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一種校直機的制作方法

文檔序號:11118501閱讀:419來源:國知局
一種校直機的制造方法與工藝

本發明涉及機械產品加工技術領域,特別涉及一種應用于軋制產品的校直機。



背景技術:

楔橫軋多臺階軸類件在金屬切削加工過程中,一般要對毛坯、半成品、成品進行校直。校直是將待校直的軸類件產品兩端分別架在兩個轉輪面上,使產品邊轉邊測量,尋找彎曲的高點,然后通過校直機的壓柱下移,對彎曲部位施以壓力,產品發生變形實現校直目的。校直機對施壓的兩個支撐點要求較高,支撐點位置不對,形成彎曲,造成粗車出現黑皮形成廢品。

校直機支撐點的固定對校直的質量至關重要。楔橫軋產品模具都是以凸輪軸底軸頸為零點,也就是說,在軋制處產品時底軸頸的圓度要優于凸輪外圓。以外圓為支撐點來校直,會使得整個工件的跳動量隨著外圓圓度的變化而變化,在后續的粗車的過程中會形成局部黑皮。因此,校直機支撐點的合理選擇使用,將對工件的彎曲度有效保證,相信在今后的楔橫軋同行業中將會得到廣泛的應用,尤其是客戶要求越來越嚴格的時候,校直精度將起到不可忽視的作用。校直精度的提高會使毛坯加工余量還可進一步減少,有利于降低材料消耗和金屬加工的成本。

如圖1所示,以前校直機的支撐點為凸輪工件01的兩端大外圓02上,支撐點是由兩組軸承組成的,每組需要三個軸承,兩個徑向軸承03和一個軸向軸承04三面接觸,該校直結構復雜,并且要在凸輪的兩端大外圓02上加工影響校直的準確精度。



技術實現要素:

有鑒于此,為克服現有技術的不足,本發明提供一種校直機,裝置結構簡單,校直精度更高、速度更快,使用方便,工作效率高。

為實現上述目的,本發明的技術方案如下:

一種校直機,用于加工凸輪工件,其包括設置在凸輪工件上方的校直頂桿和分別位于凸輪工件兩端底軸頸下的兩組徑向滾輪,所述凸輪工件可繞著所述兩組徑向滾輪轉動,所述兩組徑向滾輪可以軸向調節兩者之間的距離,以適用不同規格的凸輪工件。

所述凸輪工件下方設置墊鐵,所述墊鐵與凸輪工件底面的距離為1-2mm。當校直機采用校直頂桿對彎曲凸輪工件進行校直時,墊鐵起到輔助支撐的作用。

所述墊鐵表面設置凹槽,所述凹槽內安裝有與工件相匹配的鋼條,當加工不同的凸輪工件時,只需更換不同厚度的鋼條來調節所述墊鐵與凸輪工件底面的距離,方便快捷。

本發明的校直方法是:

將凸輪工件兩端的底軸頸作為支撐點水平放置于所述兩組徑向滾輪上,在所述凸輪工件上方安裝有校直頂桿,在位于凸輪工件下方近距離設置墊鐵。在校直時,將所述凸輪工件繞著所述兩組徑向滾輪轉動進行校直,當發現有偏差不直時,采用所述校直頂桿向下抵壓凸輪工件表面,同時下方有墊鐵支撐,使其變直。

本發明的有益效果是,裝置結構簡單,校直精度更高、速度更快,使用方便,工作效率高。

【附圖說明】

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案,下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創造性勞動的前提下,還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為以前的結構示意圖。

圖2為本發明的結構示意圖。

圖中,01、凸輪工件,02、大外圓,03、徑向軸承,04、軸向軸承,1、凸輪工件,2、校直頂桿,3、徑向滾輪,4、墊鐵,5、底軸頸,6、鋼條。

【具體實施方式】

下面將結合本發明實施例中的附圖,對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例,本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發明保護的范圍。

參照圖2,一種校直機,用于加工凸輪工件1,其包括設置在凸輪工件1上方的校直頂桿2和分別位于凸輪工件1兩端底軸頸5下的兩組徑向滾輪3,所述凸輪工件1可繞著所述兩組徑向滾輪3轉動,以便進行工件校直工作,所述兩組徑向滾輪3可以軸向調節兩者之間的距離,以適用不同規格的凸輪工件。

所述凸輪工件1下方設置墊鐵4,所述墊鐵4與凸輪工件1底面的距離為1-2mm。當校直機采用校直頂桿2對彎曲凸輪工件進行校直時,墊鐵4起到輔助支撐的作用。

墊鐵4表面設置凹槽,所述凹槽內安裝有與工件相匹配的鋼條,當加工不同的凸輪工件時,只需更換不同厚度的鋼條來調節其間的距離,方便快捷。

本發明的校直方法是:

將凸輪工件1兩端的底軸頸5作為支撐點水平放置于所述兩組徑向滾輪3上,在所述凸輪工件1上方安裝有校直頂桿2,在位于凸輪工件1下方近距離設置墊鐵4。在校直時,將所述凸輪工件1繞著所述兩組徑向滾輪3轉動進行校直,當發現有偏差不直時,采用所述校直頂桿2向下抵壓凸輪工件1表面,同時下方有墊鐵4支撐,使其變直。

以上所述僅為本發明的較佳實施例而已,并不用以限制本發明,凡在本發明的精神和原則之內,所作的任何修改、等同替換、改進等,均應包含在本發明的保護范圍之內。

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