光反射體以及使用其的面光源裝置和照明裝置的制作方法

專利名稱：：光反射體以及使用其的面光源裝置和照明裝置的制作方法
技術領域：
：本發明涉及光反射體以及使用其的面光源裝置和照明裝置。本發明的光反射體作為用于面光源裝置中的反射板、用于反射體和各種照明裝置中的光反射用的部件是有用的。
背景技術：
：配置有內置式光源的背光型的液晶顯示器或液晶電視、燈箱廣告牌等廣泛普及。背光型的內置式光源(面光源裝置)之中，直下式背光的典型結構如圖2所示，包括發揮結構體兼光反射體作用的殼ll、漫反射板14、以及冷陰極燈15等光源。側光式背光的典型結構如圖3所示，包括在透明的亞克力板13上進行網點印刷12的導光板、光反射體ll、漫反射板14、以及冷陰極燈15等光源。任意一個都是通過光反射體對光源發出的光進行反射，通過漫反射板形成均勻面狀的光。近年來，隨著顯示物的大型化，照明光源也力求高功率化、增加光源燈數等改良。為了提高亮度，有時也如圖2、圖3所示那樣設置多個光源。目前，該用途的光反射體中，多使用對作為結構體的殼進行白色涂裝、白色聚酯薄膜(例如專利文獻l)。但是，無法期待白色涂裝通過充分的反射光來提高亮度，另外，使用白色聚酯薄膜的光反射體存在由于近年光量的增加導致光反射體色調變化(黃變)的問題，要求變色更少的原材料。因此，還提出了一種色調變化少的使用白色聚烯烴薄膜的光反射體(例如專利文獻2~5)。專利文獻l:日本特開平4-239540號乂^4艮專利文獻2:日本特開平6-298957號7>才艮專利文獻3:日本特開2002-31704號/>報專利文獻4:日本凈爭開平8-262208號7/^才艮專利文獻5:日本特開2003-176367號乂>報
發明內容發明要解決的問題但是，采用為了提高亮度而設有多個光源的直下式光源時，現有的白色聚酯薄膜、白色聚烯烴薄膜存在產生由亮線引起的亮度斑點的問題。這種問題是因為在設有多個光源燈時，由于殼的結構、光反射體(白色薄膜)的光反射特性，像干涉光那樣產生了反射光集中的部位，亮度變得不均勻。本發明中將這樣的反射光的局部存在所引起的面光源的亮度斑點稱為亮線，并將抑制產生這樣的亮線作為本發明所要解決的課題。與此不同的是，有時將側光型面光源中由于光源燈附近的光源光漏出而部分性地產生亮度高的部分稱為亮線，本申請的課題有別于該現象。即，本發明的目的在于提供光反射體，其特別是即使用于像設有多個光源光(光源燈等)的照明裝置那樣、現有的容易產生由亮線所引起的亮度斑點的照明裝置時，也難以產生亮線。另外，本發明的目的還在于提供亮度斑點少的照明裝置。用于解決問題的手段本發明人反復進行深入研究，結果發現在光反射體中使用將反射角峰值比P與鏡面反射率R2控制在特定的范圍的樹脂薄膜則可以解決現有技術的課題，從而提供了本發明。即，本發明提供光反射體，其為包含樹脂薄膜的光反射體，前述樹脂薄膜是包含亮線防止層(B)的薄膜，前述亮線防止層(B)為含有20重量％以下的濃度的填料的層，由在前述亮線式(1)求得的反射角峰值比P為1.310,由在前述亮線防止層(B)表面測定的反射率R1和漫反射率R3通過下述的式(2)求得的鏡面反射率R2為1.4~10%。[數學式l]P2反射角峰值比P--式(l)Pl(上式中，Pl表示從相對于光反射體的亮線防止層(B)表面的法線為15°的角度照射光線時的光反射體的反射峰值，P2表示從相對于光反射體的亮線防止層(B)表面的法線為45。的角度照射光線時的光反射體的反射峰值。)[數學式2]鏡面反射率R2=Rl-R3式(2)(上式中，Rl表示光反射體的亮線防止層(B)表面的反射率，R3表示光反射體的亮線防止層(B)表面的漫反射率。)本發明的光反射體優選前述亮線防止層(B)表面的凹凸個數密度為0.1xl0—4~3.5xl(T4個/pm2、優選反射率R1為95~106%。另外，前述亮線防止層(B)所含的填料優選平均粒徑為0.05~15(im的無機填料和/或平均分散粒徑為0.05~15pm的有機填料。構成本發明的光反射體的樹脂薄膜優選為包含基材層(A)、設在基材層(A)的至少單面的亮線防止層(B)的疊層樹脂薄膜。基材層(A)優選為含有熱塑性樹脂(特別是聚烯烴系樹脂)和填料，基材層(A)被拉伸，且其面積拉伸倍率為1.3~80倍。其中，基材層(A)含有5~75重量％的濃度的填料，該填料優選平均粒徑為0.05~1.5pm的無機填料(特別是經表面處理的無機填料)和/或平均分散粒徑為0.05~1.5pm的有機填料。進一步，基材層(A)的孔隙率優選為15~70%。進一步，樹脂薄膜優選至少在與基材層(A)的包含亮線防止層(B)的面相反的面具上有補強層(C),亮線防止層(B)的層厚優選為0.5~20pm。本發明還提供使用上述光反射體的面光源裝置和照明裝置。發明的效果本發明的光反射體設置在光源光的數殼形狀各個部件的設置位置等不同的各種面光源裝置中時，不論設置的面光源裝置的構造、結構而均可有效地抑制亮線的產生。另外，本發明的光反射體用作照明裝置的光反射用的部件時，雖然為高反射率但不易產生光暈，故有用。圖l是示意光反射體的層結構例子的截面圖。圖2是示意直下式背光的結構的截面圖。圖3是示意側光式背光的結構的截面圖。符號的說明1基材層(A)2亮線防止層(B)3補強層(C)11光反射體(殼)12反射用白色網點印刷13亞克力板(導光板)14漫反射板15冷陰極燈具體實施方式以下對本發明的光反射體的結構和效果進行詳細說明。以下記載的構成要素的說明是基于本發明的代表性的實施方式來進行的，但本發明并不限于這樣的實施方式。另外，本發明中，光漫層""是指包含其前后記載的數值并將其分別作為最小值和最大值的范圍。本發明的光反射體由樹脂薄膜形成。樹脂薄膜為包含亮線防止層(B)的薄膜，優選在基材層(A)和基材層(A)的至少單面(反射面一側)包含亮線防止層(B)的疊層樹脂薄膜，優選根據需要進一步具有補強層(C)。基材層(A)基材層(A)是與亮線防止層(B)制成疊層樹脂薄膜時，用于提高光反射體整體的反射率的層，還是用作用于使樹脂薄膜更容易成形的基材的層。其為含有熱塑性樹脂的層，優選為含有熱塑性樹脂和填料的層。(熱塑性樹脂)基材層(A)中所用的熱塑性樹脂的種類沒有特別限制。基材層(A)中使用的熱塑性樹脂(A)可列舉高密度聚乙烯、中密度聚乙烯、低密度聚乙烯等乙烯系樹脂，丙烯系樹脂、聚甲基-l-戊烯、乙烯-環狀烯烴共聚物等聚烯烴系樹脂，尼龍-6、尼龍-6，6、尼龍-6,10、尼龍-6，12等聚酰胺系樹脂，聚鄰苯二甲酸乙二酯或其共聚物、聚萘二曱酸乙二酯、脂肪族聚酯等熱塑性聚酯系樹脂、聚碳酸酯、無規聚苯乙烯、間規聚苯乙烯、聚苯硫醚等熱塑性樹脂。熱塑性樹脂可以僅選擇l種單獨使用，也可以選擇2種以上組合4吏用。這些當中，從耐化學藥品性和生產成本等觀點出發，優選使用聚烯爛系樹脂、更優選使用丙烯系樹脂。作為丙烯系樹脂，可以使用丙烯均聚物，作為主成分的丙烯與乙烯、1-丁烯、l-己烯、1-戊烯，4-曱基-1-戊烯等a-烯烴的共聚物。立體有規性沒有特別限制，可以使用無規或間規以及顯示各種程度的立體有規性的物質。另外，共聚物為2元體系、3元體系、4元體系均可，另外，為無規共聚物、嵌段共聚物均可。構成基材層(A)的主要的樹脂為丙烯系樹脂時，為了改良拉伸性，可配合相對于丙烯系樹脂為3~25重量％的聚乙烯、乙烯-醋酸乙烯酯等熔點比丙烯系樹脂低的樹脂。基材層(A)中的熱塑性樹脂的含量優選為25~95重量％，更優選為30~90重量％。基材層(A)中的熱塑性樹脂的含量為25重量％以上的話，存在在后述的拉伸成形時表面不易產生傷痕的趨勢，為95重量％以下的話，存在易于得到充分的孔隙的趨勢。(填料)作為與熱塑性樹脂一起用于基材層(A)中的填料，可列舉各種無機填料或有機填料。無機填料可以例示出重質碳酸鈣、沉降性碳酸鉀、煅燒粘土、滑石、氧化鈦、硫酸鋇、硫酸鋁、二氧化硅、氧化鋅、氧化鎂、硅藻土等。另外，還可以例示出上述無機填料通過各種表面處理劑進行處理的表面處理品。其中，重質碳酸釣、沉降性碳酸釣和它們的表面處理品、粘土，硅藻土由于廉價且拉伸時的孔隙形成性好而優選。進一步優選通過各種表面處理劑對重質碳酸鈣、沉降性碳酸鈣經表面處理得到的填料。表面處理劑優選例如樹脂酸、脂肪酸、有機酸、石克酸酯型陰離子表面活性劑、磺酸型陰離子表面活性劑、石油樹脂酸、這些的鈉、鉀、氨等的鹽，或這些的脂肪酸酯、樹脂酸酯，蠟，石蠟等；還優選非離子系表面活性劑、二烯系聚合物、鈦酸酯系偶聯劑、硅烷系偶聯劑、磷酸系偶聯劑等。硫酸酯型陰離子表面活性劑可列舉例如長鏈醇硫酸酯、聚氧乙烯基烷基醚硫酸酯、硫酸化油等或這些的鈉、鉀等的鹽，磺酸型陰離子表面活性劑可列舉例如烷基苯磺酸、烷基萘磺酸、石蠟磺酸、a-烯烴磺酸、烷基磺基琥珀酸等或這些的鈉、鉀等的鹽。另外，脂肪酸可列舉例如己酸、辛酸、壬酸、癸酸、十一烷酸、月桂酸、肉豆蔻酸、棕櫚酸、硬脂酸酸、山崳酸、油酸、亞油酸、亞麻酸、桐酸等，有機酸可列舉例如馬來酸、山梨酸等，二烯系聚合物可列舉例如聚丁二烯、異戊二烯等，非離子系表面活性劑可列舉聚乙二醇酯型表面活性劑等。這些表面處理劑可以僅選擇l種單獨使用，也可以選擇2種以上組合使用。使用這些表面-43815號7>報、日本特開平5-139728號公才艮、日本特開平7-300568號公才艮、日本特開平10-176079號公報、日本特開平11-256144號7>才艮、曰本凈爭開平ll一349846號乂>才艮、曰本4爭開2001-158863號公才艮、日本特開2002-220547號公凈艮、日本特開2002—363443號7>才艮等中i己載的方法。有機填料可以使用具有比基材層(A)中所使用的熱塑性樹脂的熔點或玻璃化轉變溫度高的熔點或玻璃化轉變溫度(例如120300。C)的填料。可例示出例如聚鄰苯二曱酸乙二酯、聚鄰苯二甲酸丁二酯、聚酰胺、聚碳酸酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚苯乙烯、密胺樹脂、環狀烯烴均聚物、環狀烯烴和乙烯的共聚物、聚醚砜、聚酰亞胺、聚乙醚酮、聚苯硫醚等。其中，從孔隙形成的觀點出發，優選使用熔點或玻璃化轉變溫度比基材層(A)中所使用的熱塑性樹脂(特別是聚烯烴系樹脂)的高、非相容性的有機填料。可以從無機填料或有機填料中選擇l種單獨用于基材層(A)或選擇2種以上組合用于基材層(A)。組合2種以上使用時可以將有機填料和無機填料混合使用。無機填料的平均粒徑和有機填料的平均分散粒徑可以由例如粒度分析(microtrac)法、通過掃描電子顯微鏡觀察一次粒徑(本發明中，將100個顆粒的平均值作為平均粒徑)、由比表面積進行換算(本發明中使用(抹)島津制作所生產的粉體比表面積測定裝置SS-IOO測定比表面積)等而求出。為了將拉伸成形所產生的孔隙尺寸調整到優選的范圍，基分散粒徑優選為使用分別在0.05~1.5pm的范圍、更優選分別在0.1~lnm的范圍的填料。使用平均粒徑或平均分散粒徑為1.5pm以下的填料的話，存在孔隙變得更均勻的趨勢。另外，使用平均粒徑或平均分散粒徑為0.05pm以上的填料的話，存在更容易得到規定的孔隙的趨勢。為了在基材層(A)的內部設置規定的孔隙、優選進行拉伸。基材層(A)的面積拉伸倍率優選為1.3~80倍、更優選為7~70倍、進一步優選為22倍~65倍、最優選為2560倍。為了在優選的范圍內賦予通過拉伸成形的孔隙，拉伸薄膜中上述填料的配合量優選為5~75重量％、更優選為10~70重量%的范圍。填料的配合量為5重量％以上的話，存在容易得到充分的孔隙數的趨勢。另外，填料的配合量為75重量％以下的話，存在不易在表面產生傷痕的趨勢。(構造)本發明中所用的基材層(A)可以為單層構造也可以為多層結構。基材層(A)的層厚優選為30~1000nm、更優選40~400,、進一步優選50~300,。構成本發明的光反射體的基材層(A)優選與其中所含的無機填料和/或有機填料一起通過拉伸成形在內部形成孔隙。該基材層(A)的孔隙率優選15~70%、更優選在20~55%的范圍。本說明書中，"孔隙率"是指按照下述式(3)算出的值。[數學式3]pO國p孔隙率P-p0式(3)(上式中，pO為基材層(A)的真密度，p為基材層(A)的密度)只要拉伸前的材料不含有大量的空氣，則真密度與拉伸前的密度基本相等。本發明中所使用的基材層(A)的密度通常為0.5~1.2g/cn^的范圍，孔隙越多則密度變得越小、孔隙率變得越大。孔隙率大的一方容易提高表面的反射特性。亮線防止層(B)本發明的亮線防止層(B)是如下的層將樹脂薄膜用作光反射體時，設置為表現特定的數值范圍的反射角峰值比P和鏡面反射率R2。亮線防止層(B)可以單獨地形成或形成在基材層(A)的僅光反射面的一個面或基材層(A)的兩面。亮線防止層(B)的形成方法可以列舉如下方法，即，與通常的單層薄膜成形方法同樣地使用I模、O模進行擠出成形的方法，使用多層T模或I模將亮線防止層(B)和基材層(A)的熔融原料進行共擠出得到樹脂薄膜的方法，將亮線防止層(B)的熔融原料擠出到所成形的基材層(A)上進行層壓的方法，或在將基材層(A)成形后將亮線防止層(B)隔著粘接層進行貼合而設置的方法等。這些樹脂薄膜優選在擠出成形后進行拉伸。單層的樹脂薄膜或通過共擠出而成的疊層樹脂薄膜可以在成形后進行單軸拉伸或雙軸拉伸。也可以在將基材層(A)成形得到后，將其進行單軸拉伸，接著擠出亮線防止層(B)的熔融原料進行層壓，將該疊層薄膜進行拉伸，制成拉伸疊層樹脂薄膜。亮線防止層(B)中，可以使用與基材層(A)中使用的樹脂同樣的熱塑性樹脂。亮線防止層(B)中使用的填料的粒徑優選為0.05~15pm、更優選為210pm。4吏用4立徑為0.05pm以上的填料的話，存在可形成優選的表面凹凸、難以產生亮線的趨勢。使用粒徑為15pm以下的填料的話，存在容易制造表面強度高、填料難以脫落的光反射體的趨勢。填料的配合量優選為0~20重量％、更優選為1~15重量％的范圍。配合量超過20重量％時，存在表面凹凸個數超過適當的范圍變多、難以抑制亮線產生的趨勢。亮線防止層(B)的層厚優選為0.5~20pm、更優選2~6pm。層厚為0.5pm以上的話，存在易于獲得充分的亮線防止效果的趨勢。另外，為20pm以下的話，存在不易影響基材層(A)的反射性能、易于維持高反射率的趨勢。補強層(C)構成本發明的光反射體的樹脂薄膜除了基材層(A)、亮線防止層(B)以外還可以設有補強層(C)。補強層(C)是不納入基材層(A)、亮線防止層(B)的范疇的層，是指可以增強樹脂薄膜整體的強度的層。補強層(C)可以設置在基材層(A)的反射面一側。所以，可以設在基材層(A)和亮線防止層(B)之間，形成(B)/(C)/(A)的結構。另外，也可以設在與基材層(A)的反射面一側相反的一側的面上，形成(B)/(A)/(C)的結構。補強層(C)的形成方法可以列舉出在上述基材層(A)的拉伸成形前使用多層T模、I模將補強層(C)的熔融原料進行共擠出，將得到的疊層體進行拉伸成形而設置的方法；上述基材層(A)進行雙軸拉伸時，在單軸方向的拉伸結束后，將補強層(C)的熔融原料擠出貼合，再將該疊層體進行單軸拉伸成形而設置的方法；將上述基材層(A)進行拉伸成形得到后，將補強層(C)的原料樹脂直接或隔著粘接層進行擠出貼合而設置的方法等。補強層(C)中可以使用與基材層(A)中所使用的樹脂相同的熱塑性樹脂。另外，可以含有上述填料，填料的含量優選O~20重量％、更優選為0~10重量％、進一步優選0~5重量％、特別優選0~3重量％。補強層(C)的層厚優選為lium以上、更優選為230(am、進一步優選為3~20pm。為lpm以上的話，存在容易提高光反射體的表面強度和加工適應性的趨勢。樹脂薄膜(層結構)構成本發明的光反射體的樹脂薄膜優選為含有上述的基材層(A)和亮線防止層(B)的疊層薄膜。可列舉例如，在基材層(A)的兩面疊層亮線防止層(B)的結構。另外，構成本發明的光反射體的樹脂薄膜可以具有進一步疊層基材層(A)和亮線防止層(B)以外的層的結構。例如，可在與基材層(A)的包含亮線防止層(B)的面相反的面或在基材層(A)與亮線防止層(B)之間具有補強層(C)。樹脂薄膜的具體的層結構可以例示出(B)/(A)、(B)/(A)/(B)、(B)/(A)/(C)、(B)/(C)/(A)、(B)/(C)/(A)/(B)、(B)/(C)/(A)/(C)、(B)/(C)/(A)/(C)/(B)等結構。(添力口劑)構成本發明的光反射體的樹脂薄膜中，可以根據需要配合熒光增白劑、穩定劑、光穩定劑、分散劑、潤滑劑等。使用穩定劑時，優選配合含有該穩定劑的層的重量的O.OOl~1重量％的位阻酚系、磷系、胺系等穩定劑。另外，使用光穩定劑時，優選配合含有該光穩定劑的層的重量的O.OOl~1重量％的位阻胺、苯并三唑系、二苯甲酮系等光穩定劑。進而，使用無機填料的分散劑時，優選配合含有該分散劑的層的重量的O.Ol~4重量％的硅烷偶聯劑，油酸、硬脂酸酸等高級脂肪酸，金屬皂，聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸或這些的鹽等。樹脂薄膜優選為由多個層構成的疊層體，此時，可以在各層中適當選擇并添加上述的添加劑。(成形)樹脂薄膜的成形方法可以使用通常的單軸拉伸方法、雙軸拉伸方法。具體例子可以列舉使用連接在螺旋型擠出機的單層或多層的T模、I模將熔融樹脂擠出為片狀，然后利用輥群的周向速度差通過縱向拉伸進行單軸拉伸的方法；以及在此后組合使用拉幅干燥機進行橫向拉伸的雙軸拉伸方法；通過組合拉幅干燥機和直線電機進行同時雙軸拉伸等。拉伸溫度優選為比使用的熱塑性樹脂的熔點低2~6(TC的溫度、比玻璃化轉變溫度高260。C的溫度。例如，使用的熱塑性樹脂為丙烯均聚物(熔點155~167°C)時以95~165。C進行拉伸，使用聚鄰苯二曱酸乙二酯(玻璃化轉變溫度約70。C)時以100~130。C進行拉伸。另外，拉伸速度優選為20~350m/分鐘。拉伸后的薄膜可根據需要進行熱處理(退火處理)，可以實現促進結晶化、降低薄膜的熱收縮率等。為了調整拉伸后的薄膜中所產生的孔隙的大小，基材層(A)的面積拉伸倍率優選在1.3~80倍的范圍、更優選在7~70倍的范圍、進一步優選在22倍~65倍、最優選在2560倍。面積拉伸倍率在1.3~80倍的范圍內的話，存在易于得到微細的孔隙、易于抑制反射率的降低的趨勢。光反射體本發明的光反射體的特征在于具有上述的樹脂薄膜這一點。本發明的光反射體可以僅由上述的樹脂薄膜構成，也可以在上述的樹脂薄膜上進一步附加適當的材料。本發明的光反射體中所使用的樹脂薄膜具有特定的數值范圍的反射角峰值比P和鏡面反射率R2。本發明的光反射體通過使該反射角峰值比P和鏡面反射率R2分別位于特定的數值范圍，可以有效地防止亮線的產生。從相對于光反射體的亮線防止層(B)表面的法線為15。的角度照射光線，邊改變受光器的角度邊測定光反射體的反射率，將此時的反射率的最大值作為反射峰值P1。同樣地，從相對于光反射體的亮線防止層(B)表面的法線為45°的角度照射光線，邊改變受光器的角度邊測定光反射體的反射率，將此時的反射率的最大值作為反射峰值P2。將得到的值P2除以值P1所得的值作為反射角峰值比P。本發明的光反射體中所使用的樹脂薄膜的上述式(1)所示的反射角峰值比P耳又1.3~IO的范圍內的值、優選取1.4~3的范圍內的值。反射角峰值比P是反射光分布的指標。反射角峰值比P不足1.3時，燈間變暗、易于產生亮線。反射角峰值比P超過IO時，燈附近變暗，變得易于產生亮線。另外，將在光反射體的亮線防止層(B)表面測得的鏡面反射率設為R1、將在光反射體的亮線防止層(B)表面測定的漫反射率設為R3。將由所得的值R1中減去值R3而得到的值作為鏡面反射率R2。本發明的光反射體的上述式(2)所示的鏡面反射率R2取1.4~10%的范圍的值、優選取2~5%的范圍的值。鏡面反射率R2不足1.4時，燈間變暗，容易產生亮線。另外，鏡面反射率R2超過10時，燈間變得過亮，會表現為亮線。另外，本發明的光反射體的反射表面的凹凸個數密度優選為O.lxlO—4-3.5xl(T4個/nm2、進一步優選為0.3xl0—4~3.0x10—4個/pm2。凹凸個數密度不足0.1xl0—4個/pm2、或超過3.5xl(T4個/Vm2的話，存在難以將反射峰值比P調整到本發明的范圍內的趨勢。在波長550nm下測定的波長的反射率Rl優選為95~106%、更優選為98~106%。反射率不足95%的話，面光源裝置難以得到充分的亮度。反射率R1越大越好，但本發明的實施方式中超過106%則難以獲得大的反射率R1。本發明的光反射體作為面光源裝置是有用的，面光源裝置可列舉例如液晶TV、監視器等液晶顯示裝置用的背光，燈箱廣告牌用背光等。另外，本發明的光反射體作為照明裝置是有用的，本發明的照明裝置可以列舉例如天花板燈、筒燈(downlight)、襯底照明燈(baselight)、廚房燈、壁燈、吊燈等家庭用照明裝置等。實施例以下記載了實施例、比較例和試驗例來對本發明進一步進行具體說明。以下所示的材料、使用量、比例、操作等可以在不脫離本發明的主旨的范圍內進行適當變更。所以，本發明的范圍并不限于以下所示的具體例子。另外，本實施例中所使用的材料在表l中示出。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage18</column></row><table>(實施例l~3)按照表2所記載的配方混合表1記載的材料，將所得到的組合物(A)用擠出機在250。C下進行熔融混煉。然后，擠出為片狀，通過冷卻輥冷卻到約6(TC,由此得到基材層(A)。將該基材層(A)再次加熱到145。C,然后利用多個輥群的周向速度差在縱向方向上按照表2記載的倍率進行拉伸。按照表2記載的配方混合表1記載的材料，將得到的組合物(B)、(C)進行熔融混煉，熔融擠出到獲得的基材層(A)的兩面，使亮線防止層(B)、補強層(C)按照B/C/A/C的方式進行疊層。接著，將該疊層物再次加熱到160。C,通過拉幅機在橫向方向上按照表2記載的倍率進行拉伸。然后，在160。C進行退火處理后冷卻到60。C,切掉耳部得到具有表2記載的厚度的四層結構的疊層薄膜。將該疊層薄膜作為光反射體。(比較例1)按照表2記載的配方混合表1記載的材料，除此以外，與實施例l~3同樣地得到光反射體。(試驗例)對實施例l~3和比較例1中得到的各光反射體進行以下的測定。(1)通過變角分光光度計進行測定使用自動變角分光光度計(GP200:(抹)村上色彩研究所生產)進行測定。測定在光線照射角45。、受光角度-60°~90°的條件下測定時的反射峰值并將其作為P2。除將光線照射角變成15。以外，其他的條件與P2的測定條件相同地進行測定，將以與P2相對的反射率表示的峰值作為P1。另外，將P2/P1作為峰值比P。(2)通過安裝有積分球的分光光度計進行測定使用安裝有①150mm的積分球的分光光度計((抹)日立制作所生產U-3310),按照JIS-Z8722條件d記載的方法測定波長550nm的反射率并將其作為Rl。使用安裝有O150mm的積分球的分光光度計((抹)日立制作所生產U-3310)，按照JIS-Z8722條件d記載的方法，將用光阱去除鏡面反射成分而測定的波長550nm的反射率作為漫反射率R3。另外，將R1-R3作為鏡面反射率R2。(3)孔隙率的測定基于JIS-P8118測定基材層(A)的密度p,進而測定基材層(A)的真密度pO,然后按照上述式(3)算出孔隙率。(4)凹凸個數密度的測定使用非接觸3維表面形狀粗糙度測定器(ZygoCorporation生產NewView5010)，測定面積2mmx2mm，場鏡20倍，通過去除14pm以下的波長來進行測定，使用分析軟件(ZygoCorporation生產MetroPro)進行分析而得到PeakDensity(1/^im2),將其作為凹凸個數密度。(5)亮線水平的評價通過設置在圖2的面光源裝置中，以以下的5階段對亮線水平進行評價。各水平的內容如下所述，作為光反射體可允許的水平為3以上。5:完全看不到亮線的良好的水平4:產生些許亮線但為良好的水平3:產生亮線但實用上沒有問題的水平2:產生亮線且實用上有問題的水平1:亮線明顯可見、不耐用的水平這些測定結果分別在表2、3中示出。<table>tableseeoriginaldocumentpage21</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage22</column></row><table>工業實用性若使用本發明的光反射體，特別是即使用于像設有多個光源光(光源燈等)的照明裝置那樣、現有的容易產生亮線引起的亮度斑點的照明裝置時，也可以有效抑制由亮線所導致的亮度斑點。這樣的效果在將其設置于光源光的數殼形狀各個部件的設置位置等不同的各種面光源裝置中時也能得到。所以，本發明的工業上的可利用性高。權利要求1.光反射體，其為包含樹脂薄膜的光反射體，前述樹脂薄膜是包含亮線防止層(B)的薄膜，前述亮線防止層(B)為含有20重量％以下的濃度的填料的層，由在前述亮線防止層(B)表面測定的反射峰值P1和反射峰值P2通過下述的式(1)求得的反射角峰值比P為1.3～10，由在前述亮線防止層(B)表面測定的反射率R1和漫反射率R3通過下述的式(2)求得的鏡面反射率R2為1.4～10％。[數學式1]id="icf0001"file="S2006800405694C00011.gif"wi="61"he="14"top="110"left="38"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="no"/>式(1)(上式中，P1表示從相對于前述光反射體的亮線防止層(B)表面的法線為15°的角度照射光線時的前述光反射體的反射峰值，P2表示從相對于前述光反射體的亮線防止層(B)表面的法線為45°的角度照射光線時的前述光反射體的反射峰值。)[數學式2]鏡面反射率R2＝R1-R3式(2)(上式中，R1表示前述光反射體的亮線防止層(B)表面的反射率，R3表示前述光反射體的亮線防止層(B)表面的漫反射率。)2.根據權利要求l所述的光反射體，其特征在于，前述光反射體的亮線防止層(B)表面的凹凸個數密度為0.1x10—4~3.5x10—4個/,2。3.根據權利要求1或2所述的光反射體，其特征在于，前述反射率R1為95~106%。4.根據權利要求l~3的任一項所述的光反射體，其特征在于，前述亮線防止層(B)所含的填料為平均粒徑0.05~15pm的無機填料和/或平均分散粒徑0.05~15itim的有機填料。5.根據權利要求l~4的任一項所述的光反射體，其特征在于，前述樹脂薄膜為包含基材層(A)和設在基材層(A)的至少單面的前述亮線防止層(B)的疊層樹脂薄膜。6.根據權利要求5所述的光反射體，其特征在于，前述基材層(A)為被拉伸的層，前述基材層(A)的面積拉伸倍率為1.3~80倍。7.根據權利要求5或6所述的光反射體，其特征在于，前述基材層(A)含有熱塑性樹脂和5~75重量％的濃度的填料，前述填料為平均粒徑0.05~1.5pm的無^U真:枓和/或平均分散粒徑0.05~1.5jLim的有機填料。8.根據權利要求7所述的光反射體，其特征在于，前述基材層(A)所含的前述無機填料為經表面處理的無機填料。9.根據權利要求5~8的任一項所述的光反射體，其特征在于，前述基材層(A)含有作為熱塑性樹脂的聚烯烴系樹脂。10.根據權利要求5~9的任一項所述的光反射體，其特征在于，前述基材層(A)的孔隙率為15~70%。11.使用權利要求l~IO的任一項所述的光反射體的面光源裝置。12.使用權利要求l~IO的任一項所述的光反射體的照明裝置。全文摘要光反射體，其由如下的樹脂薄膜形成，該樹脂薄膜的反射角峰值比(即，從相對于反射面的法線為45°的角度照射光線時的反射峰值/從相對于反射面的法線為15°的角度照射光線時的反射峰值)為1.3～10，鏡面反射率(即，反射率-漫反射率)為1.4～10％。該光反射體即使用于設有多個光源光的照明裝置時，也不易產生亮線。文檔編號G02B5/08GK101300509SQ200680040569公開日2008年11月5日申請日期2006年10月30日優先權日2005年10月31日發明者上田隆彥,小山廣,長草一人申請人:優泊公司