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一種基于量子度量非均勻照射的二次光學透鏡設計方法與流程

文檔序號：11151197閱讀：來源：國知局

導航： X技術> 最新專利>照明工業產品的制造及其應用技術>一種基于量子度量非均勻照射的二次光學透鏡設計方法與制造工藝

技術總結
本發明公開了一種基于量子度量的二次光學透鏡的設計方法，滿足非均勻性光子照度需求，包括：將光源與被照射面劃分網格，找到光源與被照射面之間的對應關系，計算得出自由曲面法向量，根據法向量方向構建自由曲面，并填充成為透鏡，代入光學模擬軟件，進行模擬計算，如果得到被照射面的光子照度非均勻度不能滿足要求，重復以上步驟，并修改網格參數，直到被照射面的非均勻光子照度滿足要求。

技術研發人員：魏偉;胡學功
受保護的技術使用者：中國科學院工程熱物理研究所
文檔號碼：201611186853
技術研發日：2016.12.21
技術公布日：2017.05.10

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