包括模具去污裝置的由預型件制造容器的設備和去污方法

包括模具去污裝置的由預型件制造容器的設備和去污方法
【專利摘要】本發明涉及用于由熱塑性材料預型件制造容器的設備(100)，設備(100)至少包括：包括至少一模制裝置(10)的模制機(102)，模制裝置包括具有主軸線(O)的模具(12)，模具(12)包括至少兩個模具元件(14、16、34)，模具元件每個配有模制面(18、36)并在模具打開位置和閉合位置間活動安裝；對模制機(102)的模制裝置(10)承載的至少一模具(12)去污的去污裝置(40)，去污裝置(40)與模制機(102)相結合，至少包括紫外線輻射式輻照部件(42)，其特征在于，去污裝置(40)包括紫外線輻射式輻照部件(42)的驅動部件(46)，其被控制以將輻照部件(42)選擇性引入模制裝置(10)的模具(12)的組成的至少兩個模具元件(14、16、34)之間。
【專利說明】包括模具去污裝置的由預型件制造容器的設備和去污方法

【技術領域】
[0001]本發明涉及一種包括模具去污裝置的用于由預型件制造容器的設備和一種去污方法。
[0002]本發明更為特別地涉及一種用于由熱塑性材料預型件制造容器的設備，所述設備至少包括:
[0003]-模制機，模制機包括至少一個模制裝置，模制裝置包括模具，模具具有主軸線，所述模具包括至少兩個模具元件，每個模具元件配有一模制面，模具元件能在模具的打開位置和閉合位置之間活動地安裝，和
[0004]-對由模制機的模制裝置承載的至少一個模具進行去污的去污裝置，與模制機相結合的所述去污裝置至少包括紫外線輻射式輻照部件。

【背景技術】
[0005]從現有技術已知這類模具:所述模具被使用于制造容器，特別是制造熱塑性材料如PET(聚對苯二甲酸乙二醇脂)材質的瓶子。
[0006]圖1作為非限定性示例示意性地示出容器制造設備。
[0007]相同的制造設備特別是在文獻EP-A1-2.292.406中進行描述和表示過，可參照該文獻以了解對組件的詳細描述。
[0008]容器制造設備100包括模制機102(又被稱為“吹制機”)，模制機與用于對預型件進行熱調節的爐104相關聯。
[0009]模制機102包括循環輸送裝置106，循環輸送裝置沿周向配有數目為“N”個的工位，工位分別由模制裝置(或模制單元)10形成，模制裝置包括用于制造至少一個容器的模具12。
[0010]這類模制裝置10 (在圖2上表示)與在文獻EP-A1-2.292.406中所描述和表示的模制裝置相似，將可參照該文獻以關于其結構和其運行了解更為充分的細節。
[0011]熱塑性材料預型件在被引入模制裝置10之一的模具12中之前，在爐104中相繼地進行熱調節，預型件在模具中則被轉變成容器，特別是通過在預型件中注入至少一種壓力流體進行轉變。
[0012]有利地，這類設備100還包括填充機(未顯示)，填充機位于模制機102的下游，所制造的容器緊接地在填充機中進行填充，繼而通常通過封塞進行封閉。
[0013]在用于農產食品加工業的容器的制造領域中，通過各種方式尋求降低病原體對容器的微生物污染的風險。
[0014]這就是為什么 申請人:已提出過采用不同措施來消除病原體如微生物(細菌、霉菌等)的原因所在，這些病原體會影響在容器中所容納的食品。
[0015]在下文所引述的現有技術文獻作為非限定性示例示出這類措施，對于這類措施，可區分一方面旨在滅殺病原體的措施和另一方面旨在預防容器被這類病原體污染的措施，其中將可參照這些文獻以了解更為充分的細節。
[0016]文獻W0-2006/136498例如描述了對預型件的去污處理，所述處理在于在預型件的內壁上通過冷凝沉積基本均勻的殺菌劑汽膜。
[0017]有利地，對預型件的去污通過處理裝置108來實施，所述處理裝置在將預型件引入爐104中之前起作用。
[0018]這類處理用于滅殺病原體以對對應于將形成容器的所謂“食物”部分的預型件的至少內部進行去污，所述部分即指在填充后將與產品直接接觸的部分。
[0019]文獻FR-2.915.127描述了容器制造設備，所述容器制造設備包括保護圍殼，所述保護圍殼界定一區域，在所述區域的內部布置有吹制機類型的容器模制機，所述模制機通過傳送部件被供給預先在爐中進行過熱調節的預型件。
[0020]根據該文獻的教導，設備包括吹注系統，用于吹注過濾空氣到圍殼內部，以在圍殼中特別是建立超壓，來限制對從爐離開的預型件和已制造好的容器的污染風險。
[0021]在圖1上所示的設備100有利地包括這類圍殼110，所述圍殼與過濾空氣的吹注系統(未顯示)相關聯，這類部件具有預防制造環境被病原體污染的目的。
[0022]即便該文獻描述了空載污染的特殊風險，但通常還存在被病原體污染的風險，病原體在模制機102的環境中存在，能夠由空氣載運，因而將爐中的預型件及填充機中的制造好的容器污染。
[0023]還述及“交叉污染”的風險，以更為特定地表示在吹制機中由病原體污染來自爐的預型件的內部的風險，空載病原體于是會污染有利地要進行化學去污的預型件的內部。
[0024]文獻FR-2.940.964提出了改良型部件，用以收起在模制機(吹制機)的出口和填充機之間起作用的傳送輪，以便限制一些污染風險。
[0025]該文獻更為特別地教導這樣的污染風險:所述污染風險是在容器制造設備的機器的緊鄰環境中的任何人力干預(操作者)所固有的，所述干預例如用于維護，不過一般性地無論干預的目的如何。
[0026]當然，這些不同的措施示例有利地能夠在同一設備中組合實施，以強力降低污染風險。
[0027]在制造工藝的過程中，在預型件和/或容器的從空氣到設備的不同制造部件的直接環境中存在的病原體會直接地或間接地污染預型件和/或容器。
[0028]因此，不考慮特別是用旨在預防污染或實施去污的前述措施所獲得的結果，總是仍在尋求改進這些措施。
[0029]不過，特別是在模具的模制面上存在的病原體會通過轉移污染所制造的容器的外表面，由此，這樣被污染的容器(病原體載體)會變成設備的污染媒介。
[0030]被污染的容器特別是能夠引入這類病原體到填充單元中，填充單元是設備的對污染風險最為敏感的部分及應保持無菌環境。
[0031]更為一般性地，病原體僅僅存在于模具元件上，就會引起污染風險，即無論是在模制面上存在、還是在于閉合位置確定模具接合平面的相鄰的平坦表面上存在。
[0032]則因此存在容器或預型件的內部容積根據前述的“交叉污染”的風險被污染的污染風險，即病原體進入預型件或容器內部的風險。
[0033]文獻US-2010/0089009描述了使用輻照部件，如紫外線輻射燈，用以特別是對由塑料材料預型件模制容器的模制機的一部分進行殺菌，還對在給所述模制機配備的模制裝置之一中安裝的模具的模腔內部進行殺菌。
[0034]然而，這類解決方案對于獲得對模具內部的實際有效的去污而言并不令人滿意。
[0035]因此，模具元件、特別是其模制面，在現今并沒有受到用現有技術的已知解決方案進行令人滿意的任何特別處理。
[0036]此外，模具元件由一個或多個操作者手動更換，有時是非常頻繁的，這特別是由于從制造一種容器變換到制造另一種容器的需要，但是對此并沒有采取特殊方法來從中消除病原體。
[0037]因此還存在這樣的污染風險:所述污染風險與在模制機102的環境中存在人員以對模具12進行干預直接相關。


【發明內容】

[0038]本發明的目的特別是在于進一步降低與由熱塑性材料預型件制造容器的模具相關聯的污染風險。
[0039]為此，本發明提出前述類型的用于由熱塑性材料預型件制造容器的一種設備，其特征在于，所述去污裝置包括所述紫外線輻射式輻照部件的驅動部件，用以將所述輻照部件引入模制裝置的組成模具的所述至少兩個模具元件之間，所述驅動部件被控制以將所述輻照部件相對于模制機在以下位置之間進行移動:
[0040]-至少息止位置，在息止位置，輻照部件被收起以避免在去污裝置的所述輻照部件和模制機的模制裝置的模具之間的任何干擾，和
[0041]-至少工作位置，在工作位置，輻照部件被布置在處于其打開位置的模具的內部且在所述模具元件之間，以通過輻照對至少所述模制面進行去污。
[0042]有利地，所述輻照部件安裝成能相對于待去污模具活動，進行移動，以被選擇性地引入位于打開位置的模具的內部，從而對所述至少兩個模具元件的整個內表面進行去污，特別地不過非惟一性地對所述模制面進行去污。
[0043]輻照部件能夠同樣地對模具元件的平坦面進行輻照，所述平坦面與所述模制面相鄰，形成位于閉合位置的模具的接合面。
[0044]有利地，輻照部件能夠輻照包括水平的平坦表面的模具頸環，在生產時，預型件通過其環箍支靠在所述水平的平坦表面上，輻照部件還能夠輻照通過吹制或通過拉伸吹制(或噴嘴)轉變預型件的部件的一部分，特別是密封部件。
[0045]在已認識到與模具元件的模制面相關聯的污染風險后，本發明提出一種簡易的、可靠的和經濟的解決方案，用以消除這些風險，這樣還進一步改良在容器制造過程中的衛生度。
[0046]借助于根據本發明的去污裝置，紫外線輻射通過緊鄰所述至少兩個模具元件的表面、特別是模制面的輻照部件進行發射，借助于此，殺菌效果優化，在所述至少兩個模具元件的所有位點獲得去污。
[0047]僅僅是輻照部件在模具元件的表面附近的布置就允許獲得有效的去污，因此關鍵是將所述輻照部件、優選輻照源本身直接引入位于打開位置的模具元件之間。
[0048]相反地，在文獻US-2010/0089009中，輻照部件保持在外部，僅僅朝位于打開位置的模具的方向發射紫外線輻射，使得由模具的模制面接收到的UV輻射量非常有限，不足以聲稱獲得有效的去污。
[0049]此外，出于美觀(凸起裝飾件等)和/或功能(使用后容器的壓縮，抗碰撞的機械強度等)的原因，成形容器如瓶子的外觀的模制面經常經過加工。
[0050]輻照部件相對于每個模具元件的模制面鄰近布置，允許在確定的期限中在任何點完全地輻照所述模制面，即不會存在哪怕最小的未被輻照到的陰影區域。
[0051]此外，考慮到由輻照部件所發射的、特別是由模具元件的表面所接收的紫外線輻射能量，獲得最大的效率。
[0052]通過比較，特別是由于模具元件開放小，根據文獻US-2010/0089009的輻照部件不能輻照到所有模制面。
[0053]紫外線輻射從外部且與模具隔開一段距離發射，因而模制面的一部分未被輻照至IJ，這是因為所述部分處于陰影中。考慮到輻射源的布置，包括模具的模制裝置的一部分形成屏障，這種屏障阻擋紫外線輻射，導致出現陰影區域現象，對于模具中的凹空狀的模制面特別是如此的。
[0054]當模制面相對于待制造容器而言進行過加工時，陰影現象問題在模制面處同樣較為局部地出現。
[0055]有利地，根據本發明將輻照部件引入模具內部，允許解決使用現有技術出現的這種陰影區域問題，則整個模制面得到去污。
[0056]有利地，位于工作位置的輻照部件在模具內部的相對移動，特別是用于執行豎直掃掠的移動，使與所述面相接觸的紫外線輻射的入射角變化，這樣可進一步完善對模制面的輻照，甚至在模制面經過了加工時。
[0057]有利地，根據本發明的去污裝置允許自動地實施對至少所述模制面的至少一個去污步驟，借助于此，避免各種人力干預，如操作者在包括所述模制面的模具元件附近的干預。
[0058]更為一般性地，借助于用以進行模具更換所需的不同操作的自動化，消除了與存在這類操作者相關聯的所有污染風險。
[0059]實際上及如前文所闡釋的，操作者構成重要的引入病原體的潛在媒介，特別是污染模具元件的表面、其中包括模制面的潛在載體。
[0060]因此，去污有利地在至少一個模具上實施，所述至少一個模具在由預型件制造容器的設備的模制機的模制裝置中安裝。
[0061]有利地，在所述模制機不處于謂之生產模式的運行模式時，及特別地不過非惟一地在模具更換操作之后，使用去污裝置，以相繼地對模制機(吹制機)的模具進行處理。
[0062]根據本發明的其它特征:
[0063]-所述驅動部件將所述輻照部件根據坐標系(X，Y，Z)在空間中移動，以將所述輻照部件相對于模具的主軸線正交地引入到位于打開位置的模具的內部；
[0064]-所述模制機的包括位于打開位置的模具的模制裝置在由所述輻照部件進行去污的去污循環的過程中，相對于去污裝置處于固定的位置；
[0065]-所述驅動部件包括至少一個致動器，用于將所述輻照部件沿坐標系(X，Y，Z)的Y軸橫向地在所述息止位置和相對于模具的主軸線確定的中間位置之間移動；
[0066]-所述驅動部件包括至少一個致動器，用于將所述輻照部件沿坐標系(X，Y，Z)的X軸縱向地在息止位置或中間位置和所述工作位置之間移動；
[0067]-所述驅動部件包括至少一個致動器，用于將所述輻照部件沿坐標系(X，Y，Z)的Z軸豎向地移動，特別是以便對模具的模制面進行豎向掃掠；
[0068]-在模具上和/或在去污裝置上分別布置定位部件，用以確定輻照部件相對于模具的相對位置及操控與紫外線輻射式輻照部件相關聯的所述驅動部件；
[0069]-所述輻照部件至少在工作位置被激活；
[0070]-輻照部件在輻照部件間包括槽座，槽座用于由模制裝置的與模具相關聯的拉伸桿豎直地穿過，以用所述輻照部件對所述拉伸桿的至少一個部分進行去污；
[0071]-反射部件與所述輻照部件相結合，以朝至少所述模制面的方向聚焦所發射的紫外線輻射；
[0072]-輻照部件構成頭部，所述頭部具有的形狀與由所述至少兩個模具元件所界定的內部空間的互補，以引入和定位所述輻照部件在至少所述模制面的附近；
[0073]-輻照部件布置在去污裝置上，以朝相面對的模制面部分的方向或朝與模具元件所具有的用于預型件的開口相鄰的支承表面的一部分的方向向下豎直地發射紫外線輻射；
[0074]-去污裝置包括清潔部件，清潔部件選擇性地被控制以對至少所述模制面進行清潔。
[0075]本發明還涉及通過去污裝置進行去污的一種去污方法，所述去污裝置至少包括紫外線輻射式輻照部件，所述去污方法在于對至少一個具有主軸線的模具進行去污，模具由給由熱塑性材料預型件制造容器的設備的模制機配備的模制裝置承載，模具安裝成能在模具的打開位置和閉合位置之間活動，其特征在于，所述去污方法至少相繼地包括:
[0076]-定位步驟(b0)，定位步驟在于控制與紫外線輻射式輻照部件相關聯的驅動部件，以將所述輻照部件正交于模具的主軸線地引入處于模具的打開位置的所述模具的所述至少兩個元件之間；
[0077]-去污步驟(bl)，去污步驟在于用所述紫外線輻射式輻照元件對所述模具的元件的至少所述模制面進行輻照。
[0078]優選地，所述去污方法在定位步驟(b0)和去污步驟(bl)之前還包括清潔步驟(a)，清潔步驟至少在于在模具的至少所述模制面上施加清潔劑，以獲得潔凈的模具。
[0079]有利地，清潔步驟(a)在于用液態清潔劑潤濕至少所述模制面，及摩擦模制模具的元件的至少所述模制面，以獲得會繼而進行去污的潔凈的模具。
[0080]優選地，所述去污方法確定模具的去污循環，在模制機不處于謂為生產的運行模式、即由熱塑性材料預型件制造容器的模式時，應用所述模具的去污循環，以相繼地對模制機的至少一部分模具進行處理。
[0081]有利地，例如在給定的制造時間后或甚至確定數量的已制造容器后，通過設備的模制機進行的容器制造被中斷，以便實施對模制機的全部模具或部分模具的至少一個去污循環。
[0082]優選地，用根據本發明的去污裝置所實施的去污循環在更換模制機上的模具時系統性地應用，這樣用以在開始進行新的容器制造之前對至少新的安裝模具進行去污。
[0083]有利地，例如在倉庫中存儲模具之前，也實施去污循環，以對用于被更換的模具進行去污。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0084]通過閱讀接下來的詳細說明，本發明的其他特征和優點將得到體現，為理解所述詳細說明，將參照附圖，附圖中:
[0085]-圖1是局部地表示一制造設備示例的示意性俯視圖，所述制造設備包括至少一個模制機和相關聯的去污裝置；
[0086]-圖2是示出模制裝置的一示例的透視圖，所述模制裝置包括用于制造容器的模具，所述模具能夠安裝在根據圖1的設備的模制機上，該圖還示出位于打開位置的所述模亙.N 9
[0087]-圖3和圖4是示出模具去污裝置的一實施方式的透視圖；
[0088]-圖5是透視圖，整體示出根據圖3和圖4的去污裝置和模制裝置的一模具，并示意相對位于打開位置的模具定位并且其輻照部件處于息止位置的去污裝置；
[0089]-圖6是與圖5相似的透視圖，整體示出去污裝置和位于打開位置的模具，并表示出去污裝置的輻照部件，所述輻照部件在工作位置被引入處于打開位置的模具的內部。

【具體實施方式】
[0090]在接下來的說明書中，相似的或相同的元件通過相同的數字標記進行表示。
[0091]在本說明書中，非限定性地將根據說明書中給出的定義使用表述如“上游”和“下游”、“上部”和“下部”、“內部”和“外部”、“前”和“后”，并參照在附圖上示出的坐標系(X，Y，z)使用縱向、橫向和豎直方向。
[0092]如前文所述，圖1示出用于由熱塑性材料預型件制造容器的設備100。
[0093]設備100包括至少一個模制機(或吹制機)102，所述模制機包括至少一個模制裝置10，所述模制裝置包括一模具12，所述模具具有主軸線(O)。
[0094]優選地，模制裝置10的模具12的主軸線(O)與預型件的主軸線相關聯，所述預型件用于在模制機102位于謂為生產的運行模式時在其中被轉變成容器。
[0095]非限定性地在圖2上詳細示出(未顯示模制機102整體)模制裝置10的一實施例，所述模制裝置能夠配備于根據圖1的容器制造設備100的模制機102上。
[0096]這類模制裝置10用于通過對在爐104中預先進行熱調節的預型件進行吹制或拉伸吹制來制造熱塑性材料容器、特別是瓶子。
[0097]文獻FR-2.764.544描述和示出吹制或拉伸吹制部件，所述吹制或拉伸吹制部件在圖2上出于簡化的考量未示出，用于配備于這類模制裝置10上。
[0098]這類部件還有時被稱為吹制噴嘴和以吹制噴嘴的形式實施，可參照但僅僅作為非限定性示例給出的文獻以了解更為充分的細節。
[0099]如在圖2上可以看見的，模制裝置10主要包括模具12，所述模具包括至少兩個模具元件，它們分別為左模具元件14和右模具元件16。
[0100]兩個模具元件14、16安裝成能相對于彼此在模具12的打開位置和模具的閉合位置之間活動。
[0101]在本說明書中，所謂“模具元件”意指模具12的一種構件，該構件包括待制造容器的型腔或模制面的一部分，這不受模制裝置10的模具12的設計影響。
[0102]在該實施例中，兩個模具元件14、16特別是包括模制面18，兩個模具元件分別通過固定部件可拆卸地固定在模座20上，所述模座與每個模具元件14、16相關聯。
[0103]在示例中，模座20以能圍繞公共的轉動軸樞轉安裝的兩個承載結構的形式構成，轉動軸在這里根據坐標系(X，Y，Z)豎直地延伸。
[0104]每個模座20沿縱向方向包括一后部分，所述后部分與另一模座的后部分互補，以互相貫穿，來形成鉸鏈類型的鉸接件22。
[0105]作為變型，僅僅一個模座能活動地安裝，而另一模座是固定的，活動的模座被控制在打開或閉合位置之間移動。
[0106]模座20和因此模具元件14、16被選擇性地控制，以分別在模具12的打開和閉合位置之間圍繞轉動軸樞轉，而相互分開。
[0107]出于其運動學的原因，這類模制裝置10的模具12又被稱為“文件夾”(或英語術語為 “book-like opening”)模具。
[0108]文獻W0-2004/018181描述了這類模具12和引起模具打開或閉合的相關聯的控制部件的鉸接，將可參照該文獻以了解更為充分的細節。
[0109]優選地，通過牽引臂系統獲得將與模座20相固連的模具元件14、16在所述打開和閉合位置之間驅動，所述牽引臂系統的一端部在模座20上鉸接安裝，其另一自由端部包括例如滾輪24，所述滾輪能夠與互補的致動部件如凸輪進行配合，以選擇性地控制模具12的打開和閉合。
[0110]模制裝置10還包括鎖閉器26，所述鎖閉器縱向地在前部分布置，即與樞轉的鉸接件22相對，用于保證將模具12鎖定于閉合位置。
[0111]這類鎖閉器26也是已知的，因而不再更詳細地進行描述，所述鎖閉器26例如通過機構28進行控制，特別是具有在通過吹制轉變預型件的操作時來預防各種意外打開的作用，其中對于所述操作，最終壓力可達到40巴。
[0112]可例如參照文獻FR-2.646.802，以了解關于鎖閉器26的結構和運行的更為充分的細節。
[0113]當然，這僅僅涉及一示例，這是因為存在許多種鎖閉器，這些鎖閉器是不同的不過是等效的，能夠保證鎖定作用。
[0114]優選地，如在圖2上所示，模制裝置10是這樣的類型:其中，模具12的每個模具元件14、16以分開兩部分的設計來實施，這兩部分分別是殼和殼架，所述殼配有待制造容器的型腔或模制面的一部分，所述殼架用于支撐殼及本身能夠與模座20之一相固連。
[0115]模具12的這類設計具有特別是在文獻ΕΡ-0.821.641中所描述的許多優點，對于更多的細節將可參照該文獻。
[0116]每個模具元件14、16在內表面30中包括呈凹空狀的容器模制面18的一部分。
[0117]在模具元件14、16的內表面30中呈凹空地實施的每個模制面18，被豎直朝向的平坦面圍繞，在模具12處于閉合位置因而所述模具元件14和16相互抵靠接合時，所述平坦面形成模具的接合平面。
[0118]當模具12位于閉合位置時，接合在一起的兩個模具元件14、16確定水平的上表面31，所述上表面在中心具有開口 32，所述開口用于允許引入預型件。
[0119]水平的上表面31構成一方面用于被引入所述開口 32中的預型件的徑向環箍、另一方面用于吹制噴嘴的密封部件(未顯不)的支承表面。
[0120]優選地，上表面31屬于以兩部分形成的一分開的構件，這兩部分分別固定附接在模具元件14、16上，在圖2上可見的這類構件又被稱為“頸環”。
[0121]當待制造容器具有復雜形狀、特別是花瓣形的底部，會出現脫模問題。
[0122]這就是為什么則有利地設置單獨的元件34的原因所在，該單獨的元件被稱為模底，與模具元件14、16區分開，以使得模具12以三個元件制成。
[0123]形成模底的所述元件34包括模制面36，所述模制面36對應待制造容器的底部并與每個模具元件14、16的模制面18相互補。
[0124]優選地，模制裝置10包括拉伸桿38，所述拉伸桿用以在預型件轉變成容器時對預型件進行拉伸。
[0125]拉伸桿38沿坐標系(X，Y，Z)的Z軸豎直地、與模制裝置10的模具12的主軸線(O)同軸地延伸。
[0126]用于由熱塑性材料預型件制造容器的設備100包括模具去污裝置40，所述去污裝置如在圖1上所示，與設備的模制機102相關聯。去污裝置40與模制機102并置。
[0127]去污裝置40可以是固定的，在此情形中持久地在模制機102旁側保持在位，或者去污裝置仍可以能活動地安裝，以能夠相對于模制機102進行移動。
[0128]模具去污裝置40能夠選擇性地對至少一個模具12進行去污，所述至少一個模具通過模制機102的模制裝置10進行承載，如剛剛參照圖2所描述的模具12。
[0129]為此，去污裝置40至少包括紫外線輻射式輻照部件42。
[0130]優選地，所述輻照部件42被控制以選擇性地發射紫外線輻射。
[0131]輻照部件42例如由謂為“紫外線”(或UV)式的燈44形成，所述燈能夠發射紫外線福射，所述紫外線福射具有至少一個主譜線，所述主譜線的波長在10nm到400nm之間。
[0132]作為變型，輻照部件42例如由半導體類型的器件如“發光二極管”即“LED”或甚至“flash” (閃光燈)類型的燈組成。
[0133]優選地，紫外線輻射是“C”類型的輻射，即“UVC”輻射，該輻射具有至少一個主譜線，所述至少一個主譜線的波長在10nm到280nm之間。
[0134]有利地，“UVC”紫外線輻射具有的主譜線的波長等于254nm。
[0135]紫外線輻射的去污作用特別是源于其能夠穿過微生物細胞膜以改變細胞核的脫氧核糖核酸(即ADN)，這就是為什么紫外線輻射通過改變ADN能夠抑制微生物的有絲分裂的原因所在。
[0136]有利地，去污裝置40能夠將輻照部件42選擇性地引入模具12的組成元件14、16和34之間，所述模具安裝在模制裝置10上及處于其打開位置。
[0137]紫外線輻射式輻照部件42被引入模制裝置10之一的打開的模具12的內部，通過模制機102的循環輸送裝置106的轉動，模具在固定不動之前被帶至總體上與去污裝置40相面對的位置。
[0138]對于給定功率的輻照部件42，由被輻照表面所接收的能量數量越大，則紫外線輻射的殺菌作用越強。
[0139]借助于輻照部件42被引入位于打開位置的模具12內部，由于輻照部件42和模具元件14、16的內表面30或甚至模底元件34的內表面之間鄰近，因而獲得有效且可靠的去污。
[0140]輻照部件42沿正交于模具12的主軸線O的移動方向被引入位于打開位置的模具12中。
[0141]在根據圖2的“文件夾”類型的模具12的情形中，輻照部件42被引入一方面兩個模具元件14和16與另一方面模底元件34之間，這樣以便將所述輻照部件42至少布置在元件14、16的模制面18和模底元件34的模制面36附近，以對整體進行去污。
[0142]輻照部件42布置成與所述元件14、16和34的模制面18、36直接面對并盡量接近模制面，由形成所述輻照部件42的燈44所發射的紫外線輻射將以最優方式輻照包括所述模制面18、36的所述模具元件14、16的內表面30和模底的模制面36。
[0143]借助于相對燈44的給定功率特別是由模制面18、36所接收到的紫外線輻射的能量數量，在較短的時間段中獲得有效的去污。
[0144]有利地，去污裝置40包括驅動部件46，所述驅動部件與所述輻照部件42相關聯。
[0145]用于驅動紫外線輻射式輻照部件42的所述驅動部件46被控制以將所述輻照部件42引入模具12的內部且在模制機102的模制裝置10所承載的模具12的所述元件14、16和34間ο
[0146]由去污裝置40的輻照部件42對模具12進行去污的去污循環因而在模具12上進行，其中該模具安裝在模制機102上和處于其打開位置。
[0147]有利地，在模具12中不存在預型件或容器的情況下實施去污循環，以使得由模具12的所述元件14、16和34所界定的空間完全自由，以將所述部件42引入其中。
[0148]因此，當模制機102不制造容器時，通過去污裝置40實施對模具12的去污。
[0149]在給定的制造時間后或甚至在確定數量的制造好的容器后、或甚而在更換模具后，容器的制造例如被中斷，以實施去污循環。
[0150]涉及到根據圖2的文件夾類型的模具12，輻照部件42在這里被引入模具12的所述元件14、16和34之間，而所述模具12處于打開位置。
[0151]優選地，輻照部件42從前向后縱向地、正交于模具12的主軸線O被引入模具12的所述元件14、16和34之間。
[0152]優選地，驅動部件46被控制以在空間中、即沿坐標系(X，Y，Z)的三條軸線移動所述輻照部件42。
[0153]作為變型，驅動部件能夠沿坐標系(X，Y，Z)的由X軸形成的至少一條軸線移動所述輻照部件42。
[0154]借助于驅動部件46，這里由燈44形成的所述輻照部件42相對于模制機(102)能活動地安裝，模制機的模制裝置10之一包括待去污的模具12。
[0155]有利地，驅動部件46被控制以將所述輻照部件42在至少息止位置和工作位置之間移動。
[0156]優選地，輻照部件42能夠處于非工作狀態和工作狀態，在工作狀態，所述輻照部件42發射紫外線輻射。
[0157]有利地，所述輻照部件42至少在工作位置被激活。
[0158]息止位置對應輻照部件42被收起的位置，特別是用以避免去污裝置40的輻照部件42和模制機102的模制裝置10之間、特別是與模具12產生任何干擾。
[0159]當模制機102位于由預型件制造容器的謂為生產的運行模式時，輻照部件42特別是處于所述息止位置。
[0160]工作位置對應在圖6上示意的位置，在該位置，所述輻照部件42被引入模具12的所述元件14、16和34之間，以通過輻照對至少所述模制面18、36和更為一般性地對于模制元件14、16的所有內表面30進行去污。
[0161]在工作位置，輻照部件42因而被布置在處于其打開位置的模具12的內部且在模具12的所述元件14、16和34之間。
[0162]去污裝置40包括基架48，輻照部件42安裝成通過所述驅動部件46能相對于該基架、根據坐標系(X，Y，Z)三維地活動。
[0163]基架48包括至少一個板，所述板沿對應坐標系的Y軸的橫向方向延伸。
[0164]輻照部件42與第一支承件50相連在一起移動，所述第一支承件50安裝成能相對于第二中間支承件52沿豎直方向(Z軸)活動。
[0165]第二中間支承件52安裝成能沿縱向方向(X軸)相對于第三支承件54活動，所述第三支承件54安裝成能沿橫向方向(Y軸)相對于去污裝置40的基架48的板活動。
[0166]借助于不同的支承件50、52和54和與它們相關聯的驅動部件46，輻照部件42能夠在空間中被移動，更為特別地在所述息止位置和工作位置之間進行移動。
[0167]包括輻照部件42的第一支承件50安裝成通過滑架56能相對于第二支承件52豎直活動，所述滑架在與第二支承件52相固連的相關聯的導向件58上能滑動地安裝。
[0168]滑架56能夠通過第二支承件52所支撐的相關聯的第一致動器60被選擇性帶動沿Z軸移動。
[0169]優選地，第一致動器60是電致動器，所述電致動器控制滑架56移動，這樣使輻照部件42沿Z軸豎向定位、甚至移動。
[0170]第二支承件52與滑架62相固連，通過所述滑架62，第二支承件52安裝成能在和第三支承件54相固連的相關聯的導向件64上縱向地滑動。
[0171]滑架62能夠通過第三支承件54所支撐的相關聯的第二致動器66被選擇性地帶動沿X軸移動。
[0172]優選地，第二致動器66是氣動作動筒，氣動作動筒控制滑架62在由擋塊所確定的兩個極端位置之間移動。
[0173]去污裝置40處于一確定位置，在去污裝置和模具12之間的距離是已知的，以使得輻照部件42沿X軸的縱向定位得到簡化。
[0174]當第二支承件52縱向地從前向后滑動和反過來從后向前滑動時，輻照部件42則執行沿X軸的相同移動，這是因為所述輻照部件42與第二支承件52聯動。
[0175]第三支承件54整體上具有角形件的形狀，正交于基架48的橫向朝向的板縱向地延伸。
[0176]第三支承件54安裝成能相對于去污裝置40的基架48的板縱向地活動。
[0177]優選地，在第三支承件54移動時的驅動和導向作用通過不同的部件保證。
[0178]導向部件68在所述第三支承件54和基架48的板之間使用。
[0179]如在圖4上所示，導向部件68例如包括上部導軌67A和下部導軌67B，上部導軌和下部導軌與基架48的板相固連及相互平行地橫向延伸。
[0180]第三支承件54包括兩個滑塊69，當第三支承件54相對于基架48的板橫向地被帶動移動時，兩個滑塊分別在上部導軌67A和下部導軌67B上滑動。
[0181]借助于包括在圖4上可見的滑架72的第三致動器70，第三支承件54的移動被選擇性地進行控制。
[0182]例如通過螺釘73，使滑架72固定在第三支承件54上，以使滑架和第三支承件沿橫向方向聯動。
[0183]滑架72與導向件74進行配合，在所述導向件74上，滑架72沿Y軸橫向地滑動，從而帶動第三支承件54隨之一起移動，這樣使得輻照部件42移動。
[0184]優選地，第三致動器70是電致動器，允許在輻照部件42從息止位置向工作位置移動時使速度快速變化。
[0185]有利地，去污裝置40包括用于在所述輻照部件42處于所述息止位置時保護輻照部件42的保護部件76。
[0186]優選地，保護部件包括至少一個呈倒“U”形的罩殼76，所述罩殼界定槽座，在槽座中接納所述輻照部件42，所述罩殼76通過豎直地延伸的支承構件75固定在基架48的板上。
[0187]有利地，去污裝置40包括定位部件，用以確定輻照部件42相對于模具12的相對位置及對與紫外線輻射式輻照部件42相關聯的所述驅動部件46進行操控。
[0188]定位部件分別被布置在模具12上和/或去污裝置40上，有利地與支承件52、54和56聯動。
[0189]驅動部件46包括所述第三致動器70，用以沿坐標系(X，Y，Z)的Y軸橫向地移動所述輻照部件42，借助于此，輻照部件42在息止位置和相對于模具12的主軸線O確定的中間位置之間進行移動。
[0190]為確定所述中間位置，去污裝置40包括沿橫向方向定位用的第一定位部件78。
[0191]第一定位部件78允許操控第三致動器70，以橫向地定位第二支承件54，以使得輻照部件42相對于模具12的主軸線O定中心。
[0192]優選地，第一定位部件78是發射器/接收器類型，包括至少一個發射器和相關聯的接收器，所述發射器由激光光電元件形成，激光光電元件的激光束R在圖3上示出，相關聯的接收器布置在所述發射器下方。
[0193]優選地，形成第一定位部件78的發射器/接收器的至少一個互補靶標設置在包括模具12的模制裝置10上，以反射所發射的激光束。
[0194]不過，第一定位部件78相對于輻照部件42橫向地偏置，沿Y軸的定位基標取在模底元件34上，輻照部件42的所述中間位置對應這樣的位置:對于該位置，激光束R擦過模底元件34的周界。
[0195]驅動部件46繼而包括第二致動器66，用以沿坐標系(X，Y，Z)的X軸縱向地移動所述輻照部件42，借助于此，輻照部件42在所述中間位置和所述工作位置之間進行移動。
[0196]優選地，用于沿X軸定位的定位部件集成于第二致動器66，有利地以兩個擋塊、分別為前擋塊和后擋塊的形式實施，這兩個擋塊確定滑架62相對于導向件64的行程。
[0197]驅動部件46最后包括第三致動器60，用以沿坐標系(X，Y，Z)的Z軸豎向定位所述輻照部件42，特別是在模具12具有參照圖2前述類型的設計時相對于模底元件34進行定位。
[0198]有利地，第三致動器60借助于第二定位部件80進行操控。
[0199]在該實施方式中，輻照部件42例如包括四個呈“U”形的燈44:水平布置的兩個下部燈，以及豎向地布置和豎向地位于兩個下部燈上方的兩個上部燈。
[0200]兩個下部燈44特別是、不過非惟一地，用于輻照模底元件34的模制面36。
[0201]有利地，形成輻照部件42的燈44布置在去污裝置40的第一支承件50上，以向下豎直地朝相面對的模制面部分的方向發射紫外線輻射，所述模制面部分如在模具12包括模底元件34時的模制面36。
[0202]第二定位部件80特別是用以定位輻照部件42，以使得下部燈44位于模制面36的附近。
[0203]優選地及如在圖5上所示，第二定位部件80由探測器組成，所述探測器包括探測桿82，所述探測桿縱向地延伸，探測桿82的一端部圍繞橫向軸在所述探測器的支架上樞轉安裝。
[0204]探測器的支架與第一支承件50聯動，因此當所述第一支承件50通過第一致動器60被豎直地移動時，探測桿82也發生移動。
[0205]在工作位置將形成輻照部件42的燈44引入模具12的所述元件14、16和34之后，第一支承件50向下豎直地移動，直到探測桿82與模底元件34發生接觸。
[0206]在探測桿的自由端部與模底元件34的上部分發生接觸時，探測桿82發生樞轉，探測器于是發出信號，借助于該信號對第一致動器60進行操控，中止下降行程。
[0207]輻照部件42于是處于謂為初始工作位置的工作位置。
[0208]有利地，輻照部件42不處于固定的工作位置，而是相對于模具12的模制面18、36移動。
[0209]驅動部件46的第三致動器60實際上允許將所述輻照部件42相對于模制面18、36沿豎向移動。
[0210]借助于此，輻照部件42從(低)初始工作位置移動直到在圖6上所示的(高)最終工作位置，進行對模具元件14、16的掃掠，特別是包括模具12的所述模制面18的表面30。
[0211]從初始工作位置，輻照部件42有利地對模底元件34的模制面36進行輻照。
[0212]繼而，使用紫外線輻射來特別是對模制面18進行輻照的掃掠通過控制第一致動器60來獲得，致動器60使包括燈44的第一支承件50豎直地向上滑動。
[0213]優選地，當輻照部件42處于初始工作位置時，實施延時，以在開始由向最終工作位置的豎直移動產生的掃掠之前對模底元件34的表面36進行輻照。
[0214]有利地，在最終工作位置，輻照部件42能夠輻照水平上表面31，水平上表面屬于呈兩部分的頸環，圍繞用于在生產時將預型件引入模具12中的槽座32延伸。
[0215]有利地，因此也消除了預型件、即將要形成的容器的預型件的頸部被病原體污染的風險。
[0216]如所會理解的，去污裝置40的輻照部件42能夠通過紫外線輻射對模具12的可能具有會引起污染風險的病原體的所有表面進行去污。
[0217]當然，當輻照部件42豎直延伸在至少等于模具12高度的高度上時，不能執行這類掃掠，因而保證甚而以固定的工作位置對表面進行完全輻照。
[0218]不過，可以理解的是，豎直尺寸較小的輻照部件42是更為多用途的，以對不同類型的模具進行處理，涉及到模制面，例如2升容量的容器的模制面與0.33升容器的模制面是不同的。
[0219]有利地，這類掃掠趨向于在表面、特別是模制面18、36的各點處進一步加強總輻照，且這與輻照部件42相對于所述表面鄰近布置相結合。
[0220]有利地，與輻照部件42相關聯的驅動部件46包括第一致動器60、第二致動器66和第三致動器70，借助于這些致動器，輻照部件42能夠沿坐標系(X，Y，Z)的每個方向在空間中精確地定位和移動。
[0221]有利地，形成去污裝置40的輻照部件42的紫外線輻射式燈44被布置在第一支承件50上，以形成頭部，所述頭部整體上具有與由位于打開位置的模具12的所述元件14、16和34所界定的內部空間互補的形狀。
[0222]輻照部件42例如具有頭部，該頭部的形狀根據模具12允許將所述輻照部件42定位在特別是所述模制面18、36附近。
[0223]作為未顯示的變型，輻照部件42具有頭部，該頭部的形狀對于文件夾類型的模具12而言整體上是三角形的，其尺寸特別是根據在位于模具12的打開位置的模具元件14、16之間的角度來確定，待去污的模制面18不是共面的。
[0224]在該實施方式中，燈44相對于第一支承件50是固定的，作為變型，燈44能活動地安裝，以允許根據待去污模具12對燈的位置進行調節。
[0225]優選地，輻照部件42包括罩殼84，罩殼84用于對燈44進行保護，所述罩殼84水平地延伸在上部燈44的上方。
[0226]有利地，輻照部件42在其間界定一槽座，所述槽座用于被模制裝置10的拉伸桿38豎直地穿過，所述槽座允許所述拉伸桿38通過。
[0227]優選地，罩殼84包括縱向孔隙86，縱向孔隙沿豎向與槽座、即介于燈44之間的空間對齊。
[0228]有利地，去污裝置40能夠也用所述輻照部件42對拉伸桿38的至少一個部分進行去污，特別是拉伸桿38的自由端部，該自由端部用于在容器制造中以后與預型件的底部相接觸。
[0229]有利地，反射部件與所述輻照部件42相結合，用以特別是朝所述模制面18、36或甚至支承表面31的方向聚焦所發射的紫外線輻射。
[0230]反射部件例如由涂層組成，涂層在罩殼84的水平的下部面上或甚至在第一支承件50的在形成輻照部件42的燈44之間縱向地延伸的部分上在表面布置。
[0231]作為未顯示的變型，去污裝置40包括受控的清潔部件，所述清潔部件能夠選擇性地使用，以對所述模具元件14、16、34進行清潔，特別是對所述模制面18、36進行清潔。
[0232]有利地，清潔部件至少在于在所述模具元件14、16、34上、特別是在模具12的至少所述模制面18、36上施加清潔劑，以獲得潔凈的模具，這在通過由紫外線輻射式輻照部件42所執行的輻照進行的去污之前進行。
[0233]消毒例如這樣獲得:在包括模制面18的所述模具元件14、16的所有內表面30上以及在模底元件34的模制面36上施加具有殺菌特性的清潔劑。
[0234]有利地，例如通過噴霧或通過預先浸潤有清潔劑的刷具，所述清潔劑直接地施加在至少所述模制面18、36上。
[0235]優選地，這種化學式消毒與機械的涂刷措施相結合使用。
[0236]優選地，清潔部件包括至少一個刷具，由相關聯的驅動部件控制所述刷具在息止位置和工作位置之間移動。
[0237]在工作位置，刷具被布置在模具12的所述元件14、16和34之間，例如被帶動轉動，以清潔所述元件14、16和34，特別是清潔與刷具相接觸的模制面18、36。
[0238]有利地,清潔劑為液態。
[0239]作為變型，清潔劑為氣態。
[0240]優選地，液體清潔劑是乙醇基的，這具有對于制造模具12、甚至更為一般性地模制裝置10和模制機102所使用的材料而言無風險(化學侵蝕等)的優點，允許獲得所處理表面的快速干燥，而無殘留痕跡。
[0241]有利地，去污裝置40因而包括紫外線輻射式輻照部件42和清潔部件。
[0242]有利地，去污裝置40能夠相繼地對模制裝置10的模具12進行去污，如在圖1上所示和在前文所述的模制機類型的模制機102配有所述模制裝置。
[0243]優選地，去污裝置40保持在所述模制機102所包括的保護圍殼110的內部，去污裝置40有利地安置在由在圖1上的影線所表示的區域Z中。
[0244]在模制機102的謂為生產的運行模式及如在圖1上所示，模具12在所述區域Z中處于閉合位置。
[0245]為允許根據在圖3和圖4上所示的實施方式的去污裝置40在模制機102的區域Z中對模制裝置10之一的模具12作用，應預先打開模制裝置10，繼而模具12處于打開位置，輻照部件42則能夠被引入到模具12的元件14、16、34之間，以執行去污循環。
[0246]有利地，模制裝置10的解鎖和打開操作利用控制模塊自動地和選擇性地獲得，所述控制模塊優選地根據在前述文獻EP-2.292.406的教導來實施。
[0247]根據該文獻，控制模塊包括用于致動模制裝置10 (或根據該文獻的術語“單元”)的鎖定裝置(鎖閉器26)的第一致動裝置、和用于控制模制裝置10打開和閉合的第二致動
>j-U ρ?α裝直。
[0248]作為變型，模具12的自動打開利用根據文獻FR-2.954.207的教導所實施的控制模塊自動地獲得，對于該控制模塊的結構和其運行的詳細描述，將可參照該文獻。
[0249]借助于這類控制模塊，模制裝置10的模具12可在去污裝置40的安置區域Z中選擇性地被打開，而不需要操作者進入其中。
[0250]現在將描述根據參照圖3和圖4所描述的實施方式的去污裝置40的一實施例，所述去污裝置與在根據圖1的設備100中所安置的模制機102相結合。
[0251]本發明還提出一種通過去污裝置40進行去污的去污方法，所述去污裝置至少包括紫外線輻射式輻照部件42，所述去污方法在于對至少一個模具12進行去污，所述至少一個模具具有主軸線0，模具通過給由熱塑性材料預型件制造容器的設備100的模制機102配備的模制裝置10進行承載，模具安裝成能在模具的打開位置和閉合位置之間活動。
[0252]去污方法至少包括:
[0253]-定位步驟(b0)，定位步驟在于控制與紫外線輻射式輻照部件42相關聯的驅動部件46，以將所述輻照部件42引入到處于模具的打開位置的模具12的元件14、16、34之間；
[0254]-去污步驟(bl)，去污步驟在于用紫外線輻射式輻照部件42對模具12的所述元件14、16、34的至少所述模制面18、36進行輻照。
[0255]優選地，紫外線輻射式輻照部件42沿對應坐標系(X，Y，Z)的X軸的縱向方向、正交于模具12的主軸線O被引入模具12的內部。
[0256]定位去污裝置40的輻照部件42的定位步驟(b0)之前具有這樣的步驟:所述步驟在于控制模制機102的循環輸送裝置106轉動，以將模制裝置10帶至相對于去污裝置40而言確定的基準位置中。
[0257]借助于根據文獻EP-2.292.406的控制模塊的致動裝置，模制裝置10在去污裝置40的安置區域Z中被解鎖和繼而被打開，以使得在所述確定的基準位置中，模具12處于其打開位置。
[0258]有利地，不要求操作者進行任何干預來實施模制裝置10的定位、解鎖和打開，這些操作利用這類控制模塊自動地實施，從而降低了與在圍殼中任何的人員存在相關的對通常制造環境、特別是對模具12污染的風險。
[0259]根據步驟(b0)，通過操控由致動器60、66和70所形成的驅動部件46，將輻照部件42從息止位置移動到工作位置。
[0260]模具12的去污循環例如對應于在輻照部件42離開息止位置的時刻和有利地輻照部件回到該息止位置的時刻之間所采取的操作和/或措施。
[0261]作為未顯示的變型，去污裝置40的驅動部件46相對于圖3和圖4的實施例得到簡化，中間位置可特別是被取消。
[0262]在這類變型中，驅動部件46則包括至少一個致動器66，以將所述輻照部件42沿X軸、分別在息止位置和工作位置之間縱向地移動。
[0263]息止位置對應輻照部件42相對于包括模具12的模制裝置10回縮的位置，工作位置對應這樣的位置:在其中，輻照部件42被引入位于打開位置的模具12的內部，以對模具的至少所述模制面18、36進行去污。
[0264]如前文所述，輻照部件42可沿對應坐標系(X，Y，Z)的Z軸的豎直方向是固定的，或輻照部件可包括致動器，用于使輻照部件豎直地移動，特別是以實施對模制面18、36的掃掠。
[0265]比較這類變型和參照附圖在前文所描述的實施方式，則輻照部件42沿對應坐標系(X，Y，Z)的Y軸的橫向方向的可運動性，有利地允許結合定位部件來相對于模制裝置10的模具12自動地定位去污裝置40。
[0266]有利地，不需要停止循環輸送裝置106，相對于模具12的去污裝置40將模制裝置10帶引到位，以使得模制裝置10相對于裝置40的定位非常精確。
[0267]優選地，去污方法包括模具12的清潔步驟(a)，所述清潔步驟在去污步驟(bl)之前實施，以使得輻照去污在潔凈的模具上實施。
[0268]有利地，模具12的去污方法相繼地包括至少:
[0269]-清潔步驟(a)，清潔步驟至少在于在模具的至少所述模制面上施加清潔劑，以獲得潔凈的模具；和
[0270]-去污步驟(bl)，其在于通過紫外線輻射式輻照部件對所述潔凈的模具的至少所述模制面進行輻照。
[0271]特別地，在更換施模具12后或甚至在模制機102停止后重新開始容器制造之前，而在去污步驟(bl)之前進行清潔步驟(a)。
[0272]當執行模制機102的模具更換操作時，所述操作則有利地按照文獻FR-2.972.385的教導自動地實施。
[0273]作為變型，模制機102的模具更換操作通過至少一個操作者手動地實施。
[0274]優選地，清潔步驟(a)在于:用液態清潔劑潤濕至少所述模制面，及摩擦至少所述模制面以獲得潔凈的模具。
[0275]有利地，清潔步驟(a)應用于所述模具元件14、16、34的所有表面，特別是內表面30和支承表面31。
[0276]有利地，清潔步驟(a)通過前文所述類型的去污裝置40的清潔部件自動地實施。
[0277]作為變型，模具12的清潔步驟通過操作者手動地執行。
[0278]不過，即便自動或手動清潔步驟(a)在此情形中對安裝于模制裝置10上的模具12實施，但作為變型，這類步驟(a)也可在被拆卸的模具12上實施，特別是在模制機102的模具更換操作時在將這類模具12安裝到模制裝置10上之前。
[0279]有利地，在安裝模具前對模具12實施的清潔步驟(a)因而相對于其它操作并行實施。
[0280]可以理解的是，無論是否存在模具更換的前述所有操作的自動化，取消了至少一個操作者的任何干預，而可消除與在設備100的模制機102的圍殼中存在人員相關的污染風險。
[0281]但是，對在模制裝置10上安裝或不安裝的模具12的清潔步驟可由操作者手動地執行，這是因為輻照去污步驟(bl)允許繼而消除特別是在模制面18、36上存在的病原體，包括在操作者干預后模具12受污染所產生的病原體。
[0282]輻照部件42的定位步驟(b0)在于控制與輻照部件42相關聯的驅動部件46，以將驅動部件從在圖5上所示的息止位置移動到在圖6上所示的工作位置。
[0283]有利地，息止位置對應這樣的位置:在其中，去污裝置40的輻照部件42被收起，以使得能自由通行到模具12，來執行例如模具12的更換或甚至清潔步驟(a)。
[0284]此外，輻照部件42在息止位置收起，還可避免在模制機102處于謂為生產的運行模式時與模制機102的模制裝置10產生任何干擾。
[0285]有利地，去污裝置40包括控制單元(未顯示)，控制單元能夠控制不同的致動器60,66和70，及能借助于特別是通過定位部件78和80所提供的信息來對所述不同的致動器進行操控。
[0286]為移動在息止位置由罩殼76保護的輻照部件42，控制單元首先控制第一致動器60來引起包括燈44的第一支承件50沿Z軸豎直下降，且下降直到使得，第二定位部件80的探測桿82與罩殼76固定在其上的構件75所承載的擋塊88相接觸。
[0287]控制單元然后控制第三致動器70，以沿Y軸橫向地移動輻照部件42，第一定位部件78則起作用，以相對于位于打開位置的模具12的主軸線O定位輻照部件42。
[0288]優選地，第三致動器是電致動器，橫向移動行程包括朝模具12方向的第一快速行程，繼而是緩慢接近行程。
[0289]優選地，在所述輻照部件42在模具12的軸線O上定中心時的橫向移動中或橫向移動后，控制單元控制第一致動器60，以便沿Z軸豎直地移動輻照部件42。
[0290]借助于例如在對應罩殼76高度的初始高度的這類豎直布置，可防止所述輻照部件42和模底元件34之間發生任何干擾風險。
[0291]實際上，控制單元繼而控制第二致動器66，以將所述輻照部件42沿X軸縱向地引入打開的模具12中且在所述模具元件14、16、34之間，以便在至少所述模制面18、36附近布置所述輻照部件42。
[0292]輻照部件42此時處于其工作位置，不過所述工作位置有利地并不是惟一的和固定的位置，這特別是在模具12包括模底元件34時如此。
[0293]優選地，控制單元則控制第一致動器60，以引起輻照部件42下降直到第二定位部件80的探測桿82探測到模底元件34。
[0294]下降行程于是被中止，輻照部件42處于初始工作位置，在初始工作位置，特別是下部燈44被布置在模底元件34的模制面36附近。
[0295]控制單元于是控制第一致動器60，以使得輻照部件42執行從該初始工作位置到最終工作位置的豎直移動，在該移動的過程中，燈44將用紫外線輻射對每個模具元件14、16的所有內表面30進行輻照，特別是對模制面18進行輻照，這樣以對模具12進行去污。
[0296]有利地，當模制裝置10包括拉伸桿38時，所述拉伸桿38在引入輻照部件42到處于打開位置的模具12內之前被降低。
[0297]拉伸桿38被接納在槽座中，所述槽座為此設置在燈44之間，借助于此，所述拉伸桿38的至少一個部分也被去污。
[0298]作為變型，在將輻照部件42布置于工作位置之后，將拉伸桿38向下降低。
[0299]為了將輻照部件42向息止位置移動，控制單元朝相反的方向控制致動器60、66和70，直到將所述輻照部件42帶回至由罩殼76界定的槽座中，從而完成至少一個去污循環。
[0300]去污方法確定對模具12去污的去污循環，在所述模制機102不在謂為生產的運行模式時，應用所述去污循環，以相繼地處理模制機102的模具12中的至少一部分模具。
[0301]有利地，與模制機相關聯的去污裝置40根據如在前文所描述的去污循環，相繼地實施對設備100的模制機102的不同模具12的全部或至少一部分的去污。
[0302]優選地，在每個模具12去污后或在所有待去污模具12被去污后，系統性地執行回到所述息止位置中。
[0303]作為變型，在模具12去污后，將輻照部件42僅僅從工作位置移動到一中間位置，以減少循環時間，特別是在不存在去污裝置40的輻照部件42與模制機102的模制裝置10干擾的風險的情況下。
[0304]模制機102的循環輸送裝置106被帶動轉動，以將下一模制裝置10帶至相對于去污裝置40而言確定的基準位置中，以便對其模具12進行去污。
【權利要求】
1.用于由熱塑性材料預型件制造容器的設備(100)，所述設備(100)至少包括: -模制機(102)，模制機包括至少一個模制裝置(10)，模制裝置包括具有主軸線(0)的模具(12)，所述模具(12)包括至少兩個模具元件(14、16、34)，每個模具元件帶有一模制面(18,36)模具元件安裝成能在模具的打開位置和閉合位置之間活動，和 -去污裝置(40)，用于對由模制機(102)的模制裝置(10)承載的至少一個模具(12)進行去污，所述去污裝置(40)與所述模制機(102)相結合，所述去污裝置至少包括紫外線輻射式輻照部件(42)， 其特征在于，所述去污裝置(40)包括驅動部件(46)，用于驅動所述紫外線輻射式輻照部件(42)，以將所述紫外線輻射式輻照部件(42)引入模制裝置(10)的組成模具(12)的所述至少兩個模具元件(14、16、34)之間， 所述驅動部件(46)被控制以將所述紫外線輻射式輻照部件(42)相對于模制機(102)在以下位置之間移動: -至少息止位置，在息止位置，紫外線輻射式輻照部件(42)被收起，以避免所述去污裝置(40)的紫外線輻射式輻照部件(42)和所述模制機(102)的模制裝置(10)的模具(12)之間發生任何干擾，和 -至少工作位置，在工作位置，紫外線輻射式輻照部件(42)被布置在處于模具的打開位置的模具(12)的內部且在所述模具(12)的模具元件(14、16、34)之間，以通過輻照對至少所述模制面(18、36)進行去污。
2.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述驅動部件(46)將所述紫外線輻射式輻照部件(42)根據坐標系(X，Y，Z)在空間中移動，以將所述紫外線輻射式輻照部件相對于模具(12)的主軸線(0)正交地引入到位于打開位置的模具(12)的內部。
3.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述模制機(102)的包括位于打開位置的模具(12)的模制裝置(10)在由所述紫外線輻射式輻照部件(42)進行去污的去污循環的過程中，相對于去污裝置(40)處于固定的位置。
4.根據權利要求1到3中任一項所述的設備，其特征在于，所述驅動部件(46)包括至少一個致動器(70)，用于將所述紫外線輻射式輻照部件(42)沿坐標系(X，Υ，Ζ)的Υ軸橫向地在所述息止位置和相對于模具的主軸線(0)確定的中間位置之間移動。
5.根據權利要求1到4中任一項所述的設備，其特征在于，所述驅動部件(46)包括至少一個致動器(66)，用于將所述紫外線輻射式輻照部件(42)沿坐標系(X，Υ，Ζ)的X軸縱向地在息止位置或中間位置和所述工作位置之間移動。
6.根據權利要求1到5中任一項所述的設備，其特征在于，所述驅動部件(46)包括至少一個致動器(60)，用于將所述紫外線輻射式輻照部件(42)沿坐標系(X，Υ，Ζ)的Ζ軸豎向地移動，特別是以便對模具的模制面(18、36)進行豎向掃掠。
7.根據權利要求1到6中任一項所述的設備，其特征在于，在模具(12)上和/或在去污裝置(40)上分別布置定位部件(78，80)，用以確定紫外線輻射式輻照部件(42)相對于模具(12)的相對位置及操控與紫外線輻射式輻照部件(42)相關聯的所述驅動部件(46)。
8.根據前述權利要求中任一項所述的設備，其特征在于，所述紫外線輻射式輻照部件(42)至少在工作位置被激活。
9.根據前述權利要求中任一項所述的設備，其特征在于，紫外線輻射式輻照部件(42)在所述紫外線輻射式輻照部件間包括槽座，所述槽座用于由模制裝置(10)的與模具(12)相關聯的拉伸桿(38)豎直地穿過，以用所述紫外線輻射式輻照部件(42)對所述拉伸桿(38)的至少一個部分進行去污。
10.根據前述權利要求中任一項所述的設備，其特征在于，反射部件與所述紫外線輻射式輻照部件(42)相結合，以朝至少所述模制面(18、36)的方向聚焦所發射的紫外線輻射。
11.根據前述權利要求中任一項所述的設備，其特征在于，去污裝置(40)包括清潔部件，清潔部件選擇性地被控制以對至少所述模制面(18、36)進行清潔。
12.通過去污裝置(40)進行去污的去污方法，所述去污裝置至少包括紫外線輻射式輻照部件(42)，所述去污方法在于對至少一個具有主軸線(0)的模具(12)進行去污，模具由給由熱塑性材料預型件制造容器的設備(100)的模制機(102)配備的模制裝置(10)承載，模具安裝成能在模具的打開位置和閉合位置之間活動，其特征在于，所述去污方法至少相繼地包括: -定位步驟(b0)，定位步驟在于控制與紫外線輻射式輻照部件(42)相關聯的驅動部件(46)，以將所述紫外線輻射式輻照部件(42)正交于模具(12)的主軸線(0)地引入處于模具的打開位置的所述模具(12)的至少兩個元件(14、16、34)之間； -去污步驟(bl)，去污步驟在于用所述紫外線輻射式輻照元件(42)對所述模具(12)的元件(14、16、34)的至少所述模制面(18、36)進行輻照。
13.根據權利要求11所述的去污方法，其特征在于，所述去污方法在定位步驟(b0)和去污步驟(bl)之前還包括: -清潔步驟(a)，清潔步驟至少在于在模具(12)的至少所述模制面(18、36)上施加清潔劑，以獲得潔凈的模具。
14.根據權利要求12或13所述的去污方法，其特征在于，所述去污方法確定模具(12)的去污循環，在模制機(102)不處于謂為生產的運行模式時，應用所述模具的去污循環，以相繼地對模制機(102)的至少一部分模具(12)進行處理。
【文檔編號】A61L2/10GK104284681SQ201380023458
【公開日】2015年1月14日 申請日期:2013年5月2日 優先權日:2012年5月4日
【發明者】F·奎特爾, J·德馬爾, S·勒泰利耶, B·耶格 申請人:西德爾合作公司