 μ m-4.55 μ m。若濾孔的分布密度為7X IO5~I X IO6個/平方厘米；則濾孔直徑為4.20 μ m~4.55 μ m。
[0047]在上述實施例的基礎上，更優選的是，圓形直通孔軸線與濾膜基體之間具有75°、0°的夾角，濾孔的偏斜角度減小，則核孔濾膜的制造難度越低。進一步地，濾膜基體厚度為8 μ m-9 μ m。同樣可以減小核孔濾膜的加工難度，降低制造成本。
[0048]最后應說明的是:以上各實施例僅用以說明本發明的技術方案，而非對其限制；盡管參照前述各實施例對本發明進行了詳細的說明，本領域的普通技術人員應當理解:其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分或者全部技術特征進行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應技術方案的本質脫離本發明各實施例技術方案的范圍。
【權利要求】
1.一種核孔濾膜，其特征在于，包括濾膜基體和多個濾孔，所述濾膜基體厚度為7μm-10 μ m,多個所述濾孔分布在所述濾膜基體上且分布密度為5 X IO5^l X IO6個/平方厘米; 所述濾孔為圓形直通孔，所述圓形直通孔軸線與所述濾膜基體之間具有70°、0°的夾角，所述濾孔直徑為4.10 μm-4.55 μ m。
2.根據權利要求1所述的核孔濾膜，其特征在于，所述分布密度為6X IO5^l X IO6個/平方厘米；所述濾孔直徑為4.25 μm-4.55 μ m。
3.根據權利要求1所述的核孔濾膜，其特征在于，所述分布密度為7X KTlXio6A/平方厘米；所述濾孔直徑為4.20 μm-4.55 μ m。
4.根據權利要求1-3任一項所述的核孔濾膜，其特征在于，所述圓形直通孔軸線與所述濾膜基體之間具有75°、0°的夾角。
5.根據權利要求f3任一項所述的核孔濾膜，其特征在于，所述濾膜基體厚度為8μ m~9 μ m。
6.一種核孔濾膜的制造方法，其特征在于，包括:重離子對厚度為10 μm-15 μ m的濾膜基材進行輻照，在所述濾膜基材上形成柱狀損傷點區域；其中，重離子運動方向與所述濾膜基材呈70°、0°夾角，重離子輻照密度為5X IO5~I X IO6個/平方厘米； 蝕刻液對所述柱狀損傷點區域蝕刻，形成濾膜基體和濾孔；其中，所述濾孔為圓形直通孔，所述圓形直通孔軸線與所述濾膜基體之間具有70°、0°的夾角，所述濾膜基體厚度為7 μm-10 μ m,所述濾孔分布密度為5 X IO5^l X IO6個/平方厘米，所述濾孔直徑為4.10 μ m~4.55 μ m。
7.根據權利要求6所述的核孔濾膜的制造方法，其特征在于，所述分布密度為6X IO5~I X IO6個/平方厘米；所述濾孔直徑為4.25 μm-4.55 μ m。
8.根據權利要求6所述的核孔濾膜的制造方法，其特征在于，所述分布密度為7X IO5~I X IO6個/平方厘米；所述濾孔直徑為4.20 μm-4.55 μ m。
9.根據權利要求61任一項所述的核孔濾膜的制造方法，其特征在于，所述圓形直通孔軸線與所述濾膜基體之間具有75°、0°的夾角。
10.根據權利要求61任一項所述的核孔濾膜的制造方法，其特征在于，所述濾膜基體厚度為8 μm-9 μ m。
【文檔編號】A61M5/165GK103830804SQ201210492346
【公開日】2014年6月4日 申請日期:2012年11月26日 優先權日:2012年11月26日
【發明者】柴家憶, 馬建強, 馬妍 申請人:嘉興珀爾濾材有限公司