一種耐指紋型高抗刮光學保護膜的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種耐指紋型高抗刮光學保護膜，它包括精密保護膜層、高抗刮層、光學基材層、膠粘劑層和隔離膜層，所述光學基材層上表面涂有高抗刮層，此高抗刮層表面具有多個涂層凸起結構，所述涂層凸起結構中含有耐指紋成分和納米顆粒，所述涂層凸起結構表面復合一精密保護膜層，所述光學基材層下表面涂有膠粘劑層，所述膠粘劑層表面復合隔離膜層。本實用新型凸起結構使保護膜使用表面形成凹凸不平的表面，從而起到耐指紋的作用，而涂層凸起結構中包含耐指紋成分和納米顆粒，進一步提高了產品的耐指紋性，有效抑制指紋和汗漬。因此，本實用新型具備硬度高、耐指紋、色彩還原效果好，不脫膠等優點，市場前景廣闊，具備極大的市場價值。
【專利說明】一種耐指紋型高抗刮光學保護膜
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種光學保護膜，具體涉及一種耐指紋型高抗刮光學保護膜。
【背景技術】
[0002]隨著電子消費產品的快速發展，各種保護膜已經成為智能手機、平板電腦等電子產品不可缺少的一種起觸摸式電容屏保護功能的產品。但是目前普通的保護膜仍存在以下幾個主要問題:(I)基層材料不屬于光學材料，屏幕色彩還原效果差；(2)表面不耐指紋和汗潰，極易造成電子觸控屏的臟污，影響使用；(3)表面硬度差，容易被劃傷；(4)膠粘層低分子含量高，長時間使用易出現脫膠、殘膠現象，給觸摸屏帶來嚴重的污染，造成觸摸屏觸控失效。
實用新型內容
[0003]本實用新型的目的就在于針對上述現有技術的不足，提供一種耐指紋型高抗刮光學保護膜，該耐指紋型高抗刮光學保護膜表面耐指紋，有效抑制產品表面指紋和汗潰的形成，表面硬度高達4H，不僅充分保護觸摸屏不被刮傷，而且延長了保護膜產品的使用壽命，基材層選用光學極PET薄膜，透光率高，霧度小，屏幕圖像色彩還原效果好，膠粘劑層長時間粘貼不轉移、不脫膠。
[0004]為了實現上述目的，本實用新型采用的技術方案是這樣的:
[0005]一種耐指紋型高抗刮光學保護膜，包括精密保護膜層、高抗刮層、光學基材層、膠粘劑層和隔離膜層，所述光學基材層上表面涂有高抗刮層，此高抗刮層表面具有多個涂層凸起結構，所述涂層凸起結構中含有耐指紋成分和納米顆粒，所述涂層凸起結構表面復合一精密保護膜層，所述光學基材層下表面涂有膠粘劑層，所述膠粘劑層表面復合隔離膜層。
[0006]上述技術方案中進一步改進的方案如下:
[0007]1、上述方案中，所述涂層凸起結構的橫截面形狀為圓形。
[0008]2、上述方案中，所述耐指紋成分選自氟碳樹脂、氟硅改性樹脂和硅氧烷，其性能達到:耐藍筆*5min, OK ;耐黑筆*5min, OK ;耐紅筆*5min, 0K。
[0009]3、上述方案中，所述納米顆粒選用納米二氧化硅和納米二氧化鈦中的一種。
[0010]4、上述方案中，所述光學基材層為光學級PET薄膜，厚度為100 μ m，透光率>96%，
霧度彡0.8%。
[0011]5、上述方案中，所述膠粘劑層選用自吸式有機硅膠粘層、PU膠粘層中一種，膠粘劑層厚度20 μ m?30 μ m,粘著力< lgf/25mm,取60_X 120mm測試面積粘貼于鏡面玻璃面，貼附時間< 1.5s。
[0012]6、上述方案中，所述高防刮涂層干膜厚度3 μ m?4 μ m，表面硬度4H (三菱鉛筆硬度)。
[0013]7、上述方案中，所述精密保護膜層選用PET材質，其厚度為50μπι，粘著力(3gf/25mm,材質粘合層缺陷< 2個。
[0014]8、上述方案中，所述隔離膜層的厚度為50 μ m，透光率彡92%，霧度彡1.0%。
[0015]與現有技術相比，本實用新型的優點在于:
[0016]本實用新型基礎結構包括高抗刮層、光學基材層和膠粘劑層，高抗刮層上具備涂層凸起結構，該凸起結構使保護膜使用表面形成凹凸不平的表面，從而起到耐指紋的作用，而涂層凸起結構中包含耐指紋成分和納米顆粒，進一步提高了產品的耐指紋性，有效抑制指紋和汗潰；而高抗刮層的應用，提高了產品的表面硬度，充分保護了觸摸屏不被刮傷，而且延長了保護膜產品的使用壽命；光學基材層選用光學極PET薄膜，透光率高，霧度小，屏幕圖像色彩還原效果好；膠粘劑層選用高檔膠粘劑，長時間粘貼不轉移、不脫膠。精密保護膜層將凸起結構和高抗刮層與外界隔離，隔離膜層隔離膠粘劑層和外界，對本產品起到保護作用，方便其儲存和運輸。
[0017]因此，本實用新型具備硬度高、耐指紋、色彩還原效果好，不脫膠等優點，市場前景廣闊，具備極大的市場價值。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0018]圖1為本實用新型耐指紋型高抗刮光學保護膜的結構示意圖。
[0019]圖例說明:1、光學基材層；2、高抗刮層；3、膠粘劑層；4、涂層凸起結構；5、精密保護膜層；6、隔離膜層。
【具體實施方式】
[0020]下面結合實施例對本實用新型作進一步描述:
[0021]實例1:如圖1所示，本實用新型一種耐指紋型高抗刮光學保護，包括精密保護膜層5、光學基材層1和隔離膜層6，所述光學基材層1上表面涂有高抗刮層2，此高抗刮層2表面具有多個涂層凸起結構4，所述涂層凸起結構4中含有耐指紋成分，所述涂層凸起結構4的橫截面形狀為圓形，所述涂層凸起結構4中含有納米顆粒，所述涂層凸起結構4表面復合一精密保護膜層5，所述光學基材層1下表面涂有膠粘劑層3，所述膠粘劑層3與光學基材層1相背的表面復合一隔離膜層6。
[0022]上述膠粘劑層3為自吸式有機硅膠粘層，此膠粘劑層厚度25 μ m。
[0023]上述光學基材層1為光學級PET薄膜，厚度為100 μ m,透光率彡96%，霧度彡0.8%。
[0024]上述納米顆粒為納米二氧化硅。
[0025]上述耐指紋成分為氟碳樹脂。
[0026]上述高抗刮層2的干膜厚度4 μ m,表面硬度4H (三菱鉛筆硬度)，附著力5B，柔韌性120度不開裂。
[0027]實例2: —種耐指紋型高抗刮光學保護，包括精密保護膜層5、光學基材層1和隔離膜層6，所述光學基材層1上表面涂有高抗刮層2，此高抗刮層2表面具有多個涂層凸起結構4，所述涂層凸起結構4中含有耐指紋成分，所述涂層凸起結構4的橫截面形狀為圓形，所述涂層凸起結構4中含有納米顆粒，所述涂層凸起結構4表面復合一精密保護膜層5，所述光學基材層1下表面涂有膠粘劑層3，所述膠粘劑層3與光學基材層1相背的表面復合一隔尚月旲層6。
[0028]上述膠粘劑層3為自吸式PU膠粘層，此膠粘劑層厚度20 μ m。
[0029]上述光學基材層I為光學級PET薄膜，厚度為100 μ m,透光率彡96%，霧度彡0.8%。
[0030]上述納米顆粒為納米二氧化硅。
[0031]上述耐指紋成分為氟硅改性樹脂。
[0032]上述高抗刮層2的干膜厚度4 μ m,表面硬度4H (三菱鉛筆硬度)，附著力5B，柔韌性120度不開裂。
[0033]采用上述耐指紋型高抗刮光學保護膜時，其方便貼附于觸摸屏表面，涂層凸起結構具有良好的耐指紋性，有效抑制產品表面指紋和汗潰的產品，同時高抗刮層的應用，不僅為整個產品提供良好的高光透過性，而且確保了產品在使用過程中不被外來物體刮傷；其次，高檔膠粘劑層具有排氣性能優異，方便粘貼，長時間粘貼無低分子物轉移，不脫膠和殘膠，對觸摸屏無污染。
[0034]精密保護膜層5將凸起結構4和高抗刮層2與外界隔離，隔離膜層6隔離膠粘劑層3和外界，對本產品起到保護作用，方便其儲存和運輸，使用時只需將其撕開便可正常使用。
[0035]上述實施例只為說明本實用新型的技術構造及特點，并非來限制本實用新型實施范圍，故凡依本實用新型申請專利范圍所述的構造、特征及原理所做的等效變化或修飾，都應涵蓋在本實用新型的保護范圍之內。
【權利要求】
1.一種耐指紋型高抗刮光學保護膜，其特征在于:包括精密保護膜層(5)、高抗刮層(2)、光學基材層(I)、膠粘劑層(3)和隔離膜層(6)，所述光學基材層(I)上表面涂有高抗刮層(2)，此高抗刮層(2)表面具有多個涂層凸起結構(4)，所述涂層凸起結構(4)表面復合一精密保護膜層(5 )，所述光學基材層(I)下表面涂有膠粘劑層(3 )，所述膠粘劑層(3 )表面復合隔離膜層(6)。
2.根據權利要求1所述的一種耐指紋型高抗刮光學保護膜，其特征在于:所述涂層凸起結構(4)的橫截面形狀為圓形。
3.根據權利要求1所述的一種耐指紋型高抗刮光學保護膜，其特征在于:所述光學基材層(I)的厚度為100 μ m，透光率彡96%，霧度彡0.8%。
4.根據權利要求1所述的一種耐指紋型高抗刮光學保護膜，其特征在于:所述精密保護膜層(5)選用PET材質，其厚度為50 μ m，粘著力< 3gf/25mm，材質粘合層缺陷< 2個。
5.根據權利要求1所述的一種耐指紋型高抗刮光學保護膜，其特征在于:所述膠粘劑層(3)厚度20 μ m?30 μ m,粘著力< lgf/25mm,取60mmX 120mm測試面積粘貼于鏡面玻璃面，貼附時間彡1.5s，膠粘劑層(3)選用自吸式有機硅膠粘層和PU膠粘層中任一種。
6.根據權利要求1所述的一種耐指紋型高抗刮光學保護膜，其特征在于:所述高抗刮層(2)厚度3μπι?4μπι，表面硬度4H，附著力5Β，柔韌性120°不開裂。
7.根據權利要求1所述的一種耐指紋型高抗刮光學保護膜，其特征在于:所述隔離膜層(6)的厚度為50 μ m，透光率彡92%，霧度彡1.0%。
【文檔編號】B32B27/36GK204095229SQ201420403234
【公開日】2015年1月14日 申請日期:2014年7月22日 優先權日:2014年7月22日
【發明者】張建軍, 程國虎, 張宏, 劉寶林, 王亮亮, 許顯成 申請人:隆昌羽璽新材料科技有限公司