一種新型光纖碳密封涂覆裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及光纖制備反應裝置【技術領域】，具體涉及一種新型光纖碳密封涂覆裝置。其包括依次相連的上部氣封裝置、反應氣腔、沉積腔、下部氣封裝置、底座支撐架，反應管直插于反應氣腔內，所述的底座支撐架固定于調節平臺上，所述的反應管下部螺紋對接反應延長管，反應延長管伸入沉積腔，沉積腔上部設置氧含量測試孔，沉積腔下部對稱設置兩個抽廢氣孔。本實用新型每個部件均可獨立拆卸，使用方便，優化設計能夠控制反應氣體的反應量，防止過量碳粉在反應管內壁的堆積，通過氧含量的在線測試，可對反應裝置內部氧含量進行控制，通過抽廢氣設備可將過量的反應氣體及未沉積碳粉排出反應裝置，其結構簡單、操作方便、可延長碳密封涂覆光纖連續生產。
【專利說明】
【技術領域】
[0001] 本實用新型涉及光纖制備反應裝置【技術領域】，具體涉及一種新型光纖碳密封涂覆 裝直。 一種新型光纖碳密封涂覆裝置
【背景技術】
[0002] 傳統石英光纖在長期使用過程中會受到應力及水汽作用，引起裸光纖表面微裂紋 的不斷生長，從而導致光纖傳輸損耗增加，以及光纖機械強度的下降，減少光纖使用壽命。 一般通信用光纖通常采用兩層丙烯酸樹脂材料作為涂覆層，來保護裸光纖不受外界環境影 響，并提高光纖機械強度，但這種樹脂材料，阻水性能相對較差，且不能滿足特殊環境使用。
[0003] 光纖的密封涂覆技術，主要是通過在裸光纖表面涂覆一層具有極佳抗水性和抗氫 性的材料，在涂覆密封材料后繼續涂覆兩層樹脂材料，從而達到提高光纖耐疲勞和抗水、抗 氫損性能的目的。一般采用的密封涂覆材料包括金屬材料鋁、鎳、鉛等，陶瓷材料氧化鋁、氮 化硅、碳化硅等。碳密封涂覆光纖的研究可以追溯到1982年，美國國防部高級研究計劃署 "Carbon CoatedFibers"的研究項目。碳膜化學性質穩定，結構致密，形式時收縮力較小，對 氫及水的阻塞作用顯著。因此，近些年來對于碳密封涂覆光纖的研究一直倍受人們青睞。
[0004] 大量研究報道中均指出，在碳密封涂覆光纖的生產制備過程中，反應氣體的選擇、 反應溫度、反應速度、碳粉沉積率、拉絲速度等是重要影響因素，而反應裝置的結構又會直 接影響到反應速率、碳粉沉積率，以及可生產光纖長度。使用早前的反應裝置，運行一段時 間后，在光纖進出口位置會沉積大量的碳粉，影響光纖強度及性能，嚴重時會導致擦傷，從 而導致碳涂覆光纖的連續生產長度一般只有幾十公里甚至只有十幾公里。 實用新型內容
[0005] 針對現有技術上存在的不足，本實用新型提供一種結構簡單、操作方便、可延長碳 密封涂覆光纖連續生產的新型光纖碳密封涂覆裝置。
[0006] 為了實現上述目的，本實用新型是通過如下的技術方案來實現：
[0007] -種新型光纖碳密封涂覆裝置，包括依次相連的上部氣封裝置、反應氣腔、沉積 腔、下部氣封裝置、底座支撐架，設置若干小孔的反應管直插于反應氣腔內，其所述的底座 支撐架固定于調節平臺上，所述的上部氣封裝置、反應氣腔和下部氣封裝置均設置對稱的 進氣口，所述的反應管下部螺紋對接反應延長管，反應延長管伸入沉積腔，沉積腔上部設置 氧含量測試孔，沉積腔下部對稱設置兩個抽廢氣孔。
[0008] 上述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其所述的沉積腔的內徑60_80mm，高度 200_250mm。
[0009] 上述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其所述的上部氣封裝置、下部氣封裝置 內徑均為30-70mm，高度為10-50mm，上部氣封裝置、下部氣封裝置設置的光纖孔直徑為 l〇-15mm〇
[0010] 上述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其所述的反應氣腔內徑為30-60mm，高度 30_50mm。
[0011] 上述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其所述的反應管內徑l〇_15mm，長度 30-60mm，反應管上均勻設置20-60個直徑為0. 5-1. 5mm的小孔。
[0012] 上述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其所述的反應延長管的長度為10-50mm，內 徑 10_15mm。
[0013] 上述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其所述沉積腔的氧含量測試孔距離頂端 10_50mm,抽廢氣孔距離底部20_60mm。
[0014] 上述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其所述的沉積腔底部光纖出口處設置倒三 角形狀，斜坡高度不超過抽廢氣孔的高度，頂角角度范圍30-60°。
[0015] 有益效果：
[0016] 本實用新型每個部件均可獨立拆卸，使用方便，優化設計的反應管及反應延長管， 能夠控制反應氣體的反應量，防止過量碳粉在反應管內壁的堆積，通過氧含量的在線測試， 可對反應裝置內部氧含量進行控制，通過抽廢氣設備可將過量的反應氣體及未沉積碳粉排 出反應裝置，其結構簡單、操作方便、可延長碳密封涂覆光纖連續生產。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0017] 下面結合附圖和【具體實施方式】來詳細說明本實用新型；
[0018] 圖1為本實用新型的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0019] 為使本實用新型實現的技術手段、創作特征、達成目的與功效易于明白了解，下面 結合【具體實施方式】，進一步闡述本實用新型。
[0020] 參照圖1，本實用新型包括依次相連的上部氣封裝置21、反應氣腔22、沉積腔28、 下部氣封裝置31、底座支撐架32,上部氣封裝置、下部氣封裝置內徑均為30mm，高度為 10mm,上部氣封裝置、下部氣封裝置設置的光纖孔直徑為10mm，沉積腔的內徑60mm，高度 200mm。設置若干小孔的反應管23直插于反應氣腔22內，底座支撐架32固定于調節平臺 33上，所述的上部氣封裝置21、反應氣腔22和下部氣封裝置31均設置對稱的進氣口，所述 的反應管23下部螺紋對接反應延長管24,反應延長管24伸入沉積腔28,沉積腔28上部距 離頂端30mm設置氧含量測試孔27,沉積腔28下部距離底部30mm對稱設置兩個抽廢氣孔 29,沉積腔28底部光纖出口處設置倒三角形狀，斜坡高度不超過抽廢氣孔29的高度，頂角 角度范圍30-60°。
[0021] 光纖20從上部氣封裝置開口處進入反應裝置，穿過反應管23、反應延長管24進 入沉積腔28 ;反應氣腔22直徑40mm高度35mm，反應管23長度30mm，內徑12mm，反應管23 管壁上圓孔直徑0. 8mm，設有五層，每層對稱分布4個小孔，反應延長管24長度可調節為 10mm、20mm、30mm，內徑15mm ;再經過沉積腔下蓋板、下部氣封裝置31，從下部氣封裝置31的 開口離開反應裝置，最后從底座支撐架32和X-Y移動調節平臺33中心穿出。氣封氣體通 常選用N2、Ar或He等惰性氣體，本實施例使用Ar氣，氣體流量為2-5L/min ;反應氣體通常 選用乙炔、丙炔等,本實施例使用丙炔與Ar混合氣體，混合氣體中Ar占15%，總流量設置為 l-2L/min ;反應裝置內部氧含量通過沉積腔腔體28上的氧含量測試孔27進行測量，反應裝 置內部未反應氣體及為沉積碳粉通過沉積腔腔體28上的抽廢氣孔29排出。
[0022] 以上顯示和描述了本實用新型的基本原理和主要特征和本實用新型的優點。本行 業的技術人員應該了解，本實用新型不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述 的只是說明本實用新型的原理，在不脫離本實用新型精神和范圍的前提下，本實用新型還 會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本實用新型范圍內。本實用新型 要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物界定。
【權利要求】
1. 一種新型光纖碳密封涂覆裝置，包括依次相連的上部氣封裝置、反應氣腔、沉積腔、 下部氣封裝置、底座支撐架，設置若干小孔的反應管直插于反應氣腔內，其特征在于，所述 的底座支撐架固定于調節平臺上，所述的上部氣封裝置、反應氣腔和下部氣封裝置均設置 對稱的進氣口，所述的反應管下部螺紋對接反應延長管，反應延長管伸入沉積腔，沉積腔上 部設置氧含量測試孔，沉積腔下部對稱設置兩個抽廢氣孔。
2. 根據權利要求1所述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其特征在于，所述的沉積腔 的內徑 60_80mm，高度 200-250mm。
3. 根據權利要求1所述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其特征在于，所述的上部氣 封裝置、下部氣封裝置內徑均為30-70mm，高度為10-50mm，上部氣封裝置、下部氣封裝置設 置的光纖孔直徑為l〇-15mm。
4. 根據權利要求1所述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其特征在于，所述的反應氣 腔內徑為30_60mm，高度30_50mm。
5. 根據權利要求1所述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其特征在于，所述的反應管 內徑10-15mm,長度30_60mm,反應管上均勻設置20-60個直徑為0· 5mm-l. 5mm的小孔。
6. 根據權利要求1所述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其特征在于，所述的反應延 長管的長度為l〇-50mm，內徑10_15mm。
7. 根據權利要求1所述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其特征在于，所述沉積腔的 氧含量測試孔距離頂端10-50mm，抽廢氣孔距離底部20-60mm。
8. 根據權利要求1所述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其特征在于，所述的沉 積腔底部光纖出口處設置倒三角形狀，斜坡高度不超過抽廢氣孔的高度，頂角角度范圍 30-60。。
【文檔編號】C03C25/22GK203845956SQ201420231364
【公開日】2014年9月24日 申請日期:2014年5月7日 優先權日:2014年5月7日
【發明者】姜建新, 焦猛, 郭浩林, 郝昌平, 俞亮, 孫貴林, 李建明, 袁健 申請人:江蘇亨通光纖科技有限公司, 江蘇亨通光電股份有限公司