專利名稱：一種制程設備輔助進氣口的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種制程設備輔助進氣口 ，尤其涉及一種在需散熱的制程 設備中，可均勻各層處理板前后段氣流散熱或制程效果制程設備輔助進氣口 。
背景技術：
以特定頻率的光源照射相對應能隙的物體，可令原本位于價帶的電子跳躍 至傳導帶，以產生較大的活性與特定的反應，利用特定光源照射的處理方式， 被廣泛的運用于各式制程設備中。
操作高頻率光源，例如紫外線等高頻率光源時，無可避免的會伴隨產生相 當多的熱量，這些熱量往往并非制程中所需要的，甚至是制程中必需避免的， 否則容易引起產品質量的變化，因此制程設備中便需要搭配各式降溫設計，其 中較常見的為氣冷系統，通過壓縮機或鼓風機等設備將低溫氣體導入制程設備 中，據以令受光照的基板等產品，可由氣流帶走多余的熱量，使得基板等物體 可保持在一定的溫度下，以維持產品質量，增進制程效果。
現有的制程設備裝置如美國專利第3994073、 4646446號所揭露的，其皆簡 單的以一壓縮機或鼓風機，將低溫氣體由一進氣端吹入制程設備的處理區，再
由排氣端將溫度升高后的氣體排出，此種方式若使用于具有較大處理區的制程 設備上，則該處理區前段與后段之間保持有一段距離，當低溫氣體經由前段流 到后段時，氣體溫度已升高不少，因此對后段而言，氣冷效果不佳，進而使處 理區內受光照的141等物體散熱效果不一，部分基板無法有效散熱，質量不佳、 良率下降、制程效果較差。因此就整體而言，其可說是相當不具有實用性，仍 有加以改良的必要。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種制程設備輔助進氣口 ，旨在解決現有的制 程設備的氣流受處理區規模的影響，較大的處理區其處理板的前段與后段氣流 流量與氣流溫度不同，使制程效果較差的問題。
本實用新型是這樣實現的， 一種制程設備輔助進氣口，其包括一處理區， 并為該處理區提供一主氣流，該處理區內設有一輔助進氣部，該輔助進氣部延
伸有多個輔助氣管，該輔助氣管上設有多個輔助氣孔；
且因輔助氣管內氣流會隨輔助氣孔向外噴出，故輔助氣管末端的氣體壓力 必然較輔助氣管頭端小，為避免輔助氣管各輔助氣孔所噴出的輔助氣流流量相 差甚大而降^氐散熱、制程效果，故該輔助氣孔的大小可由輔助氣管的末端向頭 端漸縮，于輔助氣管頭端以較小的輔助氣孔來抑制過多的輔助氣體噴出，減少 頭端的流量；而于輔助氣管末端以較大的輔助氣孔來減少輔助氣體噴出的壓力， 增加末端的流量，以達到輔助氣體均勻噴出至處理板各處的目的；
本實用新型提供的制程設備輔助進氣口 ，其在裝置本體原有的主氣流之外， 更設有一輔助進氣部，該輔助進氣部在處理板內每間隔一小段距離便形成有一 輔助氣管，而每一氣管皆設有輔助氣孔且可噴出輔助氣體，以有效平衡散熱效 果，免除現有的^f又具有主氣流的裝置本體，若處理區較大，則該處理板前段與 后段則散熱效果差異甚大，進而影響成品與制程效果，因此本實用新型實是相 當具有實用性及進步性，值得產業界來推廣，并公諸于社會大眾。
圖1是本實用新型提供的制程設備輔助進氣口的外觀立體示意圖； 圖2是本實用新型提供的制程設備輔助進氣口的處理板示意圖； 圖3是本實用新型提供的制程設備輔助進氣口輔助進氣部于處理板內的剖 視示意圖4和圖5是本實用新型提供的制程設備輔助進氣口的輔助氣管的不同實
施例的示意圖。
具體實施方式
為了使本實用新型的目的、技術方案及優點更加清楚明白，
以下結合附圖 及實施例，對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體 實施例僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。
本本實用新型涉及一種制程設備輔助進氣口，請參閱圖1至圖3,該制程 設備輔助進氣口主要包括一制程設備的裝置本體1，該裝置本體1內設有處理 區10，該處理區10內可"^殳置一個或多個處理板101,且該裝置本體1內"i殳有鼓 風機(圖未示)，為處理區10提供一主氣流20以降低其溫度，為了便于說明， 本實用新型以一現有的紫外線多層爐作為結構進行敘述，而該現有的結構并不 屬本實用新型所要申請的，故其詳細功效與作動原理在此不再贅述，在此先說明。
該處理區IO在各處理板101上設有輔助進氣部11,該輔助進氣部11具有 一進氣口 lll可與裝置本體l內的鼓風機連接，并導入部分的低溫冷卻氣體， 以使輔助進氣部ll的氣體更為均勻的吹入處理區10;
該輔助進氣部11延伸出數個輔助氣管112，令該輔助氣管112分布于處理 區IO處理板IOI內，而該輔助氣管U2上則設有多個大小不同的輔助氣孔113， 令該輔助氣孔113均勻的分布在處理區IO的處理板IOI內，為處理杉U01提供 均勻的輔助氣流；
因輔助氣管112內氣流會隨輔助氣孔113向外噴出，故輔助氣管112末端 的氣體壓力必然較輔助氣管112頭端小，為避免輔助氣管112各輔助氣孔113 所噴出的輔助氣流流量相差甚大而降低散熱、制程效果，故該輔助氣孔113的 大小可由輔助氣管112的末端向頭端漸縮，于輔助氣管112頭端以較小的輔助 氣孔113來抑制過多的輔助氣體噴出，減少頭端的流量；而于輔助氣管112末 端以較大的輔助氣孔113來減少輔助氣體噴出的壓力，增加末端的流量，從而
使輔助氣體均勻噴出至處理板101各處；
而該輔助氣管112可設置為可旋轉的結構，以調整輔助氣孔113的方向為 傾斜或垂直；
如圖3所示為該輔助進氣部11于處理板101的剖—見示意，于處理板101 內每間距一小段距離便形成有一輔助氣管112，而每一氣管皆可噴出輔助氣體， 以有效平衡散熱效果。
本實用新型提供的輔助進氣部11可如圖4所示的由同一側延伸出數根輔助 氣管112的狀態；或如圖5所示的由不同側交錯延伸出輔助氣管112的狀態， 當然，于本本實用新型所屬技術領域技術人員，亦可將該輔助氣管U2的排列 方式做任意調整，而達到相同的平均氣流的目的。
以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已，并不用以限制本實用新型， 凡在本實用新型的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等，均應 包含在本實用新型的保護范圍之內。
綜上所述，本實用新型提供的制程設備輔助進氣口在結構設計、使用實用 性及成本效益上，確實是完全符合產業上發展所需，且所揭露的結構創作亦是 具有前所未有的創新構造，所以其具有"新穎性，，應無疑慮，又本實用新型較 現有結構更具功效的增進，因此亦具有"進步性"，其完全符合我國專利法有 關實用新型專利的申請要件的規定，乃依法M專利申請，并敬請早日審查， 并給予肯定。
權利要求1、一種制程設備輔助進氣口，其特征在于，其包括一處理區，所述處理區內設有一輔助進氣部，所述輔助進氣部上設有多個噴出輔助氣流的輔助氣孔。
2、 如權利要求1所述的制程設備輔助進氣口，其特征在于，所述輔助進氣 部系延伸有多個輔助氣管，所述輔助氣孔設置于所述輔助氣管上。
3、 如權利要求1或2所述的制程設備輔助進氣口 ，其特征在于，所述輔助 氣孔呈大小不同的形態。
4、 如權利要求1或2所述的制程設備輔助進氣口 ，其特征在于，所述輔助 氣孔的方向可調整。
5、 如權利要求3所述的制程設備輔助進氣口，其特征在于，所述輔助氣孔 的方向可調整。
6、 如權利要求1或2所述的制程設備輔助進氣口，其特征在于，所述制程 設備輔助進氣口裝置本體為 一紫外線多層爐。
7、 如權利要求3所述的制程設備輔助進氣口，其特征在于，所述制程設備 輔助進氣口裝置本體為一紫外線多層爐。
8、 如權利要求4所述的制程設備輔助進氣口，其特征在于，所述制程設備 輔助進氣口裝置本體為一紫外線多層爐。
9、 如權利要求5所述的制程設備輔助進氣口，其特征在于，所述制程設備 輔助進氣口裝置本體為一紫外線多層爐。
10、 如權利要求2所述的制程設備輔助進氣口，其特征在于，所述輔助進 氣部由同 一側或不同側延伸出多個輔助氣管。
專利摘要本實用新型旨在揭示一種制程設備輔助進氣口，其主要是在裝置本體內設有一處理區，該裝置本體為該處理區提供一主氣流，而該處理區內設有一輔助進氣部，該輔助進氣部延伸有多個輔助氣管，該輔助氣管上設有多個輔助氣孔；且因輔助氣管內氣流會隨輔助氣孔向外噴出，故輔助氣管末端的氣體壓力必然較輔助氣管頭端小，為避免輔助氣管各輔助氣孔所噴出的輔助氣流流量相差甚大而降低散熱、制程效果，故該輔助氣孔的大小可由輔助氣管的末端向頭端漸縮，于輔助氣管頭端以較小的輔助氣孔來抑制過多的輔助氣體噴出，減少頭端的流量；在輔助氣管末端以較大的輔助氣孔來減少輔助氣體噴出的壓力，增加末端的流量，以輔助氣體均勻噴出至處理板各處。
文檔編號B41F23/00GK201061929SQ20072015713
公開日2008年5月21日 申請日期2007年7月3日 優先權日2007年7月3日
發明者巫吉生, 張嘉原 申請人:志圣工業股份有限公司