顯示面板及其制造方法、顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發明公開了一種顯示面板及其制造方法、顯示裝置，該顯示面板包括：陣列基板和對盒基板，該顯示面板還包括：電致變色結構，所述電致變色結構用于當所述顯示面板呈現暗態時吸收所述顯示面板的漏光。當顯示面板呈現亮態時，電致變色結構呈現透明態；當顯示面板呈現暗態時，電致變色結構呈現著色態，呈現著色態的電致變色結構能吸收光線，從而最大限度的減少顯示面板在暗態時的漏光，使得顯示面板的最小亮度下降，進而有效提高了顯示面板的對比度。
【專利說明】顯示面板及其制造方法、顯示裝置【技術領域】
[0001]本發明涉及顯示【技術領域】，特別涉及一種顯示面板及其制造方法、顯示裝置。
【背景技術】
[0002]隨著科技的發展和社會的進步，液晶顯示器已經越來越廣泛的被人們所應用，在工業生產、人民生活中起著至關重要的作用。目前，高品質液晶顯示器越來越受到人們的青睞。眾多顯示【技術領域】的企業在高對比度、快速響應、低功耗等方向上投入了巨大的人力物力。
[0003] 液晶顯示器的對比度是指液晶顯示裝置在顯示過程中的最大亮度與最小亮度的比值。因此，液晶顯示器件的對比度既與該顯示裝置的處于亮態時的最大亮度相關，也和該顯示裝置的處于暗態時的最小亮度相關。通常，為了提高對比度，研究人員往往從提升最大亮度和降低最小亮度兩個方面著手。
[0004]在現有技術中，在提升最大亮度方面，研究人員通常采用提升顯示面板的開口率的手段來實現對顯示裝置的最大亮度的提升；在降低最小亮度方面，研究人員通常采用優化面板的對盒制程(Cell)工藝實現的手段來實現對顯示裝置的最小亮度的降低，例如:使用高散射系數的液晶、優化對盒制程工藝中的取向(Rubbing)工藝或優化液晶盒厚(CellGap) ο
[0005]但是，在提升最大亮度方面，提升開口率只能在一定范圍內提升顯示裝置的最大亮度，更重要的是，在提升開口率的過程中會產生一些新的工藝及設計問題；在降低最小亮度方面，對Cell工藝進行優化時，采用的優化方案均相對復雜。綜上所述，現有技術在提高顯示裝置的對比度時所采用的技術手段較為復雜，不易于實現。
【發明內容】
[0006]本發明提供一種顯示面板及其制造方法、顯示裝置，通過較為簡單的技術手段便能有效提升顯示裝置的對比度。
[0007]為實現上述目的，本發明提供一種顯示面板，包括陣列基板、對盒基板和電致變色結構，所述電致變色結構用于當所述顯示面板呈現暗態時吸收所述顯示面板的漏光。
[0008]可選地，所述電致變色結構位于所述陣列基板或所述對盒基板上。
[0009]可選地，所述對盒基板包括:第一襯底基板和彩膜，所述彩膜形成于所述第一襯底基板上，所述電致變色結構形成于所述彩膜上。
[0010]可選地，所述對盒基板還包括:平坦層，所述平坦層形成于所述電致變色結構和所述彩膜之間。
[0011]可選地，所述電致變色結構包括若干個電致變色子單元；所述彩膜包括:彩色矩陣圖形和黑矩陣，所述黑矩陣限定出像素區域，所述彩色矩陣圖形形成于所述像素區域中，所述電致變色子單元與所述像素區域對應設置；
[0012]為實現上述目的，本發明還提供一種顯示裝置，該顯示裝置包括:顯示面板，所述顯示面板采用上述的顯示面板。
[0013]為實現上述目的，本發明還提供一種顯示面板的制造方法，包括:形成陣列基板和對盒基板，該制造方法還包括:
[0014]形成電致變色結構，所述電致變色結構用于當所述顯示面板呈現暗態時吸收所述顯示面板的漏光。
[0015]可選地，所述對盒基板包括:第一襯底基板和彩膜，所述形成電致變色結構，所述電致變色結構用于當所述顯示面板呈現暗態時吸收所述顯示面板的漏光包括:
[0016]在所述第一襯底基板上形成彩膜；
[0017]在所述彩膜上形成所述電致變色結構。
[0018]可選地，所述在所述第一襯底基板上形成彩膜和所述在所述彩膜上形成所述電致變色結構之間還包括:
[0019]在所述彩膜上形成所述電致變色結構。
[0020]可選地，述電致變色結構包括若干個電致變色子單元，所述彩膜包括:彩色矩陣圖形和黑矩陣，所述彩色矩陣圖形形成于所述像素區域中；
[0021 ] 所述在所述彩膜上形成所述電致變色結構之后還包括:
[0022]對所述電致變色結構進行構圖工藝以形成若干電致變色子單元，所述電致變色子單元與所述像素區域對應設置。
[0023]本發明具有以下有益效果:
[0024]本發明提供一種顯示面板及其制造方法、顯示裝置，該顯示面板包括電致變色結構，當顯示面板呈現亮態時，電致變色結構呈現透明態；當顯示面板呈現暗態時，電致變色結構呈現著色態，呈現著色態的電致變色結構能吸收光線，從而最大限度的減少顯示面板在暗態時的漏光，使得顯示面板的最小亮度下降，進而有效提高了顯示面板的對比度。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0025]圖1為本發明實施例一提供的顯示面板的結構示意圖
[0026]圖2a為圖1中的對盒基板的結構示意圖；
[0027]圖2b為圖2a所示對盒基板上的電致變色結構吸收漏光的示意圖；
[0028]圖3為本發明實施例二提供的顯示面板的結構示意圖；
[0029]圖4為電致變色子單元與像素區域對應設置時的顯示面板的結構示意圖；
[0030]圖5為圖4所示的顯示面板的制造方法的流程圖；
[0031]圖6a為在第一襯底基板上形成黑矩陣和彩色矩陣圖形的示意圖；
[0032]圖6b為在黑矩陣和彩色矩陣圖形上形成平坦層的示意圖；
[0033]圖6c為在平坦層上形成第一透明電極的示意圖；
[0034]圖6d為在第一透明基板上形成電致變色層的示意圖；
[0035]圖6e為在第二透明電極上形成取向層的示意圖。
【具體實施方式】
[0036]為使本領域的技術人員更好地理解本發明的技術方案，下面結合附圖對本發明提供的顯示面板及其制造方法、顯示裝置進行詳細描述。[0037]實施例一
[0038]圖1為本發明實施例一提供的顯示面板的結構示意圖，圖2a為圖1中的對盒基板的結構不意圖；圖2b為圖2a所不對盒基板上的電致變色結構吸收漏光的不意圖；如圖1、2a和2b所示，該顯示面板包括陣列基板6、對盒基板7和電致變色結構1，電致變色結構I用于當顯示面板呈現暗態時吸收顯示面板的漏光。
[0039]需要說明的是，電致變色結構I包括:電致變色層12、第一透明電極11和第二透明電極13，電致變色層12位于第一透明電極11和第二透明電極13之間，可選地，第一透明電極11和第二透明電極13的材料均為氧化銦錫(ΙΤ0)。
[0040]本發明通過降低顯示面板的最小亮度來提高顯示面板的對比度，下面講對本發明的原理進行詳細描述。
[0041]可選地，電致變色結構I位于陣列基板6或對盒基板7上，在圖2a中，電致變色結構I位于對盒基板7上，具體地，對盒基板7包括:第一襯底基板2，電致變色結構I位于第一襯底基板2上。當顯示面板呈現亮態時，驅動芯片驅動第一透明電極11和第二透明電極13，且使得在第一透明電極11和第二透明電極13之間產生第一電壓差，在第一電壓差的作用下，電致變色層12呈現出透明態，此時整個電致變色結構I也呈現為透明態，光源發射出的光線也能透過電致變色結構1，顯示面板可呈現出最大亮度。
[0042]當顯示面板呈現暗態時，驅動芯片驅動第一透明電極11和第二透明電極13，且使得在第一透明電極11和第二透明電極13之間產生第二電壓差，在第二電壓差的作用下，電致變色層12呈現出著色態，此時整個電致變色結構I呈現為著色態，呈現的著色態的電致變色結構I可吸收光線，有效的防止顯示面板在暗態時的漏光現象的發生，使得顯示面板的最小亮度下降。
[0043]由于顯示面板的最大亮度沒有發生變化，而顯示面板的最小亮度下降，因此顯示面板的對比度得到提高。
[0044]其中，電致變色層12的材料可為有機電致變色材料、無機電致變色材料或有機無機復合電致變色材料。具體地，有機電致變色材料可以包括聚噻吩類及其衍生物、紫羅精類、四硫富瓦烯、金屬酞菁類化合物或聚苯胺類；無機電致變色材料可以包括:W03，Mo03*V2O5。
[0045]電致變色結構也可位于陣列基板上，電致變色結構位于陣列基板上也能吸收顯示面板在暗態時的漏光，此處不再贅述。
[0046]需要說明的是，本實施例中，電致變色結構I位于第一襯底基板2的正面或者背面。在圖2所示的結構圖中，電致變色結構I是位于第一襯底基板2的正面，而電致變色結構I位于第一襯底基板2的背面的情況未給出相應的附圖。本實施例中，電致變色結構I用于使光線透過或吸收光線，因此電致變色結構I位于第一襯底基板2的正面或者背面均不影響其功能的實現。
[0047]本發明實施例一提供了一種顯示面板，該顯示面板上形成有電致變色結構，當顯示面板呈現亮態時，電致變色結構呈現透明態；當顯示面板呈現暗態時，電致變色結構呈現著色態，呈現著色態的電致變色結構能吸收光線，從而最大限度的減少顯示面板在暗態時的漏光，使得顯示面板的最小亮度下降，進而有效提高了顯示面板的對比度。
[0048]實施例二[0049]圖3為本發明實施例二提供的顯示面板的結構示意圖，如圖3所示，顯示面板包括:陣列基板6和對盒基板，電致變色結構I位于為對盒基板上，具體地，電致變色結構I位于第一襯底基板2的正面，在第一襯底基板2的正面還設置有彩膜3，彩膜3包括:彩色矩陣圖形31和黑矩陣32，黑矩陣32限定出像素區域，彩色矩陣圖形31形成于像素區域中，電致變色結構I形成于彩膜上。
[0050]需要說明的是，本實施例與實施例一的區別在于，本實施例中電致變色結構I是形成于彩膜3上。然而，無論電致變色結構I是直接形成于第一襯底基板2上還是形成于彩膜3上，該顯示面板在暗態時的最小亮度都會下降。
[0051]在電致變色結構I形成于彩膜3之上時，由彩色矩陣圖形31和黑矩陣32所構成的彩膜3的表面不平整，可選地，電致變色結構I和所述彩膜3之間形成有平坦層4，通過設置平坦層4可方便電致變色結構I的形成。
[0052]圖4為電致變色子單元與像素區域對應設置時的顯示面板的結構示意圖，如圖4所示，電致變色結構I包括若干個電致變色子單元14，電致變色子單元14與像素區域對應設置。在形成電致變色結構I時，電致變色結構I可以為與第一襯底基板2的表面尺寸相等的一個整體結構，或者將整體結構進行構圖工藝，使得電致變色結構I為包括若干個電致變色子單元14的分散結構，電致變色子單元14與像素區域對應設置，即每個像素區域的上方都對應有一個電致變色子單元14。因為顯示面板在進行像素顯示時，只有像素區域有光線射出，而黑矩陣32的覆蓋區域沒有光線射出，因此只需將電致變色子單元14與像素區域對應設置，也可實現顯示面板的高對比度。
[0053]可選地，在顯示面板的最上層還設置有取向層，取向層在附圖中沒有示出。
[0054]需要說明的是，當電致變色結構位于對盒基板上時，電致變色結構中的第一透明電極或者第二透明電極可復用為公共電極，公共電極與陣列基板上像素電極共同驅動液晶的進行偏轉。
[0055]另外，當電致變色結構位于陣列基板6上時，陣列基板包括:第二襯底基板，在第二襯底基板上形成有柵線和數據線，柵線和數據線限定出像素單元。由于柵線和數據線均導電，且電致變色結構中的第一透明電極和第二透明電極均導電，因此，當電致變色結構與柵線或數據線相鄰時，必須在電致變色結構與柵線或數據線之間形成絕緣層。
[0056]此外，當電致變色結構位于陣列基板6上時，電致變色結構中的第一透明電極或者第二透明電極可復用為像素電極，像素電極公共電極共同驅動液晶進行偏轉。
[0057]本發明實施例二提供了一種顯示面板，該顯示面板上形成有電致變色結構，當顯示面板呈現亮態時，電致變色結構呈現透明態；當顯示面板呈現暗態時，電致變色結構呈現著色態，呈現著色態的電致變色結構能吸收光線，從而最大限度的減少顯示面板在暗態時的漏光，使得顯示面板的最小亮度下降，進而有效提高了顯示面板的對比度。
[0058]實施例三
[0059]本發明實施例三提供一種顯示裝置，該顯示裝置包括:顯示面板，該顯示面板采用上述實施例一或實施例二中的顯示面板，具體可參見上述實施例一和實施例二，此處不再贅述。
[0060]該顯示裝置可以為:手機、平板電腦、電視機、顯示器、筆記本電腦、數碼相框、導航儀等任何具有顯示功能的產品或部件。[0061]本發明實施例三提供了一種顯示裝置，該顯示裝置包括顯示面板，其中該顯示面板上形成有電致變色結構，當顯示面板呈現亮態時，電致變色結構呈現透明態；當顯示面板呈現暗態時，電致變色結構呈現著色態，呈現著色態的電致變色結構能吸收光線，從而最大限度的減少顯示面板在暗態時的漏光，使得顯示面板的最小亮度下降，進而有效提高了顯示面板的對比度。
[0062]實施例四
[0063]本實施例四提供了一種顯示面板的制造方法，該制造方法包括:
[0064]步驟S1:形成電致變色結構，所述電致變色結構用于當所述顯示面板呈現暗態時吸收所述顯示面板的漏光。
[0065]具體地，步驟SI包括:
[0066]步驟101:在陣列基板或對盒基板上形成電致變色結構。
[0067]本發明實施例四提供了一種顯示面板的制造方法，在制造該顯示面板的過程中，會在第一襯底基板上形成電致變色結構，當顯示面板呈現亮態時，電致變色結構呈現透明態；當顯示面板呈現暗態時，電致變色結構呈現著色態，呈現著色態的電致變色結構能吸收光線，從而最大限度的減少顯示面板在暗態時的漏光，使得通過本實施例提供的制造方法制造出顯示面板的最小亮度下降，進而有效提高了顯示面板的對比度。
[0068]實施例五
[0069]本發明實施例五提供一種顯示面板的制造方法，其中，電致變色結構位于第一襯底基板的正面，電致變色結構包括:電致變色層、第一透明電極和第二透明電極，在第一襯底基板顯的正面還設置有彩膜，彩膜包括彩色矩陣圖形和黑矩陣，黑矩陣限定出像素區域，彩色矩陣圖形形成于像素區域中，電致變色結構位于彩膜上。
[0070]圖5為圖4所示的顯示面板的制造方法的流程圖，如圖5所示，該制造方法包括:
[0071]步驟201:在第一襯底基板上形成黑矩陣和彩色矩陣圖形。
[0072]圖6a為在第一襯底基板上形成黑矩陣和彩色矩陣圖形的示意圖，如圖6a所示，先在第一襯底基板上形成一層黑矩陣基材，再對黑矩陣基材進行構圖工藝以形成黑矩陣32，然后在第一襯底基板上形成一層彩膜基材，再對彩膜基材進行構圖工藝以形成彩色矩陣圖形31，其中，黑矩陣32限定出像素區域，彩色矩陣圖形31位于像素區域中。
[0073]步驟202:在黑矩陣和彩色矩陣圖形上形成平坦層。
[0074]圖6b為在黑矩陣和彩色矩陣圖形上形成平坦層的示意圖，如圖6b所示，由于黑矩陣32和彩色矩陣圖形31所構成的彩膜的表面不平整，因此可通過化學氣相沉積技術在黑矩陣32和彩色矩陣圖形31上形成平坦層4，平坦層4不僅起到保護黑矩陣32和彩色矩陣圖形31的作用，而且平坦層4平整的表面還有利于電致變色結構的形成。
[0075]步驟203:在平坦層上形成第一透明電極。
[0076]圖6c為在平坦層上形成第一透明電極的示意圖，如圖6c所示，通過化學氣相沉積或磁控濺射原理在平坦層4上形成一層第一透明電極11，可選地，第一透明電極11的材料為 ITOo
[0077]步驟204:在第一透明基板上形成電致變色層。
[0078]圖6d為在第一透明基板上形成電致變色層的示意圖，如圖6d所示，在第一透明基板11上均勻形成一層電致變色材料，該層電致變色材料即為電致變色層12。[0079]步驟205:在電致變色層上形成第二透明電極。
[0080]如圖2所示，通過化學氣相沉積或磁控濺射原理在電致變色層12上形成第二透明電極13，可選地，第二透明電極的材料為ΙΤ0。
[0081]步驟206:對第一透明電極、電致變色層和第二透明電極進行構圖工藝。
[0082]參見圖4所示，對第一透明電極11、電致變色層12和第二透明電極13進行構圖工藝后，使得致變色結構I為包括若干個電致變色子單元14的分散結構，每個像素區域的上方都對應有一個電致變色子單元14。
[0083]需要說明的是，本發明的實施例中所稱的構圖工藝包括光刻膠涂布、掩模、曝光、顯影、刻蝕、光刻膠剝離等部分或全部工藝。
[0084]步驟207:在第二透明電極上形成取向層，對盒基板完成。
[0085]圖6e為在第二透明電極上形成取向層的示意圖，如圖6e所示，在第二透明電極13上形成一層取向層基材，再通過取向工藝對取向層基材進行處理形成取向層5。
[0086]需要說明的是，若電致變色結構I為與第一襯底基板的表面尺寸相等的一個整體結構時，則完成步驟205后，下一步驟執行步驟207。
[0087]需要說明的是，通過上述的執行順序形成的顯示面板，其電致變色結構位于彩膜的上方，但是本實施例可以通過改變上述步驟的執行順序，可實現電致變色結構位于第一襯底基板和彩膜之間。
[0088]步驟208:形成陣列基板。
[0089]形成陣列基板的過程與現有技術一樣，此處不再贅述。
[0090]步驟209:將陣列基板與對盒基板進行對盒，流程結束。
[0091]需要說明的是，本實施例只是描述了電致變色結構位于對盒基板上的情況，對于電致變色結構位于陣列基板上的情況可參照本實施例進行相應的變化。
[0092]本發明實施例五提供了一種顯示面板的制造方法，在制造該顯示面板的過程中，在對盒基板上形成電致變色結構，當顯示面板呈現亮態時，電致變色結構呈現透明態；當顯示面板呈現暗態時，電致變色結構呈現著色態，呈現著色態的電致變色結構能吸收光線，從而最大限度的減少顯示面板在暗態時的漏光，使得通過本實施例提供的制造方法制造出顯示面板的最小亮度下降，進而有效提高了顯示面板的對比度。
[0093]可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發明的原理而采用的示例性實施方式，然而本發明并不局限于此。對于本領域內的普通技術人員而言，在不脫離本發明的精神和實質的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發明的保護范圍。
【權利要求】
1.一種顯示面板，包括陣列基板和對盒基板，其特征在于，還包括:電致變色結構，所述電致變色結構用于當所述顯示面板呈現暗態時吸收所述顯示面板的漏光。
2.根據權利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述電致變色結構位于所述陣列基板或所述對盒基板上。
3.根據權利要求2所述的顯示面板，其特征在于，所述對盒基板包括:第一襯底基板和彩膜，所述彩膜形成于所述第一襯底基板上，所述電致變色結構形成于所述彩膜上。
4.根據權利要求3所述的顯示面板，其特征在于，所述對盒基板還包括:平坦層，所述平坦層形成于所述電致變色結構和所述彩膜之間。
5.根據權利要求3所述的顯示面板，其特征在于，所述電致變色結構包括若干個電致變色子單元； 所述彩膜包括:彩色矩陣圖形和黑矩陣，所述黑矩陣限定出像素區域，所述彩色矩陣圖形形成于所述像素區域中，所述電致變色子單元與所述像素區域對應設置；
6.一種顯示裝置，其特征在于，包括:顯示面板，所述顯示面板采用權利要求1至5中任一所述的顯示面板。
7.—種顯示面板的制造方法，包括:形成陣列基板和對盒基板其特征在于，該制造方法還包括: 形成電致變色結構，所述電致變色結構用于當所述顯示面板呈現暗態時吸收所述顯示面板的漏光。
8.根據權利要求7所述的顯示面板的制造方法，其特征在于，所述對盒基板包括:第一襯底基板和彩膜，所述形成電致變色結構，所述電致變色結構用于當所述顯示面板呈現暗態時吸收所述顯示面板的漏光包括: 在所述第一襯底基板上形成彩膜； 在所述彩膜上形成所述電致變色結構。
9.根據權利要求8所述的顯示面板的制造方法，其特征在于，所述在所述第一襯底基板上形成彩膜和所述在所述彩膜上形成所述電致變色結構之間還包括: 在所述彩膜上形成所述電致變色結構。
10.根據權利要求8所述的顯示面板的制造方法，其特征在于，述電致變色結構包括若干個電致變色子單元，所述彩膜包括:彩色矩陣圖形和黑矩陣，所述彩色矩陣圖形形成于所述像素區域中； 所述在所述彩膜上形成所述電致變色結構之后還包括: 對所述電致變色結構進行構圖工藝以形成若干電致變色子單元，所述電致變色子單元與所述像素區域對應設置。
【文檔編號】G02F1/1333GK103529615SQ201310546145
【公開日】2014年1月22日 申請日期:2013年11月6日 優先權日:2013年11月6日
【發明者】石岳, 柳在健 申請人:京東方科技集團股份有限公司