專利名稱：一種分析器磁場數據的校準方法
技術領域：
本發明是一種軟件技術，涉及離子注入機分析器中磁場數據的校準方法。屬于半導體器件制造的軟件領域。
背景技術：
半導體集成電路制造工藝已發展到12英寸晶片、納米技術節點時期。隨著晶圓片尺寸越來越大，單元器件尺寸越來越小，對半導體工藝設備的性能要求也就越來越高。離子注入機是半導體集成電路器件制造工藝中必不可少的關鍵設備。為了提高離子注入機的性能，使其滿足現代大晶圓片、納米器件生產工藝的要求和適應將來半導體工藝技術的發展，必須要開發高效的全自動控制系統。離子注入機中，有許多的用到磁場數據處理、磁場大小的控制、磁場與電的關系緊密相關。這些控制量對于數值的精確度直接影響了整個離子注入機注入工藝。通過對離子注入機分析器磁場數據的校準方法，提高了返回數據的精確度，同時也有效的減小了數值中的不可避免的誤差。
發明內容
本發明主要是為了分析器磁場數據更加準確，利用對分析器磁場的校準方法。具體步驟如下:如圖1所示，離子注入機中的數字信號(I)通過轉換成模擬信號(2)，在控制軟件里，顯示其中值(3)，通過多次讀取，軟件上會顯示變動的值，而我們菜單或者手動輸入的值
(4)，為參考值，會顯示成為返回顯示值的參考值(5)，當變動的值(3)達到穩定之后，我們就認為穩定值為返回顯示值的參考值。如圖2所示，分析器磁場的數據值中，水平的為手動輸入參考值或者是菜單里定的固定值，縱軸方向的返回顯示值，a為在手動輸入X之后，通過(3)值的變動達到穩定之后，得到y，X與y為對等關系，b和c是另外的校準值。通過a、b、c的對分析器磁場校準能夠確定一條輸入參考值和返回顯示的線，當我們測的值越多，這條線就會越精確，當有波動太大的值時，可以分析其中原因，找出原因，解決問題。本發明具有如下顯著優點:1.通過分析器磁場的校準，可以使數值精確度的提高。2.通過分析器磁場的校準，可以使數值精度成為可控性。
具體實施例方式下面結合具體實施例對本發明作進一步詳細描述，但不作為對本發明專利的限定。如圖2所示，我們通過離子注入機中的數字信號(I)通過轉換成模擬信號(2)，在控制軟件里，顯示其中值(3)，通過多次讀取，軟件上會顯示變動的值，而我們菜單或者手動輸入的值(4)，為參考值，會顯示成為返回顯示值的參考值(5)，當變動的值(3)達到穩定之后，我們就認為穩定值為返回顯示值的參考值。然后通過手動輸入定值X，而通過(3)值的變動達到穩定的y，水平軸和縱軸得到a，通過多次得到b、C。通過a、b、c的連線，確定值的精確度，值越多，精確度越高。所以在對分析器磁場數據的校準的方法，可以使數值精確度提高，盡可能的減少誤差。
圖1為分析器磁場數據校準流程說明圖。圖2為分析器磁場數據校準說明圖。以上所述已對本發明的內容做了詳盡說明。對本領域一般技術人員而言，在不背離本發明精神的前提下對它所做的任何顯而易見的改動，都構成對本發明專利的侵犯，將承擔相應的法律責任。
權利要求
1.一種分析器磁場數據的校準方法其特征在于:通過對分析器磁場數據的校準，提高引束過程中返回值的精確度，更能真實的反應控制變量，提高注入工程中的工藝。
2.一種分析器磁場數據的校準方法其特征在于:通過對分析器磁場數據的校準，能夠控制引束過程中所需的數據精確度，根據實際需要，確定最后的精確度。
全文摘要
本方法闡述了一種分析器磁場在數據處理中的校準方法，其特征在于通過對分析器中磁場數據的校準，提高磁場數據返回的精確度。本方法通過(1)與(2)信號的轉換，成為真實的返回顯示值(3)，因為多次的返回，在返回穩定時，我們所得到的穩定值。在與參考值(5)進行對比，穩定值與參考值的對等關系，來確定校準值。
文檔編號H01J37/317GK103187228SQ20111045239
公開日2013年7月3日 申請日期2011年12月30日 優先權日2011年12月30日
發明者萬偉 申請人:北京中科信電子裝備有限公司