專利名稱：無堿玻璃的制作方法
技術領域：
本發明涉及無堿玻璃，具體而言涉及 適合用于液晶顯示器、有機EL顯示器等平板顯示器用玻璃基板、芯片尺寸封裝(CSP)、電荷耦合元件(CCD)、等倍接近型固體攝像元件 (CIS)等圖像傳感器用玻璃基板的無堿玻璃。
背景技術：
近年來，CSP等圖像傳感器的小型化、薄型化、輕量化越來越發達。以往，這些傳感器部由樹脂的封裝進行保護，但是，近年來，為了進一步推進小型化等，開始采用在Si芯片上粘貼玻璃基板進行保護的方式。另外，為了實現元件的小型化等，也要求該玻璃基板進一步的薄壁化，因而開始采用板厚較薄的玻璃基板(例如，板厚0. 5mm以下的玻璃基板)。另外，為了防止在熱處理工序中堿性離子擴散到成膜的半導體物質中的情況，該玻璃基板通常使用實質上不含堿金屬氧化物的無堿玻璃(參考專利文獻1)。現有技術文獻專利文獻專利文獻1 日本特開2006-344927號公報
發明內容
如上所述，在CSP等用途的情況下，將玻璃基板與Si芯片直接粘貼。但是，當無堿玻璃與Si的熱膨脹系數不匹配時，由于兩者的熱膨脹系數差，會導致玻璃基板發生翹曲。 特別是玻璃基板的板厚越小，越容易發生玻璃基板的翹曲。為了解決該問題，需要使無堿玻璃與Si的熱膨脹系數嚴格匹配。但是，Si的熱膨脹系數非常低，為32 34X10_7°C，如果為了與Si的熱膨脹系數匹配而降低無堿玻璃的熱膨脹系數，則難以制作高品質的玻璃基板。即，無堿玻璃中，使熱膨脹系數降低時，玻璃的粘性增高，難以提高氣泡品質，結果，難以得到高品質的玻璃基板。另外，CSP等圖像傳感器在約2mm左右的Si芯片中包含有數百萬像素的信息，因此，即使是液晶顯示器、有機EL顯示器等的像素無法比擬的、極微小的缺陷也可能成為問題。另外，將圖像傳感器與玻璃基板粘貼的工序基本為最后工序，因此，當玻璃基板的缺陷導致器件的成品率下降時，器件的生產率會顯著下降。另外，無堿玻璃中，為了提高氣泡品質，需要使用澄清劑，以往，作為澄清劑，使用 As2O3> Sb203。但是，As203、Sb2O3是環境負荷物質，從環境的觀點考慮，優選盡量減少它們的
使用量。因此，該用途中使用的無堿玻璃，特別要求⑴具有與Si匹配的熱膨脹系數；(2) 氣泡品質優良；(3)不含環境負荷物質(特別是As203、Sb203)；以及(4)重量輕；(5)能夠以低成本成形為薄板；(6)表面品質優良；(7)在玻璃與樹脂的粘貼時具有可維持玻璃品質的耐熱性；等。
鑒于上述情況，本發明的技術課題在于，提供滿足CSP等用途所要求的各種特性的無堿玻璃，特別是具有與Si匹配的熱膨脹系數、并且即使不使用As203、Sb2O3氣泡品質也優良、且能夠以低成本成形為薄板的無堿玻璃。本發明人等反復進行了各種實驗，結果發現，通過將無堿玻璃的玻璃組成范圍限制在規定范圍內、并且將玻璃特性限制在規定范圍內，可以解決上述技術課題，從而提出了本發明。即，本發明的無堿玻璃，其特征在于，作為玻璃組成，以下述氧化物換算的質量％ 計，含有 SiA 45 70%、Al2O3 10 30%、化03 11 20%，且 Aii2O3 的含量不足 0. 1 %， Sb2O3的含量不足0. 1%，堿金屬氧化物的含量不足0. 1%，并且熱膨脹系數(30 380°C)為 30 35X10_7°C。這里，“熱膨脹系數(30 380°C)”是指用膨脹儀測定的值，是指30 380°C溫度范圍內的平均值。第二，本發明的無堿玻璃，其特征在于，作為玻璃組成，以下述氧化物換算的質量％計，含有 SiA 50 70%、A1203 11 23%、化03 11. 5 20%、Mg0 0 8%、Ca0 1 10%, SrO 0 ~ 2%, BaO 0 2%、Mg0+Ca0+Sr0+Ba05 12%、SnA 0. 001 1 %，且 Aii2O3 的含量不足0.05%，Sb2O3的含量不足0. 05 %，F的含量不足0. 1 %，Cl的含量不足0.1%， 堿金屬氧化物(Li20、Na2CKK2O的總量)的含量不足0. 1%，并且熱膨脹系數(30 380°C ) 為 30 ;35Xl(r7°C。第三，本發明的無堿玻璃，其特征在于，作為玻璃組成，以下述氧化物換算的質量％計，含有 SiA 50 70%、Al2O3 11 16%、B2O3 13 19%、MgO 0 — 6%, CaO 1 9%, SrO 0 ~ 1 %, BaO 0 1 %、Mg0+Ca0+Sr0+Ba07 10%、SnA · 01 0. 5%，且 Aii2O3 的含量不足0.05%，Sb2O3的含量不足0. 05 %，F的含量不足0. 1 %，Cl的含量不足0.1%， 堿金屬氧化物的含量不足0. 1%，并且30 380°C的熱膨脹系數為30 35X 10_7°C。第四，本發明的無堿玻璃，其特征在于，其以溢流下拉法或流孔下引法成形而成， 特別是以溢流下拉法成形而成。由此，可以提高玻璃的表面品質。第五，本發明的無堿玻璃，其特征在于，其為平板形狀。第六，本發明的無堿玻璃，其特征在于，板厚為0. 6mm以下。第七，本發明的無堿玻璃，其特征在于，用于CSP中。 第八，本發明的無堿玻璃，其特征在于，用于有機EL顯示器中。本發明的無堿玻璃耐熱性優良，因此在P-Si · TFT的制造工序等中不易發生熱收縮，也適合于本用途。第九，本發明的無堿玻璃，其特征在于，作為玻璃組成，以下述氧化物換算的質量％計，含有 SiA 45 70%、A1203 10 30%、B203 11 20%、Ca0 3 12%，且 BaO 的含量不足0.5%，As2O3的含量不足0.01%，Sb2O3的含量不足0. 05 %，F的含量不足0.05%，Cl 的含量不足0. 05 %，堿金屬氧化物的含量不足1 %，并且熱膨脹系數(30 380°C )為33 ;35Xl(r7°C，波長300 800nm下的光譜透過率為85%以上，α射線放出量為5000 X 10_4C/ cm2/h以下。這里，“波長300 800nm下的光譜透過率”是指在0. 1 0. 5mm中的任意板厚下(優選為板厚0.5mm)進行測定得到的值。另外，“α射線放出量”可以通過流氣型正比計數管測定裝置等加以測定。
具體實施例方式本發明的無堿玻璃中，將玻璃組成中的各成分的含量以上述方式限定的理由如下所述。另外，以下的“ ％ ”，除特別說明的情況以外，表示質量％。SiO2 的含量為45 70%、優選為50 70%、更優選為55 65%、進一步優選為 57 63%、最優選為58 62%。SiO2的含量少于45%時，難以實現玻璃的低密度化。另一方面，SiO2的含量多于75%時，高溫粘度增大，熔融性下降，除此之外，玻璃中容易產生失透結晶(方石英)等缺陷。Al2O3的含量為10 30%。Al2O3的含量少于10%時，耐熱性難以提高，或者高溫粘性增大，熔融性容易下降。另外，Al2O3具有提高楊氏模量、提高比楊氏模量的作用，Al2O3 的含量少于10%時，楊氏模量容易下降。Al2O3的優選下限范圍為10%以上、11%以上、12% 以上、13%以上、14%以上、14. 5%以上、15%以上、特別是15. 5%以上。另一方面，Al2O3的含量多于30%時，液相溫度升高，耐失透性容易下降。Al2O3的優選上限范圍為23%以下、 20%以下、19%以下、18%以下、17%以下、特別是16%以下。B2O3是作為助熔劑發揮作用、降低高溫粘性、提高熔融性的成分，其含量為11 20%。B2O3的含量少于11%時，作為助熔劑的作用不充分，高溫粘性增大，玻璃的氣泡品質容易下降。另外，難以實現玻璃的低密度化。B2O3的優選下限范圍為11%以上、11. 5%以上、12%以上、13%以上、14%以上、15%以上、特別是15. 5%以上。另一方面，B2O3的含量多于20%時，耐熱性、楊氏模量容易下降。B2O3的優選上限范圍為20%以下、19%以下、18% 以下、特別是17%以下。本發明的無堿玻璃，除上述成分以外，還可以在玻璃組成中添加到25%為止、優選到15%為止的其他成分。MgO+CaO+SrO+BaO是降低液相溫度、使玻璃中不易產生結晶異物的成分，并且提高熔融性、成形性的成分，其含量優選為5 12%、7 10%、7. 5 9. 5%、特別是8 9%。 MgO+CaO+SrO+BaO的含量少時，不能充分發揮作為助熔劑的作用，熔融性下降，而且熱膨脹系數變得過小，難以與Si的熱膨脹系數匹配。另一方面，MgO+CaO+SrO+BaO的含量多時，密度增大，難以實現玻璃的輕量化，另外，比楊氏模量下降，并且熱膨脹系數過高。MgO是不使應變點下降而降低高溫粘性、提高熔融性的成分，并且是堿土金屬氧化物中最具密度減小效果的成分，其含量優選為0 8%、0 6%、0 2%、0 1%、0 0.5%、特別是0 0. 1%。但是，MgO的含量過多時，液相溫度上升，耐失透性容易下降。另夕卜，質量比Mg0/B203的值為0.6以上時，容易發生分相。因此，質量比Mg0/B203的值優選為 0. 5以下、0. 3以下、0. 1以下、不足0. 08、特別是不足0. 05。CaO是不使應變點下降而降低高溫粘性、顯著提高熔融性的成分，同時是本發明的玻璃組成體系中抑制玻璃的失透的效果高的成分，并且，在堿土金屬氧化物中相對增加其含量時，容易實現玻璃的低密度化。CaO的優選下限范圍為以上、2%以上、3%以上、5% 以上、特別是以上。另一方面，CaO的含量多于10%時，熱膨脹系數、密度過高，或者玻璃組成的成分平衡受損，耐失透性容易下降。CaO的優選上限范圍為10%以下、9. 5%以下、 特別是9%以下。SrO是不使應變點下降而降低高溫粘性、提高熔融性的成分，但SrO的含量增多時，密度、熱膨脹系數容易上升。另外，SrO的含量增多時，為了與Si的熱膨脹系數匹配， CaO, MgO的含量相對減少，結果，耐失透性下降或者高溫粘性增大容易。SrO的含量優選為 0 2%、0 1. 5%、0 1%、0 0. 5%、特別是0 0. 1%。
BaO是不使應變點下降而降低高溫粘性、提高熔融性的成分，但BaO的含量增多時，密度、熱膨脹系數容易上升。另外，BaO的含量增多時，為了與Si的熱膨脹系數匹配， CaO, MgO的含量相對減少，結果，耐失透性下降或者高溫粘性增大容易。BaO的含量優選為 0 2%、0 1. 5%、0 1%、0 0.5%、不足0 0.5%、特別是不足0 0. 1%。SnO2是在高溫區域具有良好的澄清作用的成分，并且是使高溫粘性下降的成分， 其含量優選為0 1%、0. 001 1%、0. 01 0. 5%,0. 01 0. 6%、特別是0. 05 0. 3%。 SnO2的含量多于時，玻璃中容易析出SnA的失透結晶。另外，SnA的含量少于0.001% 時，難以發揮上述的效果。ZnO是提高熔融性的成分，但在玻璃組成中較多含有時，玻璃容易發生失透，應變點下降，而且密度也容易上升。因此，ZnO的含量優選為0 5%、0 3%、0 0. 5%、特別是0 0. 3%，理想而言優選實質上不含有。這里，“實質上不含&ι0”是指玻璃組成中的 ZnO的含量為0. 以下的情況。ZrO2是提高楊氏模量的成分，其含量優選為O 5%、0 3%、0 0. 5%、特別是 0.01 0.2%。的含量多于5%時，液相溫度上升，容易析出鋯石的失透結晶。另外， &02的含量過多時，α射線的計數值容易上升，難以應用于CSP等器件。因此，如果能通過其他成分獲得所期望的特性，則理想而言優選實質上不含&02。這里，“實質上不含&02”是指玻璃組成中的^O2的含量為0. 01%以下的情況。TiO2是降低高溫粘性、提高熔融性的成分，并且是抑制過度曝光(solarization) 的成分，但在玻璃組成中較多含有時，會使玻璃著色，透過率容易下降。因此，TiO2的含量優選為0 5%、0 3%、0 1%、特別是0 0. 02%。P2O5是提高耐失透性的成分，但在玻璃組成中較多含有時，會在玻璃中產生分相、 乳白現象，而且耐水性顯著下降。因此，P2O5的含量優選為O 5%、0 1%、特別是0 0. 5%。Y2O3具有提高應變點、楊氏模量等的作用。但是，Y2O3的含量多于5 %時，密度容易增大。Nb2O5具有提高應變點、楊氏模量等的作用。但是，Nb2O5成分的含量多于5%時，密度容易增大。La2O3具有提高應變點、楊氏模量等的作用。但是，La2O3的含量多于5%多于時， 密度容易增大。如上所述，本發明的無堿玻璃，原則上實質上不含堿金屬氧化物，其含量不足 0. 1%。但是，在容許某種程度地含有堿金屬氧化物的情況下，可以在不足0.01 的范圍內添加堿金屬氧化物。如上所述，本發明的無堿玻璃適合添加SnA作為澄清劑，但只要不損害玻璃特性， 可以添加到5%為止的Ce02、S03、C、金屬粉末(例如AUSi等)來代替SnO2、或者與SnO2并用作為澄清劑。As203> Sb2O3也可作為澄清劑有效地發揮作用，本發明的無堿玻璃雖然并不完全排除含有這些成分，但是，如上所述，從環境的觀點考慮，應該將這些成分的含量分別限制為不足0.1%、優選不足0.05%的含量。另外，F、Cl等鹵素具有使熔融溫度低溫化、并且促進澄清劑的作用的效果，結果可以在降低玻璃的熔融成本的同時實現玻璃制造窯的長壽命化。但是，F、Cl的含量過多時，在CSP等用途中，有時會腐蝕玻璃基板上形成的金屬的布線圖案。因此，F、C1的含量分別優選為以下、0.5%以下、不足0. 1^^0.05%以下、不足0. 05%、特別是0. 01%以下。本發明的無堿玻璃中，如果如下規定各成分，則容易與Si的熱膨脹系數匹配，另夕卜，高溫粘度下降，而且液相粘度容易升高。(1)作為玻璃組成，以下述氧化物換算的質量％ 計，含有 SiO2 50 70%、Al2O3 11 16%、B2O3 13 19%、MgO+CaO+SrO+BaO 7 10%、 MgO 0 6%、Ca0 3 9%、Sr0 0 l%、BaO 0 1%，且 As2O3 的含量不足 0. 05%, Sb2O3 的含量不足0. 05%、F的含量不足0. 1%, Cl的含量不足0. 1%、堿金屬氧化物的含量不足 0. 1%。
(2)作為玻璃組成，以下述氧化物換算的質量％計，含有SiO2 50 70%、Al2O3 13 16%、B203 13 18%、Mg0+Ca0+Sr0+Ba0 7 9%、Mg00 2%、CaO 5 9%、Sr0 0 0. 5%,BaO 0 0.5%、SnO2 0. 01 0. 6 %，且 As2O3 的含量不足 0. 05%, Sb2O3 的含量不足 0. 05%、F的含量不足0. 1%,C1的含量不足0. 1%、堿金屬氧化物的含量不足0. 1%。(3)作為玻璃組成，以下述氧化物換算的質量％計，含有SiO2 50 70%、Al2O3 13 16%、B203 14 18%、Mg0+Ca0+Sr0+Ba0 7 9%、Mg00 1 %、CaO 7 9%、Sr0 0 0. l%,BaO 0 0. 1 %, SnO2 0. 01 0. 6%，且 As2O3 的含量不足 0. 01%, Sb2O3 的含量不足 0.01%、F的含量不足0. 05%, Cl的含量不足0. 05%、堿金屬氧化物的含量不足0. 1%。本發明的無堿玻璃中，熱膨脹系數(30 380°C )的下限范圍優選為30X10_7°C 以上、特別是31 X IO-V0C以上，另外，上限范圍優選為35X IO-V0C以下、特別是34X 10_7°C 以下，最優選熱膨脹系數(30 380°C)為33X10_7°C。熱膨脹系數在上述范圍外時，將無堿玻璃與Si芯片粘貼時，玻璃基板的翹曲量容易變大。另外，玻璃基板的板厚越薄，由熱膨脹系數的差引起的玻璃基板的翹曲量越大。因此，在玻璃基板的板厚薄的情況下(例如，玻璃基板的板厚為0. 6mm以下的情況下)，將熱膨脹系數限制在上述范圍內的意義大。本發明的無堿玻璃中，密度優選不足2. 45g/cm3、不足2. 42g/cm3、不足2. 40g/cm3、 不足2. 38g/cm3、不足2. 35g/cm3、特別是不足2. 34g/cm3。密度為2. 45g/cm3以上時，難以實現玻璃的輕量化，另外，在平板形狀的情況下，玻璃容易因自身重量而撓曲。這里，“密度”是指通過公知的阿基米德法測定的值。本發明的無堿玻璃中，應變點優選600°C以上、620°C以上、630°C以上、640°C以上、 6500C以上、特別是660°C以上。如前所述，應變點低時，玻璃與樹脂粘貼時可能會損害玻璃品質。另夕卜，應變點低時，在作為有機EL用玻璃基板使用的情況下，在p-Si -TFT的制造工序中玻璃容易熱收縮。高溫熔融會增加玻璃熔窯的負擔。例如，玻璃熔窯中使用的氧化鋁、二氧化鋯等耐火物，在溫度越高時，越劇烈地侵蝕到熔融玻璃中。該耐火物的侵蝕量增多時，玻璃熔窯的壽命周期縮短，結果，玻璃的制造成本升高。另外，進行高溫熔融的情況下，需要使用高耐熱性的構成構件作為玻璃熔窯的構成構件，因此玻璃熔窯的構成構件價格變貴，結果，玻璃的熔融成本升高。另外，高溫熔融需要使玻璃熔窯的內部保持高溫，因此，與低溫熔融相比，運轉成本升高。本發明的無堿玻璃中，102_5dPa · S時的溫度優選1590°C以下、1580°C以下、1570°C以下、1560°C以下、特別是1550°C以下。102 5dPa · s時的溫度高于1590°C時，難以進行低溫熔融，并且玻璃的氣泡品質容易下降，結果，玻璃的制造成本容易升高。這里， "102 5dPa · s時的溫度”是通過落球法測定得到的值。本發明的無堿玻璃中，液相溫度優選1180°C以下、1100°C以下、1070°C以下、特別是1060°C以下。由此，玻璃中不易產生失透結晶，因此容易通過溢流下拉法等將玻璃成形，可以提高玻璃的表面品質，并且可以使玻璃的制造成本低廉化。另外，液相溫度是玻璃的耐失透性的指標，液相溫度越低，耐失透性越優良。這里，“液相溫度”是指將通過30目 (500 μ m)的標準篩而殘留在50目(300μπι)的標準篩上的玻璃粉末放入鉬舟皿中，在溫度梯度爐中保持M小時，測定結晶的析出溫度而得到的值。本發明的無堿玻璃中，液相粘度優選為104 5dPa· s以上、105_°dPa · s以上、 105 5dPa · s以上、105 7dPa · s以上、特別是106 0dPa · s以上。由此，成形時不易產生失透結晶，因此容易通過溢流下拉法等將玻璃成形，可以提高玻璃的表面品質，并且，可以使玻璃的制造成本低廉化。另外，液相粘度是成形性的指標，液相粘度越高，成形性越優良。這里， “液相粘度”是指在液相溫度下通過落球法測定玻璃的粘度得到的值。本發明的無堿玻璃中，波長300 800nm下的光譜透過率優選85%以上、86%以上、87%以上、特別是88%以上。本發明的無堿玻璃可以用于硅量子點型太陽能電池、薄膜硅型太陽能電池用基板或保護玻璃。這些用途中，要求包括紫外區域在內的光譜透過率高。 因此，將波長300 SOOnm下的光譜透過率限制為上述范圍時，可以適合用于這些用途。另外，作為玻璃原料，使用特定的原料、玻璃制造設備(例如1 的含量少的原料、不易混入！^ 的玻璃制造設備)時，可以提高波長300 SOOnm下的光譜透過率。本發明的無堿玻璃中，α射線放出量優選為5000X 10_4C/cm2/h以下、 3000Xl(T4C/cm7h 以下、1000X l(T4C/cm2/h 以下、特別是 500X l(T4C/cm2/h 以下。由玻璃基板等產生的α射線入射到元件中時，因α射線的能量而誘生空穴、電子對，由此可能會使圖像瞬間地產生亮點或白點，即產生所謂的軟錯誤。因此，如果使α射線放出量降低，則容易防止這樣的不良情況。另外，作為玻璃原料，如果使用放射性同位元素的含量少、α射線放出量少的高純度原料，則可以減少α射線放出量。另外，在玻璃的熔融、澄清工序中，如果使放射性同位元素不會從玻璃制造設備混入到熔融玻璃中，則可以有效地減少α射線放出量。本發明的無堿玻璃可以通過如下方法制作將以規定的玻璃組成調合的玻璃原料投入連續式玻璃熔窯中，將玻璃原料加熱熔融，使所得的熔融玻璃澄清后，供給到成形裝置中并且成形為平板形狀等。本發明的無堿玻璃，優選以溢流下拉法成形而成。由此，未經研磨即可得到表面品質良好的平板形狀的玻璃。這里，溢流下拉法是使熔融玻璃從耐熱性的流槽狀結構物的兩側溢出，使溢出的熔融玻璃在流槽狀結構物的下端合流，同時向下方拉伸成形而制作平板形狀的玻璃的方法。在溢流下拉法的情況下，玻璃的將成為表面的面不與流槽狀耐火物接觸而以自由表面的狀態成形，因此，能夠提高玻璃的表面品質。流槽狀結構物的結構、材質， 只要能夠使玻璃尺寸、表面品質達到所期望的狀態從而實現所期望的品質，則沒有特別限定。另外，向下方進行拉伸成形時可以以任意的方法對玻璃施加力。例如，可以采用使具有充分大的寬度的耐熱性輥在與玻璃接觸的狀態下旋轉而進行拉伸的方法，也可以采用使多對耐熱性輥僅與玻璃的端面附近接觸而進行拉伸的方法。本發明的無堿玻璃，耐失透性優良并且具有適于成形的粘度特性，因此能夠以溢流下拉法高效地成形平板形狀的玻璃。本發明的無堿玻璃，除溢流下拉法以外，可以采用各種成形方法。例如，可以采用流孔下引法、浮法、輥軋法等成形方法。另外，采用流孔下引法時，能夠高效地成形板厚薄的平板形狀的玻璃。本發明的無堿玻璃，優選具有平板形狀。由此，可以適用于液晶顯示器、有機EL顯示器等平板顯示器用玻璃基板、CSP、CCD、CIS等圖像傳感器用玻璃基板。另外，本發明的無堿玻璃在平板形狀的情況下，其板厚優選為0. 6mm以下、0. 5mm以下、0. 3mm以下、0. 2mm以下，特別優選0. Imm以下。板厚越薄，越能夠實現玻璃的輕量化，結果，也越容易實現器件的輕量化。另外，本發明的無堿玻璃，由于液相粘度高，因此容易以溢流下拉法將玻璃成形，具有容易廉價地制作表面品 質良好的薄板玻璃的優點。實施例1以下，基于實施例對本發明進行詳細說明。表1表示本發明的實施例(試樣No. 1 11)。
權利要求
1.一種無堿玻璃，其特征在于，作為玻璃組成，以下述氧化物換算的質量％計，含有Si0245 70%、Al2O3IO 30%、 化0311 20%，且As2O3的含量不足0. ,SId2O3的含量不足0. 1 %，堿金屬氧化物的含量不足0. 1 %，并且30 380°C的熱膨脹系數為30 ；35 X 10—7°C。
2.如權利要求1所述的無堿玻璃，其特征在于，作為玻璃組成，以下述氧化物換算的質量％計，含有Si0250 70%、Al2O3Il 23%、 化0311· 5 20%、Mg0 0 8%、Ca0 1 10%、Sr0 0 2%、Ba0 0 2%、Mg0+Ca0+Sr0+Ba0 5 12%, SnO2O. 001 1 %，且As2O3的含量不足0. 05%，Sb2O3的含量不足0. 05%，F的含量不足0. 1%, Cl的含量不足0. 1%，堿金屬氧化物的含量不足0. 1%，并且30 380°C的熱膨脹系數為30 35 X 10-7/oC。
3.如權利要求1或2所述的無堿玻璃，其特征在于，作為玻璃組成，以下述氧化物換算的質量％計，含有Si0250 70%、Al2O3Il 16%、 B2O313 19%、MgO 0 ~ 6%, CaO 1 9%、SrO l%、BaO 1 %、MgO+CaO+SrO+BaO 7 10%、SnO2O. 01 0. 5%，且As2O3的含量不足0. 05%, Sb2O3的含量不足0. 05%，F的含量不足0. 1%, Cl的含量不足0. 1%，堿金屬氧化物的含量不足0. 1%，并且30 380°C 的熱膨脹系數為30 35 X 10-7/oC。
4.如權利要求1 3任一項所述的無堿玻璃，其特征在于，其以溢流下拉法或流孔下引法成形而成。
5.如權利要求1 4任一項所述的無堿玻璃，其特征在于，其為平板形狀。
6.如權利要求5所述的無堿玻璃，其特征在于，板厚為0. 6mm以下。
7.如權利要求1 6任一項所述的無堿玻璃，其特征在于，用于芯片尺寸封裝中。
8.如權利要求1 7任一項所述的無堿玻璃，其特征在于，其用于有機EL顯示器中。
9.一種無堿玻璃，其特征在于，作為玻璃組成，以下述氧化物換算的質量％計，含有Si0245 70%、Al2O3IO 30%、 B2O3H 20%、CaO 3 12%，且BaO的含量不足0. 5%,As2O3的含量不足0. 01%, Sb2O3的含量不足0. 05%, F的含量不足0. 05%, Cl的含量不足0. 05%，堿金屬氧化物的含量不足 1 %，并且30 380°C的熱膨脹系數為33 ；35 X 10_7°C，波長300 800nm下的光譜透過率為85%以上，α射線放出量為5000X 10-4C/cm7h以下。
全文摘要
本發明的無堿玻璃，其特征在于，作為玻璃組成，以下述氧化物換算的質量％計，含有SiO245～70％、Al2O310～30％、B2O311～20％，且As2O3的含量不足0.1％，Sb2O3的含量不足0.1％，堿金屬氧化物的含量不足0.1％，并且30～380℃的熱膨脹系數為30～35×10-7/℃。
文檔編號C03C3/091GK102448901SQ20108000967
公開日2012年5月9日 申請日期2010年3月19日 優先權日2009年3月19日
發明者三和晉吉, 村田隆 申請人:日本電氣硝子株式會社