專利名稱：一種去離子水槽的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種去離子水槽，特別是涉及一種外表面帶有防水擋板的去離子水槽。
背景技術：
在研磨工藝中，晶圓在研磨結束后都必須經過清洗和干燥的后處理工藝，以確保能夠充分的去除晶圓表面在研磨過程中留下來的殘余雜質，并得到干燥的晶圓表面，才能夠傳送回原來晶圓存放的晶舟里。晶圓干燥的工藝主要是在干燥槽模塊內晶圓被傳送到去離子水水槽內浸泡，在水槽內的晶圓過渡傳感器即時偵測晶圓所處的位置，并把晶圓的位置信號傳輸給執行機構，由執行機構把晶圓過渡到高溫槽，在這個過渡的程中，一定量配比的異丙醇和氮氣混合后，噴灑在晶圓表面，由于分散后的異丙醇具有較強的表面張力和擴散性， 加速了晶圓表面去離子水的流動和蒸發，達到了初步干燥的目的。然而，在干燥槽模塊的去離子水槽中，晶圓過渡傳感器由于密封圈老化，密封效果減弱水進過渡傳感器而使其表面受阻擋，導致晶圓誤被探測而發出報警信號，這時整個研磨工藝中斷，從而導致晶圓研磨的不持續性，造成晶圓存在表面缺陷。晶圓過渡傳感器通過磁鐵吸附在干燥槽模塊中的去離子水槽的外表面，通過密封圈隔離溢流水的進入，由于去離子水槽中的水流沿著槽外壁時時不斷的流經過晶圓過渡傳感器的表面，長時間暴露在去離子水中導致傳感器密封圈加速老化，密封效果減弱水進入過渡傳感器表面引起誤報警。本發明提供一種外表面帶有防水擋板的去離子水槽，使水槽內溢出來的水流向發生改變而不經過晶圓過渡傳感器，不但延長傳感器密封圈的壽命，也保護了傳感器正常工作。本發明所提供并僅僅作為示例但不對發明構成限制的優選實施例在具體實施方式
中有所體現。
發明內容
鑒于上述問題，本發明的目的在于提供一種外表面帶有防水擋板的去離子水槽。使水槽內溢出來的水流向發生改變而不經過晶圓過渡傳感器，不但延長傳感器密封圈的壽命， 也保護了傳感器正常工作。本發明對提高設備的穩定性，對研磨工藝的持續性有良好的效果，非常適于實用。本發明的目的及解決其技術問題是采用以下技術方案來實現的。本發明提出的一種去離子水槽，其包括水槽主體，過渡傳感器，上擋板和側擋板。 過渡傳感器固定在離子水槽的外表面上，上擋板固定在過渡傳感器的上方，側擋板與上擋板相連接，固定在過渡傳感器的兩側。本發明的目的及解決其技術問題還可采用以下技術措施進一步實現。前述的去離子水槽，其過渡傳感器通過磁鐵吸附去離子水槽的外表面。前述的去離子水槽，其擋板材質為聚偏氟乙烯板(PVDF板)。前述的去離子水槽，其側擋板與上擋板的連接設置成自上而下的斜坡狀。前述的去離子水槽，其上擋板為平板，或呈波浪形，或呈幾何形。上述說明僅是本發明技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本發明的技術手段，而可依照說明書的內容予以實施，并且為了讓本發明的上述和其他目的、特征和優點能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，并配合附圖，詳細說明如下。
參考所附附圖，以更加充分的描述本發明的實施例。然而，所附附圖僅用于說明和闡述，并不構成對本發明范圍的限制。圖1繪示外表面帶有防水擋板的去離子水槽結構圖。圖2繪示圖1去離子水槽的A向視圖。
具體實施例方式
為更進一步闡述本發明為達成預定發明目的所采取的技術手段及功效，以下結合附圖及較佳實施例，對依據本發明提出外表面帶有防水擋板的去離子水槽，詳細說明如下。本發明的不同實施例將詳述如下，以實施本發明的不同的技術特征，可理解的是， 以下所述的特定實施例的單元和配置用以簡化本發明，其僅為范例而不限制本發明的范圍。如圖1所示，圖1繪示了外表面帶有防水擋板的去離子水槽結構圖。其中1為去離子水槽主體，2為上擋板，3為側擋板，4為過渡傳感器。過渡傳感器通過磁鐵吸附去離子水槽的外表面。在過渡傳感器上方固定上擋板，在過渡傳感器兩側固定側擋板，上擋板與側擋板密封連接，從而將過渡傳感器固定在一個獨立的密閉空間里，使液體從去離子水槽中溢出時向下流動的方向發生改變，過渡傳感器就不會與向下流動的液體接觸，從而避免了由于晶圓過渡傳感器密封圈老化，密封效果減弱水進入過渡傳感器使其表面被阻擋，導致晶圓誤被探測而發出報警信號中斷整個研磨過程，導致晶圓研磨的不持續性，造成晶圓存在表面缺陷。本發明所涉及的擋板可為聚偏氟乙烯板(PVDF板)。側擋板與上擋板的連接設置成自上而下的斜坡狀，以便于液體向下流動。上擋板為平板，或呈波浪形，或呈幾何形，以利于液體向下流動。通過說明和附圖，給出了具體實施方式
的特定結構的典型實施例。盡管上述發明提出了現有的較佳實施例，然而，這些內容并不作為局限。對于本領域的技術人員而言，閱讀上述說明后，各種變化和修正無疑將顯而易見。因此，所附的權利要求書應看作是涵蓋本發明的真實意圖和范圍的全部變化和修正。在權利要求書范圍內任何和所有等價的范圍與內容，都應認為仍屬本發明的意圖和范圍內。
權利要求
1.一種去離子水槽，其包括水槽主體，過渡傳感器，上擋板和側擋板，其特征在于，過渡傳感器固定在離子水槽的外表面上，上擋板固定在過渡傳感器的上方，側擋板與上擋板相連接，固定在過渡傳感器的兩側。
2.如權利要求1所述的去離子水槽，其特征在于，過渡傳感器通過磁鐵吸附去離子水槽的外表面。
3.如權利要求1所述的去離子水槽，其特征在于，擋板材質為聚偏氟乙烯板(PVDF板)。
4.如權利要求1所述的去離子水槽，其特征在于，側擋板與上擋板的連接設置成自上而下的斜坡狀。
5.如權利要求1所述的去離子水槽，其特征在于，上擋板為平板，或呈波浪形，或呈幾何形。
全文摘要
本發明提供一種外表面帶有防水擋板的去離子水槽，其包括水槽主體，過渡傳感器，上擋板和側擋板。過渡傳感器固定在離子水槽的外表面上，上擋板固定在過渡傳感器的上方，側擋板與上擋板相連接，固定在過渡傳感器的兩側。使水槽內溢出來的水流向發生改變而不經過晶圓過渡傳感器，不但延長傳感器密封圈的壽命，也保護了傳感器正常工作，避免晶圓誤被探測而發出報警信號中斷整個研磨過程，導致晶圓研磨的不持續性，造成晶圓存在表面缺陷，非常適于實用。
文檔編號B08B3/04GK102441542SQ20111025023
公開日2012年5月9日 申請日期2011年8月29日 優先權日2011年8月29日
發明者倪立華, 王貝易, 邢杰, 陳勇志 申請人:上海華力微電子有限公司