專利名稱：鍍膜機的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種用于鍍膜的鍍膜機。
背景技術：
現有的真空離子鍍膜機主要利用電子槍將坩堝內的蒸鍍材料進行加熱，并將蒸鍍 材料蒸發到光學元件表面形成光學膜。而現有的蒸鍍材料一般呈顆粒狀，由于顆粒體積小， 重量輕，所以在加熱的過程中，某些顆粒會被噴濺出去，沒有完全融化的顆粒會在光學元件 表面產生污點，影響光學元件的質量。為了減少這種現象，一般需要預先在一個真空的預融 機內利用電子槍將粒狀的蒸鍍材料融化成一體，然后再裝入真空離子鍍膜機中進行鍍膜。 但是，這種鍍膜方式需要利用兩個設備，而且每次鍍膜都需要在兩個設備間進行操作，由此 將導致制作流程的加長，不利于提高產品的生產效率。
發明內容
有鑒于此，有必要提供一種高效的鍍膜機。一種鍍膜機，其包括坩堝、電子槍、坩堝轉動裝置及承載板。所述坩堝及電子槍設 于所述承載板上，所述坩堝用于裝載為光學元件鍍膜的蒸鍍材料，所述電子槍用于加熱所 述坩堝內的蒸鍍材料，所述坩堝轉動裝置驅動所述坩堝轉動。所述鍍膜機還包括蓋板及蓋 板偏移裝置，所述蓋板蓋于所述坩堝上方，且與所述坩堝之間存在高度差，留有供電子槍射 線射入的間隙，所述蓋板偏移裝置驅動蓋板以遮蓋或露出所述坩堝。本發明提供的鍍膜機可以在用電子槍對蒸鍍材料進行預融時，利用蓋板偏移裝置 驅動蓋板遮蓋坩堝，防止蒸鍍材料的濺射；當用電子槍對蒸鍍材料進行蒸發時，利用蓋板偏 移裝置驅動蓋板露出坩堝，進行蒸發鍍膜，從而可以在一臺設備中實現預融及鍍膜，以加快 產品的生產流程。
圖1為本發明提供的鍍膜機的示意圖。
圖2為圖1的鍍膜機的加熱系統的組裝圖。
圖3為圖1的鍍膜機的加熱系統的分解示意圖。
圖4為圖1的鍍膜機的坩堝及坩堝轉動裝置的示意圖。
主要元件符號說明
螺絲8
待鍍膜鏡片9
鍍膜機100
加熱系統10
升降裝置11
升降基座110
伸長部111
承載板轉動裝置12
電機轉軸121
電機主體122
承載板13
第一臺階孔131
第二臺階孔132
坩堝14
坩堝側壁141
盛料槽141a
堝底142
突塊142a
電子槍15
蓋板16
蓋板偏移裝置17
蓋板轉軸170
蓋板支撐桿171
坩堝轉動裝置18
座體180
轉動部181
凹槽181a
承載系統20
轉動軸21
基板承載架22
基板23
離子源30
真空鍍膜室40
底部401
頂部40具體實施例方式請參閱圖1，為本發明提供的鍍膜機100，所述鍍膜機100包括加熱系統10、承載系
統20、離子源30及真空鍍膜室40。所述真空鍍膜室40包括底部401及頂部402。所述離子源30固定在所述真空鍍 膜室40的底部401，所述離子源30用于為蒸發的蒸鍍材料提供動能，使得蒸鍍材料吸附的 更緊實。所述承載系統20包括轉動軸21、基板承載架22及基板23。所述轉動軸21正對 所述離子源30安裝在所述真空鍍膜室40的頂部402，所述基板承載架22與所述轉動軸21 固定連接。本實施方式中采用螺絲將所述基板承載架22連接于所述轉動軸21上。所述基 板承載架22上裝有多塊基板23，所述基板23用于承載待鍍膜鏡片9。
請一并參閱圖2及圖3，所述加熱系統10包括升降裝置11、承載板轉動裝置12、承 載板13、坩堝14、電子槍15、蓋板16、蓋板偏移裝置17及坩堝轉動裝置18。所述升降裝置 11固定在所述真空鍍膜室40的底部401，所述升降裝置11位于所述離子源30 —側。本實 施方式中，所述升降裝置11采用氣壓缸。當然，所述升降裝置11也可以采用液壓缸或其他 動力裝置例如馬達等。所述升降裝置11包括升降基座110及伸長部111。所述升降基座 110固定于所述真空鍍膜室40的底部401，所述伸長部111能夠相對所述升降基座110做 升降運動。所述承載板轉動裝置12固定于所述升降裝置11的伸長部111上。本實施方式 中，所述承載板轉動裝置12是步進電機，包括電機轉軸121及電機主體122。所述電機主體 122固定連接于所述伸長部111上。所述承載板13轉動連接于所述承載板轉動裝置12上。本實施方式中，所述承載 板13是一矩形板，通過螺絲8固定在電機轉軸121上。沿所述承載板13的長度方向的兩 端開設有第一臺階孔131及第二臺階孔132。所述第一臺階孔131、第二臺階孔132分別用 于固定一坩堝14于其中。其中第一臺階孔131及第二臺階孔132能夠通過所述承載板轉 動裝置12轉動所述承載板13來改變或交換其位置，使得位于第一臺階孔131或第二臺階 孔132中的坩堝14能夠位于可以對待鍍膜鏡片9進行鍍膜的位置。本實施方式中，所述坩堝14是圓盤狀。所述坩堝14包括坩堝側壁141及堝底142。 所述坩堝側壁141圍成一個用于盛放蒸鍍材料的盛料槽141a。所述堝底142加工有四個突 塊142a(參圖4)。所述四個突塊14 沿所述坩堝14的圓周方向排列。所述兩個電子槍15固定于所述承載板13的一側，分別對應所述第一臺階孔131 及第二臺階孔132，向收容于所述第一臺階孔131及第二臺階孔132內的坩堝14發射射線。所述蓋板16的直徑大于所述坩堝14的直徑。所述蓋板16遮蓋所述坩堝14，防 止所述坩堝14內的鍍膜材料蒸發到基板承載架22上。所述蓋板16與對應坩堝14之間留 有間隙h，使得位于承載板13側邊的電子槍15的射線L可以順利的射入坩堝14內。所述 蓋板16固定于所述蓋板偏移裝置17上。所述蓋板偏移裝置17位于所述承載板13兩端， 且與所述第一臺階孔131及第二臺階孔132相對應。所述蓋板偏移裝置17轉動蓋板16以 遮蓋或露出坩堝14。所述蓋板偏移裝置17可以是將所述蓋板16偏轉到坩堝14 一側的機 構，也可以是將所述蓋板16平移到坩堝14 一側的機構。本實施方式中，所述蓋板偏移裝置 17包括蓋板轉軸170及蓋板支撐桿171。所述蓋板轉軸170豎直立于所述承載板13 —側， 所述蓋板支撐桿171水平延伸到所述坩堝14上方，所述蓋板16固定于所述蓋板支撐桿171 上。當需要露出所述坩堝14時，所述蓋板轉軸170水平轉動，平移所述蓋板16，以露出所述 坩堝14。當需要遮蓋所述坩堝14時，所述蓋板轉軸170水平轉動，將所述蓋板16平移到所 述坩堝14上方。所述坩堝轉動裝置18驅動所述坩堝14轉動，以使坩堝14內的蒸鍍材料被電子槍 15均勻加熱。所述坩堝轉動裝置18可以固定在所述承載板13上，也可以與所述承載板13 分開設置。本實施方式中，所述坩堝轉動裝置18與所述承載板13分開設置，所述坩堝轉動 裝置18固定于所述真空鍍膜室40的底部401，位于所述承載板13的下方。所述坩堝轉動 裝置18包括座體180及轉動部181。所述轉動部181上開設有四個與所述坩堝14的四個 突塊14 相對應的凹槽181a。所述升降裝置11改變所述承載板13的高度，以使所述坩堝 14能夠承靠到所述坩堝轉動裝置18的轉動部181上，被所述坩堝轉動裝置18轉動。
當該鍍膜機100鍍第一批待鍍膜鏡片9時，先在所述基板23上裝滿所述待鍍膜鏡 片9，在所述兩個坩堝14內裝入蒸鍍材料，再將所述真空鍍膜室40抽成真空。所述升降裝 置11改變所述承載板13的高度使所述坩堝14承靠到所述坩堝轉動裝置18的轉動部181 上，被所述坩堝轉動裝置18轉動。所述蓋板偏移裝置17轉動蓋板16遮蓋所述坩堝14，所 述電子槍15加熱所述坩堝14，使所述兩個坩堝14中的蒸鍍材料融化，由于有蓋板16，所以 蒸鍍材料不會濺射到待鍍膜鏡片9上。當蒸鍍材料融化后，蓋板偏移裝置17將位于第一臺 階孔131上方的蓋板16移開，露出所述坩堝14，并改變對應電子槍15的功率，利用位于第 一臺階孔131的坩堝14中的蒸鍍材料進行鍍膜。當然，也可以是先使用位于第一臺階孔 131的坩堝14中的蒸鍍材料進行鍍膜當鍍膜完成后，安裝第二批待鍍膜鏡片9時，將第一臺階孔131內的坩堝14重新 裝入新的蒸鍍材料，再次鍍膜時，所述升降裝置11增加所述承載板13的高度使所述坩堝14 脫離所述坩堝轉動裝置18的轉動部181，所述承載板轉動裝置12轉動所述承載板13，交換 所述第一臺階孔131及第二臺階孔132的位置，再利用所述升降裝置11降低所述承載板13 的高度使所述坩堝14承靠到所述坩堝轉動裝置18的轉動部181上，利用所述坩堝轉動裝 置18轉動轉動所述坩堝14。所述蓋板偏移裝置17將第二臺階孔132上的蓋板16移開，將 第一臺階孔131上的坩堝14遮蓋。利用第二階孔173上的坩堝14鍍膜，對第一臺階孔131 上的坩堝14內的鍍膜材料進行融化，從而可以一邊鍍膜一邊融化，節省下一次鍍膜融化材 料的時間，進一步提高生產效率。本發明提供的鍍膜機可以在用電子槍對蒸鍍材料進行預融時，利用蓋板偏移裝置 驅動蓋板遮蓋坩堝，防止蒸鍍材料的濺射；當用電子槍對蒸鍍材料進行蒸發時，利用蓋板偏 移裝置驅動蓋板露出坩堝，進行蒸發鍍膜，從而可以在一臺設備中實現預融及鍍膜，以加快 產品的生產流程。可以理解的是，對于本領域的普通技術人員來說，可以根據本發明的技術構思做 出其它各種相應的改變與變形，而所有這些改變與變形都應屬于本發明權利要求的保護范圍。
權利要求
1.一種鍍膜機，其包括坩堝、電子槍、坩堝轉動裝置及承載板，所述坩堝及電子槍設于 所述承載板上，所述坩堝用于裝載為光學元件鍍膜的蒸鍍材料，所述電子槍用于加熱所述 坩堝內的蒸鍍材料，所述坩堝轉動裝置驅動所述坩堝轉動，其特征在于，所述鍍膜機還包括 蓋板及蓋板偏移裝置，所述蓋板蓋于所述坩堝上方，且與所述坩堝之間存在高度差，留有供 電子槍射線射入的間隙，所述蓋板偏移裝置驅動蓋板以遮蓋或露出所述坩堝。
2.如權利要求1所述的鍍膜機，其特征在于，所述坩堝、電子槍、坩堝轉動裝置、蓋板及 蓋板偏移裝置的數量均為兩個，所述兩個坩堝分別位于所述承載板兩端，所述兩個電子槍 分別對應所述兩個坩堝設于所述承載板兩側，所述兩個坩堝轉動裝置分別用于驅動所述兩 個坩堝轉動，所述兩個蓋板分別位于所述兩個坩堝上方，且與所述兩個坩堝之間存在高度 差，留有供電子槍射線射入的間隙，所述兩個蓋板偏移裝置分別能夠移動兩個蓋板以遮蓋 或露出所述兩個坩堝，所述鍍膜機還包括一個承載板轉動裝置，所述承載板轉動裝置用于 轉動所述承載板，使所述兩個坩堝中其中任意一個坩堝位于為光學元件鍍膜的位置。
3.如權利要求1所述的鍍膜機，其特征在于，所述坩堝轉動裝置是轉動馬達。
4.如權利要求2所述的鍍膜機，其特征在于，所述承載板轉動裝置是步進電機。
5.如權利要求2所述的鍍膜機，其特征在于，所述兩個坩堝轉動裝置固定于所述承載 板上。
6.如權利要求2所述的鍍膜機，其特征在于，所述兩個坩堝轉動裝置與所述承載板分 開設置，所述兩個坩堝轉動裝置分別位于所述兩個坩堝的下方。
7.如權利要求6所述的鍍膜機，其特征在于，所述鍍膜機還包括一個升降裝置，所述升 降裝置能夠改變所述承載板的高度，以使所述坩堝承靠或脫離所述坩堝轉動裝置。
8.如權利要求2所述的鍍膜機，其特征在于，所述蓋板偏移裝置用于平移所述蓋板，以 遮蓋或露出坩堝。
9.如權利要求2所述的鍍膜機，其特征在于，所述蓋板偏移裝置用于偏轉所述蓋板，以 遮蓋或露出坩堝。
全文摘要
本發明提供一種鍍膜機，其包括坩堝、電子槍、坩堝轉動裝置及承載板。坩堝及電子槍設于承載板上，坩堝用于裝載為光學元件鍍膜的蒸鍍材料，電子槍用于加熱坩堝內的蒸鍍材料，坩堝轉動裝置驅動坩堝轉動。鍍膜機還包括蓋板及蓋板偏移裝置，蓋板蓋于坩堝上方，且與坩堝之間存在高度差，留有供電子槍射線射入的間隙，蓋板偏移裝置驅動蓋板以遮蓋或露出坩堝。本發明提供的鍍膜機可以在用電子槍對蒸鍍材料進行預融時，利用蓋板偏移裝置驅動蓋板遮蓋坩堝，防止蒸鍍材料的濺射；當用電子槍對蒸鍍材料進行蒸發時，利用蓋板偏移裝置驅動蓋板露出坩堝，進行蒸發鍍膜，從而可以在一臺設備中實現預融及鍍膜，以加快產品的生產流程。
文檔編號C23C14/30GK102108486SQ200910312398
公開日2011年6月29日 申請日期2009年12月28日 優先權日2009年12月28日
發明者林后堯, 蔡泰生 申請人:鴻富錦精密工業(深圳)有限公司, 鴻海精密工業股份有限公司