專利名稱：雙室真空鍍膜機的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種用于裝飾鍍的真空鍍膜機，特別是一種雙室真空鍍膜機。
背景技術：
眾所周知，利用真空蒸發技術或濺射技術在塑料工件表面鍍金屬達到裝飾或反射或導電的目的，現已成熟應用于工業生產，這種傳統的真空鍍膜機如圖1所示。為了提高產量，現有的作法是加大真空室的直徑，直徑從1.2米到1.4米，1.6米，1.8米，甚至更大。為此配泵也越配越大，粗抽泵由一合變二臺，精抽擴散泵由K600泵變為K800，K1000或兩臺K600并用，這樣雖然產量能提高一些，但設備的大型化必然導致設備投資增大，配電增大，占地增大。表1是傳統機型的有關數據一覽表。
表1 幾種傳統的鍍膜機的有關數據
該傳統技術存在如下缺陷1.空間利用率低，由表1的數據得知，傳統機型的空間利用率(工件軸總體積/真空室內體積)都不足一半，其真空室內工件架中心軸是沿圓周方向均布的，而且真空室直徑越大，需要排的多余空間越多，因此直徑越大的真空室必須配置容量更大的粉抽泵2.泵的利用率低，在粗抽時擴散泵是不起作用的，在精抽時大容積的粗抽泵僅作擴散泵的前級，這太浪費了。3.真中室放大，工件裝載量增多，這對鍍膜不利，為了保證鍍膜質量，必須要加大蒸發電源的功率或者磁控電源的功率，這些電源的利用率更低，對設備成本的增加很明顯。
發明內容
本實用新型的目的在于提供一種能實現高產量低成本的雙室真空鍍膜機。
本實用新型的目的是通過如下途徑實現的雙室真空鍍膜機，包括真空室和排氣系統，裝有工件架[12]及蒸發電極或磁控濺射源[13]的真空室[11]有兩個，且排氣系統采用粗、精抽分離的雙路排氣系統[15]、[14]分別連通兩個真空室[11]對其交替排氣交替鍍或濺射鍍，交替放氣和裝卸工件架，粗抽系統[15]是由滑閥泵[18]接羅茨泵[17]后分別接左粗抽閥[16]、右粗抽閥[19]組成；精抽系統[14]是由旋片泵[23]接擴散泵[21]后分別接左精抽閥[20]、右精抽閥[22]組成。真空室[11]內的工件架[12]裝有一軸或一軸以上，一軸以上的工件架[12]按其工件架中心軸相互平行方式排列。真空室[11]內的工件架[12]的中心軸最好是平行排列二軸。
本實用新型的有益效果是采用兩個真空室，由粗、精抽分離的雙路排氣系統對兩個真空室進行交替排氣，與表1中ZZ-1400機型相比，其排氣系統的泵、及真空室內的蒸發電極或磁投濺射電源的功率要小，其設備成本及電力配備下降，占地面積小，日產量由傳統的24-30軸/小時提高到60軸/小時。
附圖給出了本實用新型的一個實施例圖1為傳統的真空鍍膜機的結構示意圖；圖2為本實用新型實施例1的結構示意圖；圖3為本實用新型實施例1的俯視圖圖4、圖5分別是真空室內工件架中心軸排列示意圖。
具體實施方式
下面參照附圖對本實用新型作進一步詳細說明參照圖1，為傳統的真空鍍膜機的結構示意圖；它有一個大圓筒形真空室1，通常直徑為1.2-2米，筒長2米；真空室中心有一組蒸發電極3，蒸發電極3周圍均勻分布六個工件軸2，它的真空排氣系統4由擴散泵10，羅茨泵17，旋片泵9及上閥6、下閥7精抽閥5組成，粗抽和精抽為一個整體系統，完成真空室的粗抽和精抽。
參照圖2、圖3，為本實用新型實施例1的結構示意圖及俯視圖，它采用兩個真空室11，每個真空室11內部裝有一組蒸發電極13，蒸發電極13也可以用磁控濺射源來取代，每個真空室11內平行裝有二軸工件架12，它的排氣系統由高真精抽系統14和低真空粗抽系統15組合，高真空精系統14由左精抽閥20、右精抽閥22、擴散泵21、加片泵23組成，低其中粗抽系統15由左粗抽閥16、右粗抽閥19、羅茨泵17、滑閥泵18組成。14和15是完全獨立的系統，它的工作過程是當左粗抽閥16開，左室粗抽時，右室的精抽閥已開，正在精抽與鍍膜。當左粗抽閥關，左室粗抽完畢時，左精抽閥20開，左室這時轉入精抽，心室正在放氣，更換工件架12，因此這對高真空精抽系統14的利用率是很高的。同樣，當右室更換好工件12需要重新粗抽時，左室已進入精抽階段，低真空粗抽系統15立即對右室粗抽，所以低真空粗抽系統15的利用率是很充分的。當排氣達到一定真空度時，電機27轉動帶動工件架12轉動，接著蒸發器13(或磁控源)開始工作，鍍膜開始，鍍膜開始完畢后，放氣閥25開啟，真空室放大氣，將門車28拉出，工件架12隨之帶出，裝卸完畢再其新抽真空專11，進行前面所述的粗抽和精抽的排氣過程。其粗、粗抽系統的工作過程由自動程序控制，參照圖4、圖5，工件架中心軸可是多軸成二排或多排排列，或成三角形排列。
權利要求1.一種用于裝飾鍍的雙室真空鍍膜機，包括真中室和排氣系統，其特征是裝有工件架[12]及蒸發電極或磁控濺射源[13]的真空室[11]有兩個，且排氣系統采用粗、精抽分離的雙路排氣系統[15][14]分別連通兩個真空室[11]對其交替排氣交替蒸鍍或濺射鍍；交替放氣和裝卸工件架。
2.如權利要求1所述雙室其空鍍膜機，其特征是真空室[11]內的工件架[12]裝有一軸或一軸以上，一軸以上的工件架[12]按其工件架中心軸相互平行方式排列。
3.如權利要求1所述雙室真空鍍膜機，其特征是真空室[11]內的工件架[12]的中心軸平行排列二軸。
4.如權利要求1所述雙室真空鍍膜機，其特征是粗抽系統[15]是由滑閥泵[18]接羅茨泵[17]后分別接左粗抽閥[16]、右粗抽閥[19]組成；精抽系統[14]是由旋片泵[23]接擴散泵[21]后分別接左精抽閥[20]、右精抽閥[22]組成，粗抽系統[15]完全獨立與精抽系統[14]。
專利摘要本實用新型涉及一種用于裝飾鍍的真空鍍膜機，它主要由兩個真空室，采用粗、精抽分離的雙路排氣系統對兩個真中室交替排氣組成，它占地面積小，設備成本及電力配備比現有的鍍膜機下降，且產量由傳統的24－30軸/小時提高到60軸/小時。
文檔編號C23C14/35GK2734773SQ200420068899
公開日2005年10月19日 申請日期2004年10月10日 優先權日2004年10月10日
發明者黃國興 申請人:黃國興