多色耐磨金屬裝飾膜層的制作方法

專利名稱：多色耐磨金屬裝飾膜層的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種金屬涂層裝飾性表面處理方法，尤其是涉及一種多色耐磨金屬裝 飾膜層的制作方法。
背景技術：
目前，在物體表面加工多色膜層的加工制程大致分有多色非金屬膜層和多色金屬 膜層兩種。
其中，多色非金屬膜層的加工制程是先在基材或者電鍍層產品表面電鍍一層金 屬膜，再通過拋砂、研磨等方法破壞表面鍍層，使基材顏色暴露出來并形成雙色效果，亦即 為雜色電鍍產品；但由于表面電鍍涂層及基材耐腐蝕性效果差，因而在表面再鍍復上一層 透明膜或半透明膜的保護膜，而達到膜層抗腐蝕的目的。此制程有品種多樣化的優點，但由 于保護膜漆類或油脂類膜層的表面耐磨性很差，一般在Ml的硬度以下，因而在使用中保護 膜很快受到耐損而出現腐蝕及變色形象，大大降低了膜層的使用壽命。綜上，上述多色非金 屬膜層產品由于受到膜層特性(耐磨性很差等)的限制，一般只能應用在不容易受到磨擦 的裝飾性產品上，如工藝裝飾品等。另外，從環保角度來看，由于此類多色非金屬膜層多為 有機膜層，因而高溫環境下還會排放有毒性氣體(如烤漆層在火燃燒時會產生熔化而排放 有毒氣體)。
而多色金屬膜層的加工制程是利用PVD真空鍍膜方式在金屬基材表面加工的一 層或多層金屬膜層，經鍍膜后在表面涂上油墨等油脂性原料把需要保留顏色的部分膜層覆 蓋，最后再把通過化學腐蝕方式剝離沒經油墨覆蓋的膜層，使底層顏色暴露在產品表面，之 后去除表面油墨并相應產生雙色性效果。此制程雖然為金屬性膜層，膜層的耐磨性得到了 提高，但由于人工涂復油墨的作業效率低、加工品種少等原因，該制程一般適用在小件產品 上加工中，對于大件產品由于效率低而不能得到推廣。另一種多色膜層加工處理方式為在 金屬基材表面涂上耐溫油墨或耐溫的涂料覆蓋不需要進行鍍膜部位的隔鍍層，最后進行真 空鍍膜，由于涂了耐溫原料的部位沒有鍍上膜層，而產生了表面雙色性的金屬膜層效果，此 方式由于耐溫原料的限制及真空放氣的原因限制了鍍膜溫度及時間，因而亦限制了應用產 品及膜層的品質，而不能得到有效的推廣。
綜上所述，多色非金屬膜層加工制程中所加工出來的具有多色效果的非金屬膜層 產品，可達到顏色品種多樣化的優點，但由于表面膜層環保性及耐磨性差的原因，而限制了 使用產品的范圍。而多色金屬膜層加工制程所加工出來的產品雖然在耐磨性上得到了提 高，但由于制程復雜導致作業效率低且能適用的品種少，亦限制了該制程推廣應用的普及 性。發明內容
本發明所要解決的技術問題在于針對上述現有技術中的不足，提供一種多色耐磨 金屬裝飾膜層的制作方法，其設計合理、加工制作方便、加工制程環保且所制作的多色膜層具有高耐磨性、顏色多元化與耐高溫的環保性等優良特性，同時適用范圍廣且易于普及推 廣應用。
為解決上述技術問題，本發明采用的技術方案是一種多色耐磨金屬裝飾膜層的 制作方法，其特征在于該方法包括以下步驟
步驟一、第一次表面局部遺留膜層選定或制作首先，在被加工基材上選擇一個外 側面作為處理面；之后，以所述處理面作為第一次表面局部遺留膜層，或者通過常規PVD真 空鍍膜方法或電鍍法在所述處理面上鍍一金屬膜層一作為第一次表面局部遺留膜層，所述 金屬膜層一為單質金屬膜層、合金膜層或金屬化合物膜層；
步驟二、隔膜層制作及膜層局部破壞處理，其過程如下
201、隔膜層制作首先，對第一次表面局部遺留膜層的材質進行判斷當第一次 表面局部遺留膜層為半導體膜層或碳化合物膜層時，采用機加工工具、化學腐蝕方法或電 解腐蝕刻蝕方法對所述第一次表面局部遺留膜層進行局部破壞，相應獲得第一次表面局部 遺留膜層經局部破壞處理后的局部破壞處理面一；反之，采用電鍍、PVD真空鍍膜、電泳、噴 涂或粉刷方法采用PVD真空鍍膜方法在所述第一次表面局部遺留膜層上鍍一層或多層金 屬膜層二、非金屬膜層或半導體膜層作為作為隔膜層；所述金屬膜層二為單質金屬膜層、合 金膜層或金屬化合物膜層，且所述金屬膜層二與步驟一中所述金屬膜層一的材質不同；
202、膜層局部破壞處理采用機加工工具、化學腐蝕方法或電解腐蝕刻蝕方法對 所述隔膜層單獨進行局部破壞、穿過所述隔膜層由上至下對所述隔膜層和第一次表面局部 遺留膜層同時進行局部破壞或者穿過所述隔膜層和所述第一次表面局部遺留膜層由上至 下對所述隔膜層、第一次表面局部遺留膜層和被加工基材的處理面同時進行局部破壞，相 應獲得經膜層局部破壞處理后的局部破壞處理面二；
步驟三、第二次表面局部遺留膜層制作采用PVD真空鍍膜方法在步驟201中所述 的局部破壞處理面一或步驟202中所述的局部破壞處理面二上鍍一金屬膜層三作為第二 次表面局部遺留膜層，并相應獲得二次鍍膜處理面一或二次鍍膜處理面二 ；所述金屬膜層 二為單質金屬膜層、合金膜層或金屬化合物膜層，且所述金屬膜層三的材質與所述金屬膜 層二的材質不同；
步驟四、局部膜層剝離當對所述二次鍍膜處理面一進行局部膜層剝離時，由于 步驟三中采用PVD真空鍍膜方法在所述局部破壞處理面一上鍍第二次表面局部遺留膜層 過程中，所鍍的第二次表面局部遺留膜層不能附著于未被破壞的第一次表面局部遺留膜層 上，則可將步驟三中鍍在未被破壞的第一次表面局部遺留膜層上的第二次表面局部遺留膜 層直接剝離，而將鍍在已被破壞的第一次表面局部遺留膜層上的第二次表面局部遺留膜層 保留下來，并完成雙色膜層的制作過程；
當對所述二次鍍膜處理面二進行局部膜層剝離時，采用化學腐蝕或電解腐蝕方法 對隔膜層進行剝離的同時并將鍍在未被破壞的隔膜層上的第二次表面局部遺留膜層剝離， 而將鍍在已被破壞的所述隔膜層上的第二次表面局部遺留膜層保留下來，并完成雙色膜層 的制作過程；
步驟五、三色以上的多色膜層制作當需制作三色以上的多色膜層時，首先判斷需 制作多色膜層的顏色數量η且11 > 3 ；其次，以步驟四中所獲得的雙色膜層為第一次表面局 部遺留膜層，重復步驟二至步驟四η-2次后，則相應獲得顏色數量為η的多色膜層；其中，n-2次步驟二至步驟四的重復過程相應形成n-2次膜層表面處理過程，且每一次膜層表面 處理過程中，均以上一次膜層表面處理過程所獲得的多層膜層作為本次膜層表面處理過程 的第一次表面局部遺留膜層。
上述多色耐磨金屬裝飾膜層的制作方法，其特征是步驟一、步驟二和步驟三中所 述的非金屬膜層為有機膜層或漆類膜層。
上述多色耐磨金屬裝飾膜層的制作方法，其特征是步驟一、步驟二和步驟三中所 述的金屬膜層為由鋁、錫、銻、硼、銅、石墨、硅、鉭、鋅、銀、鋯、鎂、鈮、鉬、鉻、鈦或鎳制成的單 質金屬膜層、不銹鋼膜層或者由鋁、錫、銻、硼、銅、石墨、硅、鉭、鋅、銀、鋯、鎂、鈮、鉬、鉻、鈦 或鎳的合金或金屬化合物制成的合金膜層或金屬化合物膜層。
上述多色耐磨金屬裝飾膜層的制作方法，其特征是步驟一中所述的被加工基材 為表面鍍有金屬膜層的金屬基材或非金屬基材、合金基材或者不銹鋼基材。
上述多色耐磨金屬裝飾膜層的制作方法，其特征是步驟一中所述的處理面選擇 好后，應立即對所選擇的處理面進行清洗與烘干；步驟201中所述的隔膜層鍍膜之前，需對 所述第一次表面局部遺留膜層進行清洗與烘干；步驟三中所述的第二次表面局部遺留膜層 鍍膜之前，需對所述二次鍍膜處理面一或二次鍍膜處理面二進行清洗與烘干。
上述多色耐磨金屬裝飾膜層的制作方法，其特征是步驟一、步驟201和步驟三中 進行清洗時，采用超音波進行清洗或采用酒精擦試方法進行清洗。
上述多色耐磨金屬裝飾膜層的制作方法，其特征是步驟一、步驟201和步驟三中 進行烘干時，采用烘干爐進行烘干且烘干溫度為50°C以上。
上述多色耐磨金屬裝飾膜層的制作方法，其特征是步驟四中所述的采用化學腐 蝕或電解腐蝕方法對鍍在未被破壞的所述第一次表面局部遺留膜層上的第二次表面局部 遺留膜層進行剝離后，還需對所獲得的雙色膜層進行清洗和烘干處理。
上述多色耐磨金屬裝飾膜層的制作方法，其特征是步驟四中進行清洗時，采用超 音波進行清洗。
上述多色耐磨金屬裝飾膜層的制作方法，其特征是步驟201和步驟202中所述的 機加工工具為拋砂輪、噴砂機或手動研磨工具；步驟201和步驟202中所述的進行局部破壞 時，相應處理形成多種花紋結構。
本發明與現有技術相比具有以下優點
1、設計新穎合理、投入成本低且質量易于控制。
2、制作方便簡便，能簡單方便實現各種多層膜層的加工制作。
3、適用范圍廣且實用價值高，對所適用的產品無任何限制，同時能有效提高多層 顏色膜層制程的環保性，且所制備多色膜層具有耐磨特性及顏色多樣化等特性，采用本發 明可在金屬基材表面或電鍍金屬層表面加工多色霧狀金屬膜層、多色砂線金屬膜層、斑狀 及流紋狀的多色金屬膜層等多色效果的金屬膜層，此膜層可應用在不同形狀的產品及大小 不一的產品上。應測試，本發明所制作的多色膜層的表面硬度達9H以上，且顏色多樣化，具 有高耐磨性且制程環保，對環境無任何污染。綜上，通過本發明加工出來的多層膜層表面同 時具有耐磨性、顏色多元性與耐高溫的環保性裝飾膜層效果，因而大幅提高了產品的使用 壽命及產品應用范圍，并避免了在高溫燃燒的情況下排放有毒性氣體，從而達到多色、耐磨 且無毒膜層的目的。6
4、易于推廣，普及性強，將本發明應用在不銹鋼產品表面可增加顏色的多元性，且 克服了現在生產雜色鍍產品表面膜層耐磨性差及不環保的缺點，使產品即顏色多元化又具 有高耐磨性、裝飾性效果；而將本發明應用在多配件組裝的產品上(如水龍頭、衛浴產品 等)后，可克服產品非金屬性的有機膜層在組裝時出現擦傷磨損而破壞膜層，造成產品耐 腐蝕性差的缺點，從而延長了產品的使用壽命。
綜上所述，本發明設計合理、加工制作方便、加工制程環保且所制作的多色膜層具 有高耐磨性、顏色多元化與耐高溫的環保性等優良特性，同時適用范圍廣且易于普及推廣 應用，能有效解決現有多色膜層加工制程所存在的顏色單一、加工過程復雜、適用面窄、不 環保等多種實際問題。
下面通過附圖和實施例，對本發明的技術方案做進一步的詳細描述。


圖1為本發明多色耐磨金屬裝飾膜層的制作方法流程圖。具體實施方式

如圖1所示的一種多色耐磨金屬裝飾膜層的制作方法，包括以下步驟
步驟一、第一次表面局部遺留膜層選定或制作首先，在被加工基材上選擇一個外 側面作為處理面；之后，以所述處理面作為第一次表面局部遺留膜層，或者通過常規PVD真 空鍍膜方法或電鍍法在所述處理面上鍍一金屬膜層一作為第一次表面局部遺留膜層，所述 金屬膜層一為單質金屬膜層、合金膜層或金屬化合物膜層。
步驟二、隔膜層制作及膜層局部破壞處理，其過程如下
201、隔膜層制作首先，對第一次表面局部遺留膜層的材質進行判斷當第一次 表面局部遺留膜層為半導體膜層或碳化合物膜層時，采用機加工工具、化學腐蝕方法或電 解腐蝕刻蝕方法對所述第一次表面局部遺留膜層進行局部破壞，相應獲得第一次表面局部 遺留膜層經局部破壞處理后的局部破壞處理面一；反之，采用電鍍、PVD真空鍍膜、電泳、噴 涂或粉刷方法采用PVD真空鍍膜方法在所述第一次表面局部遺留膜層上鍍一層或多層金 屬膜層二、非金屬膜層或半導體膜層作為作為隔膜層；所述金屬膜層二為單質金屬膜層、合 金膜層或金屬化合物膜層，且所述金屬膜層二與步驟一中所述金屬膜層一的材質不同。
202、膜層局部破壞處理采用機加工工具、化學腐蝕方法或電解腐蝕刻蝕方法對 所述隔膜層單獨進行局部破壞、穿過所述隔膜層由上至下對所述隔膜層和第一次表面局部 遺留膜層同時進行局部破壞或者穿過所述隔膜層和所述第一次表面局部遺留膜層由上至 下對所述隔膜層、第一次表面局部遺留膜層和被加工基材的處理面同時進行局部破壞，相 應獲得經膜層局部破壞處理后的局部破壞處理面二。
步驟三、第二次表面局部遺留膜層制作采用PVD真空鍍膜方法在步驟201中所述 的局部破壞處理面一或步驟202中所述的局部破壞處理面二上鍍一金屬膜層三作為第二 次表面局部遺留膜層，并相應獲得二次鍍膜處理面一或二次鍍膜處理面二 ；所述金屬膜層 二為單質金屬膜層、合金膜層或金屬化合物膜層，且所述金屬膜層三的材質與所述金屬膜 層二的材質不同。
步驟四、局部膜層剝離當對所述二次鍍膜處理面一進行局部膜層剝離時，由于步驟三中采用PVD真空鍍膜方法在所述局部破壞處理面一上鍍第二次表面局部遺留膜層 過程中，所鍍的第二次表面局部遺留膜層不能附著于未被破壞的第一次表面局部遺留膜層 上，則可將步驟三中鍍在未被破壞的第一次表面局部遺留膜層上的第二次表面局部遺留膜 層直接剝離，而將鍍在已被破壞的第一次表面局部遺留膜層上的第二次表面局部遺留膜層 保留下來，并完成雙色膜層的制作過程。
當對所述二次鍍膜處理面二進行局部膜層剝離時，采用化學腐蝕或電解腐蝕方法 對鍍在未被破壞的所述隔膜層上的第二次表面局部遺留膜層進行剝離且將所述隔膜層同 步剝離，而將鍍在已被破壞的所述隔膜層上的第二次表面局部遺留膜層保留下來，并完成 雙色膜層的制作過程。
步驟五、三色以上的多色膜層制作當需制作三色以上的多色膜層時，首先判斷需 制作多色膜層的顏色數量η且11 > 3 ；其次，以步驟四中所獲得的雙色膜層為第一次表面局 部遺留膜層，重復步驟二至步驟四η-2次后，則相應獲得顏色數量為η的多色膜層；其中， η-2次步驟二至步驟四的重復過程相應形成η-2次膜層表面處理過程，且每一次膜層表面 處理過程中，均以上一次膜層表面處理過程所獲得的多層膜層作為本次膜層表面處理過程 的第一次表面局部遺留膜層。
步驟一中所述的被加工基材為金屬基材、合金基材或者不銹鋼基材，實際使用過 程中，可以選用合金、單質金屬或不銹鋼材料作為被加工基材。實際進行多層金屬裝飾膜層 制作時，應先根據需制作多色耐磨金屬裝飾膜層的顏色數量，確定多層金屬裝飾膜層中所 包括膜層的數量及鍍各膜層時所采用的材質。
步驟一中所述的處理面選擇好后，應立即對所選擇的處理面進行清洗與烘干；步 驟201中所述的隔膜層鍍膜之前，需對所述第一次表面局部遺留膜層進行清洗與烘干；步 驟三中所述的第二次表面局部遺留膜層鍍膜之前，需對所述二次鍍膜處理面一或二次鍍膜 處理面二進行清洗與烘干。實際操作過程中，步驟一、步驟201和步驟三中進行清洗時，采 用超音波進行清洗或采用酒精擦試方法進行清洗，同時還可選擇其它清洗方式進行清洗。 而步驟一、步驟201和步驟三中進行烘干時，采用烘干爐進行烘干且烘干溫度為50°C以上， 同時還可選擇其它烘干設備進行烘干處理。
步驟四中所述的采用化學腐蝕或電解腐蝕方法對隔膜層進行剝離的同時并將鍍 在未被破壞的隔膜層上的第二次表面局部遺留膜層剝離后，還需對所獲得的雙色膜層進行 清洗和烘干處理；且進行清洗時，采用超音波進行清洗。
實際操作過程中，步驟一、步驟二和步驟三中所述的非金屬膜層為有機膜層或漆 類膜層，且具體對所述非金屬膜層進行制作時，采用常規的電泳或噴漆方法。步驟一、步驟 二和步驟三中所述的金屬膜層為由鋁、錫、銻、硼、銅、石墨、硅、鉭、鋅、銀、鋯、鎂、鈮、鉬、鉻、 鈦或鎳制成的單質金屬膜層、不銹鋼膜層或者由鋁、錫、銻、硼、銅、石墨、硅、鉭、鋅、銀、鋯、 鎂、鈮、鉬、鉻、鈦或鎳的合金或金屬化合物制成的合金膜層或金屬化合物膜層。實際加工制 作時，根據所制作多色耐磨金屬裝飾膜層中各膜層的顏色，相應確定應選擇的制作各膜層 所用的金屬、非金屬或半導體材質。步驟201和步驟202中所述的進行局部破壞時，相應處 理形成多種花紋結構。
實施例1
本實施例中，需生產的產品為黑-金雙色砂線，相應地，步驟一中制作第一次表面局部遺留膜層時，采用真空離子鍍膜機且按照常規PVD真空鍍膜方法在所述處理面上鍍一 膜層一作為第一次表面局部遺留膜層，所述膜層一為TiC膜層，且進行真空鍍膜時，真空度 為0. 85Pa，所采用C2H2的流量為600sCCm，所采用Ar的流量為20sCCm，鍍膜時間為6分鐘。 步驟201中，首先對第一次表面局部遺留膜層的材質進行判斷本實施例中，由于第一次表 面局部遺留膜層為半導體膜層或碳化合物膜層時，采用機加工工具、化學刻蝕方法或電化 學刻蝕方法對所述第一次表面局部遺留膜層進行局部破壞，相應獲得第一次表面局部遺留 膜層經局部破壞處理后的局部破壞處理面一，本實施例中，采用拋砂輪在第一次表面局部 遺留膜層上進行表面拋雪花紋處理，則不需制作隔膜層。步驟三中采用PVD真空鍍膜方法 在步驟201中所述的局部破壞處理面一上鍍一膜層三作為第二次表面局部遺留膜層，并相 應獲得二次鍍膜處理面一，本實施例中，制作第二次表面局部遺留膜層時，采用真空離子鍍 膜機且按照常規PVD真空鍍膜方法在所述局部破壞處理面一上鍍一膜層三作為第二次表 面局部遺留膜層，所述膜層三為TiCN膜層，且進行真空鍍膜時，真空度為0. 52 ，所采用N2 的流量為lOOsccm，所采用C^2的流量為lkccm，鍍膜時間為5分鐘。在鍍膜中，第二次表 面局部遺留膜層由于第一次表面局部遺留膜層為碳化合物膜層，使第二次表面局部遺留膜 層不能附著于第一次表面局部遺留膜層表面，而經局部破壞第一次表面局部遺留膜層的處 理面的第二次表面局部遺留膜層卻附著于表面，因而獲得黑-金雙色膜層。
實施例2
本實施例中，需生產一種藍-金雙色砂線，則相應需完成雙色膜層制作，且其制作 過程如下
步驟一、第一次表面局部遺留膜層選定或制作首先，在被加工基材上選擇一個平 直且光滑的外側面作為處理面；之后，通過常規PVD真空鍍膜方法在所述處理面上鍍一膜 層一作為第一次表面局部遺留膜層。本實施例中，所述被加工基材為304不銹鋼板，所述處 理面為一鏡面。
選擇好所述處理面后，應立即對所述處理面進行清洗(即前處理清洗)與烘干，保 持處理面清潔。本實施例中，清洗時，采用超音波清洗生產線分三個步驟進行清洗首先過 酸活化所述處理面的表面，具體是采用PH = 4的鹽酸溶液過酸1分鐘；之后，采用超音波進 行清洗；超聲波清洗結束后，通過超純水清洗干凈。進行超聲波清洗時，應確保所述處理面 的表面無水印及油脂物質且保持超純水的純水值> 3. 5M Ω，且清洗過程中應防止鏡面碰傷 變形。另外，如果所述304不銹鋼板的表面比較臟，則在清洗前以滑石粉擦試鋼板表面。
清洗結束后，采用毛巾對清洗后的處理面進行人工擦拭，一般經過兩道擦拭即可， 擦拭過程中應應確保擦拭用的膠手套保持干凈，擦拭結束后應使得所述處理面的表面無遺 留水跡，并且擦拭過程中應防止膠手套破損。擦拭完成后，應進行目視檢驗且檢驗合格后上 掛，目視檢驗時應確認所述處理面的表面無碰傷、水跡等雜質且上掛后所述鏡面朝外，上掛 后應確保所述鏡面前部沒有阻檔現象；若目視檢驗發現所述處理面上有2塊水印時，則應 重新進行前處理清洗。
目視檢驗合格且上掛后，采用烘干爐對所述處理面的表面進行烘干處理，烘干溫 度為180°C且烘干時間為30分鐘，表面烘烤過程中應確保烘烤環境中無過多灰塵。實際 操作時應注意擦干上掛后立即進行表面烘烤，使得所述處理面在大氣中時間盡可能不要太長。
本實施例中，制作第一次表面局部遺留膜層時，采用真空離子鍍膜機且按照常規 PVD真空鍍膜方法在所述處理面上鍍一膜層一作為第一次表面局部遺留膜層，所述膜層一 為TiN膜層，且進行真空鍍膜時，真空度為0. 52Pa，所采用仏的流量為300sCCm，所采用Ar 的流量為lkccm，鍍膜時間為4分鐘。真空鍍膜之前，應確保初始真空度達到0. 02Pa以上， 且真空鍍膜過程中，應確認給工件施加負偏壓。
步驟二、隔膜層制作及膜層局部破壞處理，其過程如下
201、隔膜層制作采用真空離子鍍膜機且按照PVD真空鍍膜方法在所述第一次表 面局部遺留膜層上鍍一膜層二作為隔膜層。
本實施例中，所述膜層二為ττ膜層，且進行真空鍍膜時，真空度為0. 45Pa，所采用 Ar的流量為30sCCm，鍍膜時間為2分鐘。在第一次鍍膜結束后，關閉真空離子鍍膜機且維 持真空度在0. 02Pa以上再進行膜層二的鍍膜，且鍍膜層二時，應確認步驟一中所采用的鈦 靶完全關閉，所述膜層二鍍膜完成后，應確保表面無脫落現象。
202、膜層局部破壞處理采用機加工工具、化學刻蝕方法或電化學刻蝕方法穿過 所述隔膜層由上至下對所述隔膜層和第一次表面局部遺留膜層同時進行局部破壞，相應獲 得經膜層局部破壞處理后的局部破壞處理面二。
本實施例中，采用拋砂輪拋穿所述隔膜層和第一次表面局部遺留膜層，露出基材 顏色。
步驟三、第二次表面局部遺留膜層制作采用PVD真空鍍膜方法在步驟202中所述 的局部破壞處理面二上鍍一膜層三作為第二次表面局部遺留膜層，并相應獲得二次鍍膜處理面二。
第二次表面局部遺留膜層制作之前，應用蘸有酒精的干凈毛巾對經膜層局部破壞 處理后的局部破壞處理面二進行擦拭清洗，且清洗結束后應采用烘干爐進行表面烘烤，烘 干溫度為180°C且烘干時間為10分鐘以上，表面烘烤過程中，應不能用手直接觸摸局部破 壞處理面二的表面。
本實施例中，制作第二次表面局部遺留膜層時，采用真空離子鍍膜機且按照常 規PVD真空鍍膜方法在所述局部破壞處理面二上鍍一膜層三作為第二次表面局部遺留膜 層，所述膜層三為TiCN膜層，且進行真空鍍膜時，真空度為0. 52Pa,所采用O2的流量為 lOOsccm，所采用Ar的流量為Msccm，鍍膜時間為5分鐘。真空鍍膜之前，應確保初始真空 度達到0. 02Pa以上，且真空鍍膜過程中，應確認給工件施加負偏壓，同時應確保步驟201中 所使用的鋯靶完全關閉。
步驟四、局部膜層剝離當對所述二次鍍膜處理面二進行局部膜層剝離時，采用化 學腐蝕或電鍍腐蝕方法對鍍在未被破壞的所述隔膜層上的第二次表面局部遺留膜層進行 剝離，而將鍍在已被破壞的所述隔膜層上的第二次表面局部遺留膜層保留下來，并完成雙 色膜層的制作過程。
本實施例中，采用化學腐蝕方法對鍍在未被破壞的所述隔膜層上的第二次表面局 部遺留膜層進行剝離，具體是在退膜槽內且采用退鋯溶液進行退膜處理，本實施例中所用 的退鋯溶液為由氫氟酸、氟化銨與水按照0.5KG 12KG 300KG的比例均勻混合配制而 成，剝離時間為30分鐘，且剝離過程中加壓縮空氣進行漂洗。本實施例中，剝離后完成對所 述隔膜層及鍍在隔膜層上的第二次表面局部遺留膜層同時進行剝離，且退膜后獲得有明顯規律性的雙色砂線效果裝飾面。注意退膜溶液雜質過多時，要及時更換或進行過濾處理，退 膜前以PH試片測試退鋯溶液的PH值，應確保pH = 4。
本實施例中，退膜結束后，應采用超音波清洗槽且分三個步驟進行清洗，首先用離 子水進行超音波清洗，超音波清洗5分鐘；隨后，再過3槽純水進行清洗；最后，用低溫烘干 除水。之后，在標準日光燈光源下對所加工出的成品進行目視檢驗可見，待隔膜層完全剝離 后，有明顯雙色砂線效果。
實施例3
本實施例中，與實施例2不同的是本實施例中需制作的產品是藍-金-銀三色 裝飾膜層(其中，需制作多色膜層的顏色數量η = 3)，以實施例2中所制作的藍-金雙色 膜層作為第一次表面局部遺留膜層，重復步驟二至步驟四一次后，則相應獲得顏色數量為3 的三色膜層，且重復步驟二至步驟四的具體制作過程如下
首先，制作隔膜層，本實施例中所制作的隔膜層為^ 膜層，采用真空多弧離子鍍 膜機進行鍍膜且鍍膜時真空度為0. 02Pa以上，鍍膜之前采用真空爐體在80°C條件下進行 加溫且加溫時間為5分鐘，并采用氬離子進行清洗輸入氬氣的流量為150sOOm，工件偏壓 為-600V 800V，通過調整氬氣的流量使得真空度保持在1. 0 2. OPa,清洗時間為5分 鐘；所采用的靶材為鋯靶且對鋯靶進行高壓轟擊時，采用5個蒸發離子源，偏壓降至-400V， 氬氣流量降至50sOOm，逐個靶材轟擊40秒，調整氬氣流量并將真空度維持在0. 045Pa ；鍍 膜前先進行預鍍，5個鋯靶蒸發離子源全開，偏壓降至-200V，氬氣流量降20sOOm，調整氬 氣流量并將真空度維持在0. 15 0. 2Pa之間，預鍍時間為1分鐘；隨后，進行鍍膜，電壓降 至-100V，調整氬氣流量并將真空度維持在0. 35 0. 4Pa，鍍膜時間為2分鐘；鍍膜完成后 爐內冷卻5分鐘，雙手戴耐溫手套拿取工件出爐。
隨后，進行膜層局部破壞處理，采用拋砂機臺及300#的尼龍拋砂輪且轉速為 300 500轉/分鐘，在被加工基材垂直方向上進行拋砂，并相應拋成絲狀紋路，局部破壞深 度直至不銹鋼基材表面；局部破壞結束后，用離子水及超音波進行表面清洗，清洗結束后先 用干凈毛巾擦干表面水分，并采用烘干設備在200°C條件下進行烘干處理且烘干處理時間 為30分鐘以上。
緊接著，重復步驟三，進行第三次表面局部遺留膜層制作，采用真空多弧離子鍍膜 機進行鍍膜，首先將產品烘烤后裝爐抽真空，真空度達0. 02Pa以上時，真空爐體在80°C條 件下加溫5分鐘，并以氬離子清洗輸入氬氣的流量為150sOOm，工件偏壓為-600 800V， 調整氬氣的流量并將真空度維持在1. 0 2. OPa且清洗時間為5分鐘；所采用的靶材為鉻 靶且對鉻靶進行高壓轟擊時，采用5個蒸發離子源，偏壓降至-400V，氬氣流量降50sOOm， 逐個靶材轟擊40秒，調整氬氣流量并將真空度維持在0. 045Pa ；鍍膜前先進行預鍍，5個鉻 靶蒸發離子源全開，偏壓降至-200V，氬氣流量降20sOOm，調整氬氣流量并將真空度維持在 0. 15 0. 2 之間，預鍍時間為1分鐘；隨后，進行鍍膜，鍍膜時輸入氬氣的流量為50sOOm， 同時將氬氣關閉并將電壓降至-150V，調整氬氣流量并將真空度維持在0. 35 0. 4Pa，鍍膜 時間為3分鐘；鍍膜完成后爐內冷卻5分鐘，雙手戴耐溫手套拿取工件出爐。
最后，進行局部膜層剝離，采用化學腐蝕方法對鍍在未被破壞的所述隔膜層上的 第三次表面局部遺留膜層進行剝離，具體是在退膜槽內且采用化學剝離溶液進行退膜處 理，本實施例中所用的化學剝離溶液為由氫氟酸、氟化銨與水按照0.5KG 12KG 300KG11的比例均勻混合配制而成，剝離時間為30分鐘，且剝離過程中加壓縮空氣進行漂洗。本實 施例中，剝離后完成對所述隔膜層及鍍在隔膜層上的第三次表面局部遺留膜層同時進行剝 離，且退膜后以超音波清洗并擦干表面水分，獲得有明顯規律性的藍-金-銀三色裝飾膜層。
本實施例中，在實施例2中所制作的藍-金雙色膜層上制作隔膜層之前，先以酒精 擦拭方式對所述藍-金雙色膜層進行表面清洗，再采用烘干設備在200°C下對所述藍-金雙 色膜層進行烘干處理且烘干處理時間為30分鐘以上。
實施例4
本實施例中，與實施例3不同的是本實施例中需制作的產品是藍-金-銀-紫 銅四色裝飾膜層(其中，需制作多色膜層的顏色數量η = 4)，以實施例3中所制作的 藍-金-銀三色膜層作為第一次表面局部遺留膜層，具體在實施例2中所制作的藍-金 雙色膜層的基礎上重復步驟二至步驟四兩次后獲得四色膜層；以實施例3中所制作的 藍-金-銀三色膜層作為第一次表面局部遺留膜層，重復步驟二至步驟四的具體制作過程 如下
首先，制作隔膜層，本實施例中所制作的隔膜層為^ 膜層，采用真空多弧離子鍍 膜機進行鍍膜且鍍膜時真空度為0. 02Pa以上，鍍膜之前采用真空爐體在80°C條件下進行 加溫且加溫時間為5分鐘，并采用氬離子進行清洗輸入氬氣的流量為150sOOm，工件偏壓 為-600V 800V，通過調整氬氣的流量使得真空度保持在1. 0 2. OPa，清洗時間為5分 鐘；所采用的靶材為鋯靶且對鋯靶進行高壓轟擊時，采用5個蒸發離子源，偏壓降至-400V， 氬氣流量降至50sOOm，逐個靶材轟擊40秒，調整氬氣流量并將真空度維持在0. 045Pa ；鍍 膜前先進行預鍍，5個鋯靶蒸發離子源全開，偏壓降至-200V，氬氣流量降20sOOm，調整氬 氣流量并將真空度維持在0. 15 0. 2Pa之間，預鍍時間為1分鐘；隨后，進行鍍膜，電壓降 至-100V，調整氬氣流量并將真空度維持在0. 35 0. 4Pa，鍍膜時間為2分鐘；鍍膜完成后 爐內冷卻5分鐘，雙手戴耐溫手套拿取工件出爐。
隨后，進行膜層局部破壞處理，采用研磨砂紙進行人工破壞，對被加工基材進行間 隔性打磨，并相應拋成線狀痕跡，局部破壞深度直至不銹鋼基材表面；局部破壞結束后，用 離子水及超音波進行表面清洗，清洗結束后先用干凈毛巾擦干表面水分，并采用烘干設備 在200°C條件下進行烘干處理且烘干處理時間為30分鐘以上。
緊接著，重復步驟三，進行第四次表面局部遺留膜層制作，采用真空多弧離子鍍膜 機進行鍍膜，首先將產品烘烤后裝爐抽真空，真空度達0. 02Pa以上時，真空爐體在80°C條 件下加溫5分鐘，并以氬離子清洗輸入氬氣的流量為150sOOm，工件偏壓為-600 800V， 調整氬氣的流量并將真空度維持在1. 0 2. OPa且清洗時間為5分鐘；所采用的靶材為鈦 靶且對鈦靶進行高壓轟擊時，采用5個蒸發離子源，偏壓降至-400V，氬氣流量降至50sOOm， 逐個靶材轟擊40秒，調整氬氣流量并將真空度維持在0. 045Pa ；鍍膜前先進行預鍍，5個鋯 靶蒸發離子源全開，偏壓降至-200V，氬氣流量降20sOOm，調整氬氣流量并將真空度維持在 0. 15 0. 2 之間，預鍍時間為1分鐘；隨后，進行鍍膜，鍍膜時輸入氮氣的流量為lOOsoom 且30秒內逐漸調升至400soom，并加入乙炔氣50soom并逐步調升至180soom，同時將氬氣 關閉并將電壓降至-100V，調整氮氣流量并將真空度維持在0. 35 0. 4Pa,鍍膜時間為3分 鐘；鍍膜完成后爐內冷卻5分鐘，雙手戴耐溫手套拿取工件出爐。
最后，進行局部膜層剝離，采用化學腐蝕方法對鍍在未被破壞的所述隔膜層上的 第四次表面局部遺留膜層進行剝離，具體是在退膜槽內且采用化學剝離溶液進行退膜處 理，本實施例中所用的化學剝離溶液為由氫氟酸、氟化銨與水按照0.5KG 12KG 300KG 的比例均勻混合配制而成，剝離時間為30分鐘，且剝離過程中加壓縮空氣進行鼓泡攪拌。 本實施例中，剝離后完成對所述隔膜層及鍍在隔膜層上的第四次表面局部遺留膜層同時進 行剝離，且退膜后以超音波清洗并擦干表面水分，獲得有明顯規律性的藍-金-銀-紫銅四 色裝飾膜層。
實施例5
本實施例中，與實施例4不同的是本實施例中需制作的產品是 黑-金-藍-紫-灰五色裝飾膜層(其中，需制作多色膜層的顏色數量η = 5)，以實施例4 中所制作的藍-金-銀-紫銅四色膜層作為第一次表面局部遺留膜層，具體在實施例2中 所制作的藍-金雙色膜層的基礎上重復步驟二至步驟四三次后獲得五色膜層；以實施例4 中所制作的藍-金-銀-紫銅四色膜層作為第一次表面局部遺留膜層，重復步驟二至步驟 四的具體制作過程如下
首先，制作隔膜層，本實施例中所制作的隔膜層為^ 膜層，采用真空多弧離子鍍 膜機進行鍍膜且鍍膜時真空度為o. 02Pa以上，鍍膜之前采用真空爐體在80°C條件下進行 加溫且加溫時間為5分鐘，并采用氬離子進行清洗輸入氬氣的流量為150sOOm，工件偏壓 為-600V 800V，通過調整氬氣的流量使得真空度保持在1. 0 2. OPa,清洗時間為5分鐘； 所采用的靶材為鋯靶且對鋯靶進行高壓轟擊時，采用5個蒸發離子源，偏壓降至-400V，氬 氣流量降50sOOm，逐個靶材轟擊40秒，調整氬氣流量并將真空度維持在0. 045Pa ；鍍膜前先 進行預鍍，5個鋯靶蒸發離子源全開，偏壓降至-200V，氬氣流量降20sOOm，調整氬氣流量并 將真空度維持在0. 15 0. 2 之間，預鍍時間為1分鐘；隨后，進行鍍膜，電壓降至-100V， 調整氬氣流量并將真空度維持在0. 35 0. 4Pa,鍍膜時間為2分鐘；鍍膜完成后爐內冷卻5 分鐘，雙手戴耐溫手套拿取工件出爐。
隨后，進行膜層局部破壞處理，采用研磨砂紙進行人工破壞，對被加工基材進行間 隔性打磨，并相應拋成線狀痕跡，表面形成絲狀紋路，局部破壞深度直至不銹鋼基材表面； 局部破壞結束后，用離子水及超音波進行表面清洗，清洗結束后先用干凈毛巾擦干表面水 分，并采用烘干設備在200°C條件下進行烘干處理且烘干處理時間為30分鐘以上。
緊接著，重復步驟三，進行第五次表面局部遺留膜層制作，采用真空多弧離子鍍膜 機進行鍍膜，首先將產品烘烤后裝爐抽真空，真空度達0. 02Pa以上時，真空爐體在80°C條 件下加溫5分鐘，并以氬離子清洗輸入氬氣的流量為150sOOm，工件偏壓為-600 800V， 調整氬氣的流量并將真空度維持在1. 0 2. OPa且清洗時間為5分鐘；所采用的靶材為鈦 靶且對鈦靶進行高壓轟擊時，采用5個蒸發離子源，偏壓降至-400V，氬氣流量降50sOOm， 逐個靶材轟擊40秒，調整氬氣流量并將真空度維持在0. 045Pa ；鍍膜前先進行預鍍，5個鋯 靶蒸發離子源全開，偏壓降至-200V，氬氣流量降20sOOm，調整氬氣流量并將真空度維持在 0. 15 0. 2 之間，預鍍時間為1分鐘；隨后，進行鍍膜，鍍膜時輸入氮氣的流量為lOOsoom 且30秒內逐漸調升至400soom，并加入乙炔氣50soom并逐步調升至180soom，同時將氬氣 關閉并將電壓降至-100V，調整乙炔流量并將真空度維持在0. 45 0. 7Pa,鍍膜時間為4分 鐘；鍍膜完成后爐內冷卻5分鐘，雙手戴耐溫手套拿取工件出爐。
最后，進行局部膜層剝離，采用化學腐蝕方法對鍍在未被破壞的所述隔膜層上的 第五次表面局部遺留膜層進行剝離，具體是在退膜槽內且采用化學剝離溶液進行退膜處 理，本實施例中所用的化學剝離溶液為由氫氟酸、氟化銨與水按照0.5KG 12KG 300KG 的比例均勻混合配制而成，剝離時間為30分鐘，且剝離過程中加壓縮空氣進行鼓泡攪拌。 本實施例中，剝離后完成對所述隔膜層及鍍在隔膜層上的第五次表面局部遺留膜層同時進 行剝離，且退膜后以超音波清洗并擦干表面水分，獲得有明顯規律性的藍-金-銀-紫-灰 五色裝飾膜層。
實施例6
本實施例中，與實施例5不同的是本實施例中需制作的產品是 藍-金-銀-紫-灰-青銅六色裝飾膜層(其中，需制作多色膜層的顏色數量η = 6)，以實 施例5中所制作的藍-金-銀-紫-灰五色膜層作為第一次表面局部遺留膜層，具體在實 施例2中所制作的藍-金雙色膜層的基礎上重復步驟二至步驟四四次后獲得六色膜層；以 實施例5中所制作的藍-金-銀-紫-灰五色膜層作為第一次表面局部遺留膜層，重復步 驟二至步驟四的具體制作過程如下
首先，制作隔膜層，本實施例中所制作的隔膜層為^ 膜層，采用真空多弧離子鍍 膜機進行鍍膜且鍍膜時真空度為0. 02Pa以上，鍍膜之前采用真空爐體在80°C條件下進行 加溫且加溫時間為5分鐘，并采用氬離子進行清洗輸入氬氣的流量為150sOOm，工件偏壓 為-600V 800V，通過調整氬氣的流量使得真空度保持在1. 0 2. OPa，清洗時間為5分 鐘；所采用的靶材為鋯靶且對鋯靶進行高壓轟擊時，采用5個蒸發離子源，偏壓降至-400V， 氬氣流量降至50sOOm，逐個靶材轟擊40秒，調整氬氣流量并將真空度維持在0. 045Pa ；鍍 膜前先進行預鍍，5個鋯靶蒸發離子源全開，偏壓降至-200V，氬氣流量降20sOOm，調整氬 氣流量并將真空度維持在0. 15 0. 2 之間，預鍍時間為1分鐘；隨后，進行鍍膜，電壓降 至-100V，調整氬氣流量并將其維持20SOOm，同時輸入氮氣且流量為lOOsoom并在30秒內 逐漸調升400sOOm，調整氮氣的流量并將真空度維持在0. 35 0. 4Pa，鍍膜時間為2分鐘； 鍍膜完成后爐內冷卻5分鐘，雙手戴耐溫手套拿取工件出爐。
隨后，進行膜層局部破壞處理，采用研磨砂紙進行人工破壞，對被加工基材進行間 隔性打磨，并相應拋成線狀痕跡，表面形成絲狀紋路，局部破壞深度直至不銹鋼基材表面； 局部破壞結束后，用離子水及超音波進行表面清洗，清洗結束后先用干凈毛巾擦干表面水 分，并采用烘干設備在200°C條件下進行烘干處理且烘干處理時間為30分鐘以上。
緊接著，重復步驟三，進行第六次表面局部遺留膜層制作，采用真空多弧離子鍍膜 機進行鍍膜，首先將產品烘烤后裝爐抽真空，真空度達0. 02 以上時，真空爐體在80°C條 件下加溫5分鐘，并以氬離子清洗輸入氬氣的流量為150sOOm，工件偏壓為-600 800V， 調整氬氣的流量并將真空度維持在1. 0 2. OPa且清洗時間為5分鐘；所采用的靶材為鈦 靶且對鈦靶進行高壓轟擊時，采用5個蒸發離子源，偏壓降至-400V，氬氣流量降至50sOOm， 逐個靶材轟擊40秒，調整氬氣流量并將真空度維持在0. 045Pa ；鍍膜前先進行預鍍，5個 鋯靶蒸發離子源全開，偏壓降至-200V，氬氣流量降至20sOOm，調整氬氣流量并將真空度維 持在0. 15 0. 2 之間，預鍍時間為1分鐘；隨后，進行鍍膜，鍍膜時輸入氮氣的流量為 lOOsoom且30秒內逐漸調升至400sOOm，同時將氬氣關閉并將電壓降至-100V，調整氮氣流 量并將真空度維持在0. 45 0. 7Pa，鍍膜時間為4分鐘；鍍膜完成后爐內冷卻5分鐘，雙手戴耐溫手套拿取工件出爐。
最后，進行局部剝離，采用化學腐蝕方法對鍍在未被破壞的所述隔膜層上的第六 次表面局部遺留膜層進行剝離，具體是在退膜槽內且采用化學剝離溶液進行退膜處理，本 實施例中所用的化學剝離溶液為由氫氟酸、氟化銨與水按照0.5KG 12KG 300KG的比例 均勻混合配制而成，剝離時間為3分鐘，且剝離過程中加壓縮空氣進行鼓泡攪拌。本實施例 中，剝離后完成對所述隔膜層及鍍在隔膜層上的第六次表面局部遺留膜層同時進行剝離， 且退膜后以超音波清洗并擦干表面水分，獲得有明顯規律性的藍-金-銀-紫-灰-青銅 六色裝飾膜層。
實際加工制作過程中，首先確定需制作多色膜層的顏色數量η(指在產品加工完 成后，表面可看到的顏色層)且η > 3 ；其次，以步驟四中所獲得的雙色膜層為第一次表面 局部遺留膜層，重復步驟二至步驟四η-2次后，則相應獲得顏色數量為η的多色膜層；其中， η-2次步驟二至步驟四的重復過程相應形成η-2次膜層表面處理過程，且每一次膜層表面 處理過程中，均以上一次膜層表面處理過程所獲得的多層膜層作為本次膜層表面處理過程 的第一次表面局部遺留膜層。這樣，便可完成各種多層膜層的加工制作過程。
以上所述，僅是本發明的較佳實施例，并非對本發明作任何限制，凡是根據本發明 技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、變更以及等效結構變化，均仍屬于本發明技 術方案的保護范圍內。
權利要求
1. 一種多色耐磨金屬裝飾膜層的制作方法，其特征在于該方法包括以下步驟步驟一、第一次表面局部遺留膜層選定或制作首先，在被加工基材上選擇一個外側面 作為處理面；之后，以所述處理面作為第一次表面局部遺留膜層，或者通過常規PVD真空鍍 膜方法或電鍍法在所述處理面上鍍一金屬膜層一作為第一次表面局部遺留膜層，所述金屬 膜層一為單質金屬膜層、合金膜層或金屬化合物膜層；步驟二、隔膜層制作及膜層局部破壞處理，其過程如下·201、隔膜層制作首先，對第一次表面局部遺留膜層的材質進行判斷當第一次表面 局部遺留膜層為半導體膜層或碳化合物膜層時，采用機加工工具、化學腐蝕方法或電解腐 蝕刻蝕方法對所述第一次表面局部遺留膜層進行局部破壞，相應獲得第一次表面局部遺留 膜層經局部破壞處理后的局部破壞處理面一；反之，采用電鍍、PVD真空鍍膜、電泳、噴涂或 粉刷方法采用PVD真空鍍膜方法在所述第一次表面局部遺留膜層上鍍一層或多層金屬膜 層二、非金屬膜層或半導體膜層作為作為隔膜層；所述金屬膜層二為單質金屬膜層、合金膜 層或金屬化合物膜層，且所述金屬膜層二與步驟一中所述金屬膜層一的材質不同；·202、膜層局部破壞處理采用機加工工具、化學腐蝕方法或電解腐蝕刻蝕方法對所述 隔膜層單獨進行局部破壞、穿過所述隔膜層由上至下對所述隔膜層和第一次表面局部遺留 膜層同時進行局部破壞或者穿過所述隔膜層和所述第一次表面局部遺留膜層由上至下對 所述隔膜層、第一次表面局部遺留膜層和被加工基材的處理面同時進行局部破壞，相應獲 得經膜層局部破壞處理后的局部破壞處理面二；步驟三、第二次表面局部遺留膜層制作采用PVD真空鍍膜方法在步驟201中所述的局 部破壞處理面一或步驟202中所述的局部破壞處理面二上鍍一金屬膜層三作為第二次表 面局部遺留膜層，并相應獲得二次鍍膜處理面一或二次鍍膜處理面二 ；所述金屬膜層二為 單質金屬膜層、合金膜層或金屬化合物膜層，且所述金屬膜層三的材質與所述金屬膜層二 的材質不同；步驟四、局部膜層剝離當對所述二次鍍膜處理面一進行局部膜層剝離時，由于步驟三 中采用PVD真空鍍膜方法在所述局部破壞處理面一上鍍第二次表面局部遺留膜層過程中， 所鍍的第二次表面局部遺留膜層不能附著于未被破壞的第一次表面局部遺留膜層上，則可 將步驟三中鍍在未被破壞的第一次表面局部遺留膜層上的第二次表面局部遺留膜層直接 剝離，而將鍍在已被破壞的第一次表面局部遺留膜層上的第二次表面局部遺留膜層保留下 來，并完成雙色膜層的制作過程；當對所述二次鍍膜處理面二進行局部膜層剝離時，采用化學腐蝕或電解腐蝕方法對隔 膜層進行剝離的同時并將鍍在未被破壞的隔膜層上的第二次表面局部遺留膜層剝離，而將 鍍在已被破壞的所述隔膜層上的第二次表面局部遺留膜層保留下來，并完成雙色膜層的制 作過程；步驟五、三色以上的多色膜層制作當需制作三色以上的多色膜層時，首先判斷需制作 多色膜層的顏色數量11且11 > 3 ；其次，以步驟四中所獲得的雙色膜層為第一次表面局部遺 留膜層，重復步驟二至步驟四n-2次后，則相應獲得顏色數量為η的多色膜層；其中，η-2次 步驟二至步驟四的重復過程相應形成η-2次膜層表面處理過程，且每一次膜層表面處理過 程中，均以上一次膜層表面處理過程所獲得的多層膜層作為本次膜層表面處理過程的第一 次表面局部遺留膜層。
2.按照權利要求1所述的多色耐磨金屬裝飾膜層的制作方法，其特征在于步驟一、步 驟二和步驟三中所述的非金屬膜層為有機膜層或漆類膜層。
3.按照權利要求2所述的多色耐磨金屬裝飾膜層的制作方法，其特征在于步驟一、步 驟二和步驟三中所述的金屬膜層為由鋁、錫、銻、硼、銅、石墨、硅、鉭、鋅、銀、鋯、鎂、鈮、鉬、 鉻、鈦或鎳制成的單質金屬膜層、不銹鋼膜層或者由鋁、錫、銻、硼、銅、石墨、硅、鉭、鋅、銀、 鋯、鎂、鈮、鉬、鉻、鈦或鎳的合金或金屬化合物制成的合金膜層或金屬化合物膜層。
4.按照權利要求1、2或3所述的多色耐磨金屬裝飾膜層的制作方法，其特征在于步 驟一中所述的被加工基材為表面鍍有金屬膜層的金屬基材或非金屬基材、合金基材或者不 銹鋼基材。
5.按照權利要求1、2或3所述的多色耐磨金屬裝飾膜層的制作方法，其特征在于步 驟一中所述的處理面選擇好后，應立即對所選擇的處理面進行清洗與烘干；步驟201中所 述的隔膜層鍍膜之前，需對所述第一次表面局部遺留膜層進行清洗與烘干；步驟三中所述 的第二次表面局部遺留膜層鍍膜之前，需對所述二次鍍膜處理面一或二次鍍膜處理面二進 行清洗與烘干。
6.按照權利要求5所述的多色耐磨金屬裝飾膜層的制作方法，其特征在于步驟一、步 驟201和步驟三中進行清洗時，采用超音波進行清洗或采用酒精擦試方法進行清洗。
7.按照權利要求6所述的多色耐磨金屬裝飾膜層的制作方法，其特征在于步驟一、步 驟201和步驟三中進行烘干時，采用烘干爐進行烘干且烘干溫度為50°C以上。
8.按照權利要求1、2或3所述的多色耐磨金屬裝飾膜層的制作方法，其特征在于步 驟四中所述的采用化學腐蝕或電解腐蝕方法對鍍在未被破壞的所述第一次表面局部遺留 膜層上的第二次表面局部遺留膜層進行剝離后，還需對所獲得的雙色膜層進行清洗和烘干 處理。
9.按照權利要求8所述的多色耐磨金屬裝飾膜層的制作方法，其特征在于步驟四中 進行清洗時，采用超音波進行清洗。
10.按照權利要求8所述的多色耐磨金屬裝飾膜層的制作方法，其特征在于步驟201 和步驟202中所述的機加工工具為拋砂輪、噴砂機或手動研磨工具；步驟201和步驟202中 所述的進行局部破壞時，相應處理形成多種花紋結構。
全文摘要
本發明公開了一種多色耐磨金屬裝飾膜層的制作方法，包括以下步驟一、第一次表面局部遺留膜層選定或制作；二、隔膜層制作及膜層局部破壞處理；三、第二次表面局部遺留膜層制作；四、局部膜層剝離，并獲得雙色膜層；五、三色以上的多色膜層制作先判斷需制作多色膜層的顏色數量n；其次，以步驟四中所獲得的雙色膜層為第一次表面局部遺留膜層，重復步驟二至步驟四n-2次后，則相應獲得顏色數量為n的多色膜層。本發明設計合理、加工制作方便、加工制程環保且所制作的多色膜層具有高耐磨性、顏色多元化與耐高溫的環保性等優良特性，能有效解決現有多色膜層加工制程所存在的顏色單一、加工過程復雜、適用面窄、不環保等多種實際問題。
文檔編號B32B38/10GK102029765SQ20101029590
公開日2011年4月27日 申請日期2010年9月27日 優先權日2010年9月27日
發明者周曉宏 申請人:周曉宏