沖壓用耐磨納米涂層結構的制作方法

專利名稱:沖壓用耐磨納米涂層結構的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種沖壓用耐磨納米涂層結構，包括基層，在所述的基層上設有過渡層，在所述的過渡層上設有耐磨層，所述的基層為NGr層，所述的過渡層為NGrS2Mo層，所述的耐磨層為NS2Mo層。采用了上述涂層結構之后，通過在沖頭以及模具的沖壓部噴涂涂層結構，能夠在實際使用過程中，增加模具的耐磨性能，提高模具的使用壽命，提高產品的生產質量。
【專利說明】
沖壓用耐磨納米涂層結構
技術領域
[0001]本實用新型涉及納米涂層技術行業，尤其是涉及一種沖壓用耐磨納米涂層結構。
【背景技術】
[0002]納米涂層是利用現有技術，根據所要求的性能，添加適當的納米材料，并對涂層工藝作相應的調整，納米涂層的制作方法主要包括氣相沉積、各類噴涂(含常溫噴涂、火焰噴涂和等離子噴涂等)、鍍覆(含電鍍和化學鍍)等多種方法。在現有技術中，為了使用高精度化、自動化、多功能化、高生產率化、環保等要求，要求特殊工件具有耐高溫、耐磨損、耐腐蝕等特點，而納米涂層就具有上述優點，納米涂層的使用將越來越廣泛。
[0003]在沖壓技術行業中，沖壓機的上下沖擊會對模具造成摩擦損傷，從而導致模具以及沖頭的壽命降低，并且會出現不合格產品，造成生產質量下降。

【發明內容】

[0004]本實用新型所要解決的技術問題是提供一種能夠提高模具的耐磨性能且提高模具的使用壽命提高生產質量的沖壓用耐磨納米涂層結構。
[0005]本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是:一種沖壓用耐磨納米涂層結構，包括基層，在所述的基層上設有過渡層，在所述的過渡層上設有耐磨層，所述的基層為NGr層，所述的過渡層為NGrS2Mo層，所述的耐磨層為NS2Mo層。
[000?]進一步具體的，所述的基層的厚度為0.2μηι，所述的過渡層的厚度為0.5μηι，所述的耐磨層的厚度為2μηι，通過對涂層厚度的控制，能夠很好的實現耐磨效果。
[0007]進一步具體的，所述的耐磨層上設有NGr層、NGrS2Mo層以及NS2Mo層的一種或者兩種或者三種，根據需要進行涂層的排布。
[0008]本實用新型的有益效果是:采用了上述涂層結構之后，通過在沖頭以及模具的沖壓部噴涂涂層結構，能夠在實際使用過程中，增加模具的耐磨性能，提高模具的使用壽命，提尚廣品的生廣質量。
【附圖說明】

[0009]圖1是本實用新型的結構示意圖。
[0010]圖中:l、NGr層；2、NGrS2Mo層；3、NS2Mo層。
【具體實施方式】
[0011]下面結合附圖對本實用新型作詳細的描述。
[0012]如圖1所示一種沖壓用耐磨納米涂層結構，包括基層，在所述的基層上設有過渡層，在所述的過渡層上設有耐磨層，所述的基層為NGr層I其厚度為0.2μπι，所述的過渡層為NGrS2Mo層2其厚度為0.5μπι，所述的耐磨層為NS2Mo層3其厚度為2μπι;所述的耐磨層上設有NGr層1、NGrS2Mo層2以及NS2Mo層3的一種或者兩種或者三種，可以根據需要在耐磨層上繼續噴涂NGr層1、NGrS2Mo層2以及NS2Mo層3其中的一種或者幾種。
[0013]加工的時候，首先將連接件置于真空室內，保證室內溫度為400?450°C以及室內壓強為2Pa，保證室內偏壓為10V以及弧電流為80A，噴涂時間8分鐘形成NGr層I;繼續保證室內溫度為400?450 °C，室內壓強保證在1.5Pa，室內偏壓為10V，弧電流為120A，噴涂時間10分鐘形成NGrS2Mo層2 ；繼續保證室內溫度為400?450°C，室內壓強穩定在1.5Pa，室內偏壓升至150V維穩，弧電流升至150A維穩，噴涂時間100分鐘形成NS2Mo層3。
[0014]通過在沖頭以及模具的沖壓部噴涂涂層結構，能夠在實際使用過程中，增加模具的耐磨性能，提高模具的使用壽命，提高產品的生產質量。
[0015]需要強調的是:以上僅是本實用新型的較佳實施例而已，并非對本實用新型作任何形式上的限制，凡是依據本實用新型的技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本實用新型技術方案的范圍內。
【主權項】
1.一種沖壓用耐磨納米涂層結構，包括基層，其特征在于，在所述的基層上設有過渡層，在所述的過渡層上設有耐磨層，所述的基層為NGr層(I)，所述的過渡層為NGrS2Mo層(2)，所述的耐磨層為NS2M0層(3)。2.根據權利要求1所述的沖壓用耐磨納米涂層結構，其特征在于，所述的基層的厚度為0.2μηι，所述的過渡層的厚度為0.5μηι，所述的耐磨層的厚度為2μηι。3.根據權利要求1所述的沖壓用耐磨納米涂層結構，其特征在于，所述的耐磨層上設有NGr層(I)、NGrS2Mo層(2)以及NS2Mo層(3)的一種或者兩種或者三種。
【文檔編號】C23C4/06GK205710891SQ201620270386
【公開日】2016年11月23日
【申請日】2016年4月5日
【發明人】張建坡
【申請人】超微中程納米科技（蘇州）有限公司