抗反射膜的制作方法

本發明涉及抗反射膜。

背景技術：

1、已知一種配置在液晶顯示器和有機電致發光(el)顯示器等顯示裝置的顯示畫面的外表面的抗反射膜。通過抗反射膜，顯示畫面上的戶外光線的反射和影像倒映受到抑制(抗反射性)。抗反射膜例如具備無機氧化物制的抗反射層和支承該抗反射層的樹脂制的基材膜。這樣的抗反射膜例如記載在下述專利文獻1中。

2、現有技術文獻

3、專利文獻

4、專利文獻1：日本特開2022－65437號公報

技術實現思路

1、發明所要解決的問題

2、專利文獻1所記載的抗反射膜在厚度方向上依次具備基材膜、密合層以及抗反射層。基材膜在密合層側具有硬涂(hc)層。該hc層含有二氧化硅粒子。由此，hc層在密合層側具有表面凹凸。通過hc層的表面凹凸產生的固著效應(anchor?effect)和密合層的物理化學作用，提高了抗反射層對基材膜的密合性。在抗反射層對基材膜的密合性不充分的情況下，抗反射層從基材膜剝離。

3、然而，在專利文獻1的抗反射膜中，抗反射層的表面(與基材膜相反一側的表面)也具有追隨hc層的表面凹凸的表面凹凸。抗反射層的表面凹凸使入射到抗反射膜上的光的一部分散射。hc層內的二氧化硅粒子也使入射到抗反射膜上的光的一部分散射。就抗反射膜而言，入射光的散射越多，抗反射性越低。

4、本發明提供一種抗反射膜，其能持續地得到良好的反射抑制效果。

5、用于解決問題的方案

6、本發明包括：[1]一種抗反射膜，其具備基材膜、所述基材膜上的密合層、以及所述密合層上的抗反射層，來自標準光源d65的波長380nm～780nm的照射光對所述抗反射層側的全反射率為0.40％以下，下述第一試驗之后的下述第二試驗中的所述抗反射層的剝落率小于20％。

7、第一試驗：首先，將所述抗反射膜的所述基材膜一側固定于玻璃板。接著，以溫度85℃、相對濕度45％以及照射強度(290nm～450nm累積照度)150mw/cm2的條件，對所述玻璃板上的所述抗反射膜的所述抗反射層照射32.5小時的光。

8、第二試驗：首先，利用切割刀在所述玻璃板上的所述抗反射膜中的所述抗反射層和所述密合層形成沿第一方向直線延伸的11條平行的第一切口(2mm間隔)、和沿與所述第一方向正交的第二方向直線延伸的11條平行的第二切口(2mm間隔)，由所述第一切口和第二切口形成100個方格。接著，對所述抗反射膜的所述100個方格的區域，以2ml/分鐘連續滴加異丙醇，同時使聚酯擦具(wiper)以擦具接觸面20mm×20mm、載荷1.5kg/20mm□、滑動速度50mm/秒以及1000往復的條件在所述100個方格的區域滑動。接著，對所述100個方格中產生1mm2以上的剝落的方格的數量進行計數。接著，將所述計數數值除以100來計算剝落率(％)。

9、本發明包括：[2]根據上述[1]所述的抗反射膜，其中，波長450nm的照射光對所述抗反射層側的全反射率與正反射率之差為0.25％以下。

10、本發明包括：[3]根據上述[1]或[2]所述的抗反射膜，其中，所述抗反射層的與所述基材膜相反一側的表面的表面粗糙度sa為4.5nm以下。

11、本發明包括：[4]根據上述[1]至[3]中任一項所述的抗反射膜，其中，所述抗反射層的與所述基材膜相反一側的表面的展開面積率sdr為3.0％以下。

12、本發明包括：[5]根據上述[1]至[4]中任一項所述的抗反射膜，其中，所述抗反射層的與所述基材膜相反一側的表面的、最大峰高sp與最大谷深sv之差為30nm以下。

13、本發明包括：[6]根據上述[1]至[5]中任一項所述的抗反射膜，其中，所述抗反射層的與所述基材膜相反一側的表面的均方根斜率sdq為12以下。

14、本發明包括：[7]根據上述[1]至[6]中任一項所述的抗反射膜，其中，所述基材膜的所述抗反射層側的表面的表面粗糙度sa為1.0nm以上且4.0nm以下。

15、本發明包括：[8]根據上述[1]至[7]中任一項所述的抗反射膜，其中，所述基材膜的所述抗反射層側的表面的展開面積率sdr為2.0％以上且10％以下。

16、本發明包括：[9]根據上述[1]至[8]中任一項所述的抗反射膜，其中，所述基材膜的所述抗反射層側的表面的、最大峰高sp與最大谷深sv之差為10nm以上且50nm以下。

17、本發明包括：[10]根據上述[1]至[9]中任一項所述的抗反射膜，其中，所述基材膜的所述抗反射層側的表面的均方根斜率sdq為12以上且30以下。

18、發明效果

19、如上所述，在本發明的抗反射膜中，來自標準光源d65的波長380nm～780nm的照射光對抗反射層側的全反射率為0.40％以下，并且上述第一試驗(促進耐候性試驗)之后的上述第二試驗中的抗反射層的剝落率小于20％。通過抗反射膜的上述全反射率為0.40％以下，入射到該膜的光的散射減少，能確保抗反射膜的抗反射性。通過抗反射層的上述剝落率小于20％，在抗反射膜的實際應用上，能抑制因抗反射層的剝落而導致的抗反射膜的抗反射性的降低。

20、因此，根據本發明的抗反射膜，能持續地得到良好的反射抑制效果。

技術特征：

1.一種抗反射膜，其具備基材膜、所述基材膜上的密合層、以及所述密合層上的抗反射層，

2.根據權利要求1所述的抗反射膜，其中，

3.根據權利要求1所述的抗反射膜，其中，

4.根據權利要求1所述的抗反射膜，其中，

5.根據權利要求1所述的抗反射膜，其中，

6.根據權利要求1所述的抗反射膜，其中，

7.根據權利要求1至6中任一項所述的抗反射膜，其中，

8.根據權利要求1至6中任一項所述的抗反射膜，其中，

9.根據權利要求1至6中任一項所述的抗反射膜，其中，

10.根據權利要求1至6中任一項所述的抗反射膜，其中，

技術總結
本發明的抗反射膜(X)具備基材膜(10)、基材膜(10)上的密合層(21)、以及密合層(21)上的抗反射層(22)。就抗反射膜(X)而言，來自標準光源D65的波長380nm～780nm的照射光對抗反射層(22)側的全反射率為0.40％以下。就抗反射膜(X)而言，規定的第一試驗之后的規定的第二試驗中的抗反射層(22)的剝落率小于20％。

技術研發人員：宮本幸大,長命翔太,中島一裕
受保護的技術使用者：日東電工株式會社
技術研發日：
技術公布日：2025/3/13