專利名稱：Ald反應器，用來裝載ald反應器的方法，和生產線的制作方法
技術領域：
本發明涉及根據權利要求1的前序部分的ALD反應器，并且特別地涉及用來處理一個或更多個基底的ALD反應器，該ALD反應器包括至少一個反應室，該至少一個反應室包括具有氣體連接件的前板，該氣體連接件用來將起始材料、沖洗氣體和類似氣體供給到反應室內。本發明還涉及根據權利要求沈的前序部分的生產線，并且特別地涉及一種生產線，該生產線包括用來改性和/或生長基底表面的兩個或更多個連續的處理室，并且其中基底沿水平方向被運送過連續的處理室。本發明還涉及根據權利要求27的前序部分的方法，并且特別地涉及用來將一個或更多個基底裝載到ALD反應器的反應室中和從其中移除它們的方法。
背景技術：
根據現有技術，基底被裝載到原子層沉積反應器(ALD反應器)中，并且特別地裝載到位于低壓室內的其反應室中，并且它們通過閘門閥從那里被移除，或者替代地，反應室具有可打開的蓋，基底可以通過該可打開的蓋放置在反應室中。在那種情況下，每一個基底單獨地被裝載到ALD反應器中并且從那里被移除，使得該裝載/移除由以預定順序被執行的多個連續操作或運動組成。上述布置具有的問題是，用來將基底裝載到反應室中的復雜且緩慢的方案使得難以在生產線中使用ALD方法。復雜的現有技術方案是緩慢的并且需要復雜的裝置，用于當基底通過多個連續的運動被裝載到反應室中和從反應室被移除時來操縱基底。此外，現有技術方案沒有使用流過原理以快速且有效的方式操作ALD反應器，從而使得基底可以從一個生產階段被接收到ALD反應器中并且被進一步傳遞到ALD反應器之后的后續生產階段。
發明內容
本發明的目的是提供一種ALD反應器、一種用來裝載ALD反應器的方法和一種生產線，使得上述問題可以被解決。這通過根據權利要求1的特征部分的ALD反應器來實現， 該ALD反應器的特征在于，前板被布置成用來放置在基底上以便關閉反應室和放置在離開基底一定距離處以便打開反應室，使得當反應室處于打開狀態(在該打開狀態中，前板處于離開基底一定距離處)時基底被布置成用來裝載在前板的下方、上方或前方，并且使得在反應室的關閉狀態(在該關閉狀態中，前板放置在基底上)中基底可通過ALD方法處理。 本發明的目的還通過根據權利要求26的特征部分的生產線被實現。本發明的目標又通過根據權利要求27的特征部分的方法被實現，該方法的特征在于，在該方法中，基底通過以下步驟被裝載到反應室中以便處理，即通過將基底傳遞到反應室的前板的上方、下方或前方，該前板包括氣體連接件，該氣體連接件用來將起始材料、沖洗氣體和類似氣體供給到反應室中；并且通過使反應室的前板和基底相對彼此運動，以便將前板放置在基底上從而將反應室關閉到關閉狀態；
并且在該方法中，通過以下步驟從反應室移除基底，即通過使反應室的前板和基底相對彼此運動，以便將前板和基底放置在離開彼此一定距離處從而將反應室打開到打開狀態；并且通過將基底傳遞離開打開狀態的反應室的前板的上方、下方或前方。本發明的優選實施例在從屬權利要求中被公開。本發明基于如下思想布置在預期用于原子層沉積方法(ALD方法)的ALD反應器的低壓室內的反應室形成為具有如下結構基底沿水平方向可傳遞到前板的下方或上方， 通過該前板供給起始材料、沖洗氣體和其它氣體，并且基底和前板可相對彼此運動以便將前板放置在基底表面上以便關閉反應室。反應室因此可以被設置在打開位置中，其中前板處于基底的上方或下方離開基底表面一定距離處。在反應室的打開狀態中，基底可以傳遞到前板上方或下方并且可以從前板移除。為了關閉反應室，前板和基底相對彼此運動使得前板放置在要被處理的基底表面上方。可以通過移動前板或基底，或前板和基底而實現基底和前板的相對運動。當處理基底的上表面時，前板可以從上向下下降到基底的上表面上， 或者基底可以被向上提升以便將前板放置到基底表面上。替代地，基底可以被向上提升并且同時前板可以被向下降下。當處理基底的下表面時，前板可以被向上提升以將前板放置在基底的下表面上。基底的上表面和下表面可以如上所述通過為反應室設置兩個前板被同時處理，該兩個前板分別被放置在基底上方和下方，由此基底被夾在前板之間。在那種情況下，兩個前板都可以相對于基底運動以便關閉反應室。盡管在本發明的例子中描述了前板和支撐結構布置成大體上沿豎直方向相對彼此可運動，但前板和基底也可以布置成例如大體上沿水平方向相對彼此可運動。在那種情況下，例如以直立的位置被承載的大的玻璃板可以被傳遞到前板的前方在離開前板一定距離處，使得前板和基底沿水平方向相對彼此可運動以關閉反應室，由此玻璃板以直立的位置放置在前板上。對應地，反應室可以通過前板和基底的相對水平運動被打開。本發明的方法和系統的優點是，它簡化基底、特別是板形或平面基底到ALD反應器的反應室中的裝載。根據本發明，反應室的打開和關閉可以通過沿一個方向的一個運動或相對運動被執行。有利地，在反應室關閉時，可以將基底傳遞到反應室中并且將它封閉在其中，并且對應地，在反應室打開時從反應室移除基底。因此，當反應室的關閉和基底到反應室中的裝載通過一個運動被同時執行，并且對應地，反應室的打開和基底從反應室的移除通過一個運動，優選地通過沿一個方向的運動被執行時，使得反應室的結構是簡單的，并且對應地，使得基底到反應室中的裝載和從其移除簡單且快速。本發明還具有的優點是，基底和可任選的基底支撐件與傳送軌分離，由此上和下密封不需要單獨的運動和力控制，傳送軌不加載有關閉力，并且諸如傳送帶的傳送軌可用于其它傳遞目的。
在下面，將參考附圖結合優選實施例更詳細地描述本發明，其中圖IA和IB示出本發明的ALD反應器；并且圖2示出本發明的ALD反應器的反應室。
具體實施例方式
7
參考圖1A，圖中示出根據本發明的ALD反應器1的實施例。圖IA的ALD反應器1 被設計成使得它可以被安裝以形成生產線的一部分，該生產線包括兩個或更多個連續安裝的處理室，基底在生產處理期間穿過所述處理室。圖IA的ALD反應器1包括處理室4以及第一間門裝置14和第二間門裝置16。處理室4可以是例如低壓室、高壓室或正常大氣壓力室(NTP 1巴，0°C )。閘門裝置14、16可包括閘門閥或另一對應隔離裝置，通過該閘門閥或另一對應隔離裝置，基底2被引入ALD反應器1的低壓室4中并且從其移除。根據圖1A， ALD反應器1還包括傳遞裝置18，該傳遞裝置用來在低壓室4內傳遞基底2以及使其進入和離開低壓室4。傳遞裝置18可以是例如滾動的傳送輪或傳送軌或傳送帶，基底2在傳遞裝置18上被傳遞。根據圖1B，當基底2被放置在傳遞裝置18上時，傳遞裝置18被設置成使得基底2僅在其相對的邊緣或邊緣區域被支撐到傳遞裝置上，換句話說，基底2被放置在傳遞裝置18上使得僅僅基底2的邊緣與傳遞裝置18接觸。然而，應當注意，即使本說明書通常涉及平面基底，該基底也可以是任何其它零件，諸如已經一個或更多個地放置在基底支撐件上的移動電話外殼或類似物。在本說明書中，基底2僅僅指的是基底，或者替代地指的是實際基底和基底支撐件，在制造/改性處理期間該基底被支撐或連接到該基底支撐件上。因此，在圖IA和IB的方案中，大體上平面的基底2可以被放置到傳遞裝置18上，使得僅僅基底支撐件與傳遞裝置18接觸，并且實際基底位于傳遞裝置18之間。圖IB示出傳遞裝置18如何相對于基底 2布置使得傳遞裝置能夠僅在基底2的邊緣從下方支撐基底2。在圖IA的方案中，基底2可以通過閘門裝置14被引入ALD反應器1的低壓室4 中，并且基底2還可以通過傳遞裝置18在低壓室4內被傳遞。在低壓室4內，還設置有反應室，根據圖1A，該反應室包括前板6和支撐結構8。然而，應當注意，在一些實施例中，低壓室可以省略，或者它可以由一些其它對應處理室代替，其它對應處理室諸如高壓室或正常壓力室(NTP :1巴，0°C)。在這里描述的實施例中，處理室被實施為低壓室，但它也可以被其它處理室代替。由前板6和支撐結構8組成的反應室中的堆疊被設置成打開使得前板6 和支撐結構8可相互運動，以便被放置在離開彼此一定距離處并且彼此相對。前板6和支撐結構8設置成可以大體上垂直于它們的板表面運動。在圖IA和IB的方案中，前板6和支撐結構8設置成相對彼此沿大體上豎直的方向可運動，以便打開和關閉反應室。根據圖 IA和1B，通過使前板6和支撐結構8向著彼此相互運動而關閉反應室，使得基底2將被夾在前板6和支撐結構8之間。在反應室的關閉狀態中，前板6和支撐結構8可以放置成彼此相對，或者替代地，它們可以被放置成在相對側上靠著基底2和/或基底支撐件，使得當反應室關閉時基底2或基底支撐件構成反應室的一部分。相應地，通過使前板6和支撐結構8離開彼此相互運動，打開反應室。在本發明中，還應當注意，當基底被稱為裝載在前板和支撐結構之間時，它也包括支撐結構是基底支撐件并且總是跟隨基底的替代方案。在那種情況下，通過將支撐結構和其上的基底傳遞到與前板對齊使得基底在前板和支撐結構之間，執行將基底裝載在前板和支撐結構之間。換句話說，基底不是被插在前板和支撐結構之間，而是當支撐結構、即基底支撐件變得大體上與前板對齊(例如在前板下方)時，基底將保持在前板和支撐結構之間。在圖2中更詳細地描述根據本發明的反應室。在這一點上，反應室的前板6指的是反應室的包括氣體連接件10、12的那個部分，該氣體連接件用來將起始材料、沖洗氣體和類似氣體供給到反應室中，并且可任選地用來將它們從反應室去除。換句話說，根據ALD 方法的原理，通過前板中的氣體連接件10、12執行反應室的氣體交換。在圖2中，氣體可以分別通過入口連接件10被供給并通過出口連接件12被去除。前板6還包括用來將氣體供給到反應室中的供給開口(未示出)和用來從反應室去除氣體的排出開口。在優選方案中，供給開口和排出開口設置成使得前板6的每一個側壁都包括至少一個供給開口和/或排出開口。在那種情況下，當反應室關閉時，所有其側壁參與氣體交換，每一個側壁設置有一個或更多個供給開口和/或排出開口。有利的是，通過以下方法來解決將由反應室的側壁組成的周邊分成一個或更多個供給部分，并且分成一個或更多個排出部分，氣體要從所述供給部分被供給到反應室中，并且氣體要從所述排出部分從反應室被去除。根據圖2，前板6設置成凹入的，以便在反應室內形成反應空間24。前板6是凹入的，前板和放置在其上的基底2或者基底2與基底支撐件一起限定反應空間24，由此，根據圖2，反應空間M形成在前板6和基底2之間。在這種情況下，當反應室處于關閉狀態時，基底2或基底2及其支撐件構成反應室的一部分。反應室還可以被設計尺寸或布置成同時容納兩個或更多個基底 2。在那種情況下，反應室處于打開狀態，兩個或更多個基底2被傳遞到前板6和支撐結構 8之間，此后反應室被關閉，使得這兩個或更多個基底2至少是要被處理的部分保持在如上所述的反應室內。在優選的方案中，反應室被布置成并排容納兩個或更多個基底2。在那種情況中，氣體的供給和去除可以被設置在反應室中，使得供給開口在基底2之間的部位被設置在前板6中，并且排出開口被設置在基底2的邊緣區域附近的包圍基底2的前板6的側壁中。因此，例如在兩個基底并排布置在反應室中的方案中，氣體供給發生在這些并排的基底2之間并且氣體從包圍基底的反應室側壁排出。因此，可以優化反應室的流動動力學。 在該板上也可以存在多個基底。供給和排出連接件被布置在本發明ALD反應器中，從而保證該連接的清潔性和緊密性，而與前板6的運動無關。用來保證連接的緊密性的方案是將完全密封的、金屬的可折疊的管或波紋管安裝在低壓室4的內壁和可移動的上或下板之間。這種類型的可折疊的管被焊接到凸緣或其它對應聯接部件上，該凸緣或其它對應聯接部件通過借助金屬或彈性體的密封或通過直接焊接到適當位置中而進一步連接到低壓室4的壁或連接到前板6。因此，該連接被密封成到處靜止，并且如果應用或低壓區域需要的話，它可以完全由金屬密封件提供。替代地，可折疊的管可以焊接或以其它方式緊密地直接連接到低壓室的壁和/或到前板6，因此不需要單獨的密封件。當前板6以往復的方式在低壓室4內運動時，可折疊的管彈性地延伸或變直并且收縮或皺起。在那種情況下，第一室4內將沒有滑動、摩擦、接觸或由引入引起的其它相對運動，這些運動可能使雜質進入低壓容器內或在低壓容器內產生雜質。根據上述，通過可折疊的管或波紋管實現的低壓容器中的引入或連接實現簡單且有效的方案，其中反應室的前板6設置成相對于低壓室4可運動。可折疊的管在可運動的前板6和/或支撐結構8的運動期間保持緊密性并且與可運動的前板6和/或支撐結構8 的運動無關。通過可折疊的管，可以將氣體引入到低壓容器中并且從低壓容器去除氣體， 此外，電、溫度計和壓力計可以通過這些可折疊的連接件被引入并且直接連接到在低壓室4 內運動的部件。在可折疊的管內，可能盛行標準大氣壓力，由此安裝在其中的線和管以及要應用在低壓室4內的其它構件可以處于標準大氣壓力并且處于環境溫度下，因此它們不需要設置成耐受低壓容器中盛行的低溫或較高溫度。同時，當結合可折疊的管提供伴隨加熱 (trace heating)時，可折疊的連接件也實現氣體連接和引入的伴隨加熱的組合和統一。伴隨加熱在這里指的是以下事實要被引過真空容器的冷的壁的連接件的溫度將例如通過單獨的加熱器被保證，以便避免可能的冷凝。通過可折疊的管，也可以在低壓室4中安裝升降裝置，通過該升降裝置可以提升和降下反應室的前板6和/或支撐結構8。在圖1A、IB和2的方案中，在前板6的角部或在其附近，可以通過可折疊的管提供升降連接，使得在低壓容器內移動前板6的升降裝置的升降元件通過可折疊的管被引入到低壓室4中并且連接到前板6。升降裝置的這些升降元件可以在處于標準大氣壓力的可折疊的管中，由此低壓室4的低壓實際上將前板6向上拉向前板8，并且升降裝置用于向下拉前板6。在這種類型的實施例中，升降裝置可以通過例如主軸馬達和/或球軸承座圈螺桿進行操作。在圖1A、IB和2的實施例中，支撐結構8構成支撐結構，當反應室關閉時，前板6和 /或基底2停靠在該支撐結構上。換句話說，支撐結構8根本不包括任何氣體連接件。因此，在這里描述的實施例中，僅僅面向前板6的基底表面通過ALD方法被改性，因為僅僅面向前板6的基底表面暴露到氣體。在替代方案中，前板6和支撐結構8可以都設置有氣體連接件，使得基底2的兩個表面(或者替代地，背對背放置的兩個基底的要被處理的表面) 可以同時并且以相同方式或借助相同起始材料或者以不同方式并且借助不同起始材料被處理，由此支撐結構8將構成第二前板。在那種情況下，支撐結構8可以類似于前板6。替代地，前板6的氣體連接件10、12可以至少部分地連接在支撐結構8側上或連接到支撐結構8，使得氣體也可從基底2的支撐結構8側傳送且排出，即使支撐結構8不設置有氣體連接件。支撐結構8可以是例如平面狀的或平面的，或者它可以包括支撐柱或類似支撐元件。 換句話說，支撐結構可以是能夠支撐基底或基底支撐件的任何支撐件。前板6和/或支撐結構8可以設置有密封件，通過該密封件，反應室可以在關閉狀態中被密封。例如，該密封件可以是0型環。該密封件可以被放置在前板6中和/或放置在支撐結構8中，使得密封件處于前板6和支撐結構8之間，使它們彼此密封。在那種情況下，密封件可以僅僅被布置在前板6和支撐結構8的一個中。替代地，密封件可以被放置在前板6和/或支撐結構8中，使得它們停靠在基底2或基底支撐件上。當使用高溫時，可以在沒有單獨的密封件的情況下解決反應室的密封。在那種情況下，反應室前板6的和/或支撐結構8的平坦表面被安置在彼此上使得它們彼此接觸，提供密封。而且，在那種情況下， 通過將前板6和/或支撐結構8的至少邊緣部分放置在基底2或基底支撐件上以便提供密封，可以密封反應室。此外，即使上面說明ALD反應器1或其低壓室4包括僅僅一個反應室，也可以為 ALD反應器1的低壓室4設置兩個或更多個反應室。在優選的方案中，這些反應室被連續地布置在低壓室4中，使得基底2可以同時地被弓丨入到每一個反應室中，由此ALD反應器的容量可以增加。替代地，每一個基底可以被連續地引入到這些反應室中，由此在每一個反應室中，以預定的方式并且以預定的起始材料處理基底2。在那種情況下，在一個ALD反應器中，基底2可以連續地經受多種表面生長或改性處理。此外，反應室可以設置有等離子體電極和/或噴射頭或噴射嘴。圖1A、1B和2示出本發明的實施例，其中ALD反應器1被設置成使得它可以被放
10置以形成生產線的一部分，在該生產線中存在用來改性和/或生長基底2的表面的兩個或更多個連續的處理室，并且其中基底2被水平地傳遞過連續的處理室。因此，ALD反應器1 設置有第一間門裝置14，基底2通過該第一間門裝置被弓丨入到低壓室4中，并且設置有第二閘門裝置16，基底2通過該第二閘門裝置從低壓室4被移除。在低壓室中，并且優選地在整個生產線中，基底2沿水平方向被傳遞。在低壓室4內，基底2被傳遞裝置18傳遞，基底 2在該傳遞裝置上傳過，并且在邊緣部分、特別地在與基底2的行進方向平行的邊緣部分基底2被支撐在該傳遞裝置上，如圖2中所示。換句話說，通過傳遞裝置18，基底2可以被水平地傳遞過低壓室4。根據圖IA和1B，在低壓室4內設置有反應室，該反應室由包括氣體連接件10、12 的前板6和支撐結構8組成。在這個實施例中，前板6放置在基底2下方并且支撐結構8 放置在基底2上方，基底可以被夾在該前板6和支撐結構8之間。此外，根據圖1A、IB和2， 前板6布置成豎直運動并且支撐結構8是靜止的，使得反應室可以通過沿箭頭20的方向移動前板6而被打開和關閉。因此，通過使前板6離開支撐結構8運動到圖2中示出的位置而打開反應室，在所述位置中，前板6和支撐結構8豎直地處于離開彼此一定距離處。在如圖2中示出的反應室的這個打開狀態下，前板6在位于傳遞裝置18上的基底2下方，或者在傳遞裝置18限定的上水平面的下方，并且在與基底2的相對邊緣接觸的傳遞裝置18的軌或輥之間。作為靜止結構，支撐結構8又放置在傳遞裝置18和/或位于傳遞裝置18上的基底2上方的預定高度處。在圖1A、1B和2的實施例中，基底2可以通過傳遞裝置18沿水平方向傳遞過第一閘門裝置14并且進一步被傳遞到在打開狀態的反應室的前板6和支撐結構8之間。基底2 進一步停止在前板6和支撐結構8之間的位置中，由此前板6可以向著支撐結構8向上豎直運動，使得在前板6運動時它將基底向上提升離開傳遞裝置18，由此基底2被放置在前板 6上。前板6向上連續運動，直到前板6或基底2被放置在支撐結構8上，由此反應室處于關閉狀態。換句話說，通過前板6的一個線性運動，基底2被提升離開傳遞裝置并且反應室被關閉，使得基底2至少是要被處理的部分被放置在反應室內，如圖IA和IB中示意性地示出的。當反應室關閉時，可以通過ALD方法改性基底2。在通過ALD方法以希望的方式處理基底2之后，通過豎直向下移動前板6打開反應室，直到前板的位置已經恢復到傳遞裝置 18的上表面下方，如圖2中所示，并且基底2的位置已經同時在傳遞裝置18上。此后，基底 2可以通過傳遞裝置18被進一步向前傳遞并且通過第二閘門裝置16離開低壓室4。因此， 基底2到反應室中的裝載和反應室的關閉，并且對應地，反應室的打開和基底2從反應室的去除可以通過一個線性運動被執行，在這個實施例中，垂直于基底2的行進方向執行所述線性運動。反應室也可以設置成使得支撐結構8放置在基底2下方并且前板6放置在基底2 上方，該基底可以放置在該支撐結構8和前板6之間。此外，支撐結構8和前板6也可以都布置成豎直運動，使得位于基底上方的前板6或支撐結構8可以向下降下以便關閉反應室和向上提升以便打開反應室。在那種情況下，如果僅僅基底2上方的前板6或支撐結構8 運動，并且基底下方的前板6或支撐結構8是靜止的，則前板6或支撐結構8必須精確地與傳遞裝置18的上表面在相同水平面上放置在基底2下方。在替代方案中，前板6和支撐結構8都布置成豎直運動，使得反應室可以通過使前板6和支撐結構8向著彼此運動被關閉且通過使它們離開彼此運動被打開。這可以通過兩種方法實現如圖IA和IB中所示，可以通過位于基底2下方的支撐結構8或前板6離開傳遞裝置18向上提升基底，并且位于基底 2上方的支撐結構8或前板6可以同時向下運動，或者首先僅僅基底2上方的支撐結構8或前板6運動，或基底2下方的支撐結構8或前板6可以向上運動使得它放置在基底2的下表面上但不向上提升基底2，并且基底2上方的支撐結構8或前板6向下下降在基底2上以便關閉反應室。在本發明的較簡單的實施例中，反應室包括僅僅一個前板6，該前板放置成使得基底可以在其上方或下方傳遞。放置在基底2上方的前板6可以下降在基底2的上表面上以便關閉反應室，并且以離開基底2的上表面一定距離向上提升以便打開反應室。替代地，前板6放置在基底2下方，并且它可以被向上提升到基底2的下表面上以便關閉反應室，并且它可以以離開基底的下表面一定距離向下降下以便打開反應室。在另一實施例中，兩個平面基底2，第一和第二基底，被重疊使得它們的表面彼此靠著。因此，兩個基底可以被一起傳遞和處理。在這個實施例中，ALD反應器包括兩個前板 6，第一和第二前板，該第一和第二前板以離開彼此一定距離分別放置在第一和第二基底2 的側部上。重疊的第一和第二基底2被傳遞到前板6之間，并且前板6運動到基底上以便形成反應室。在那種情況下，第一基底2與第一前板6形成第一反應室，以便處理第一基底 2的面向第一前板6的表面，并且第二基底2與第二前板6形成第二反應室，以便處理第二基底2的面向第二前板6的表面。在這個實施例中，也可以向著第一或第二前板一起移動第一和第二基底，由此僅僅第二前板需要運動。這可以被實施，例如使得通過第二前板移動第一和第二基底，使得第一靜止前板將放置在第一基底上方。在又一實施例中，兩個基底，第一和第二基底，可以以離開彼此一定距離疊置或并排地被傳遞。ALD反應器還可包括具有第一側和第二側的一個前板。第一和第二基底分別在前板的第一側和第二側前方同時運動，例如，第一基底在前板的第一側的前方或上方，并且第二基底在前板的第二側前方或下方。為了關閉反應室，第一和第二基底運動使得前板的第一和第二側將分別放置在第一和第二基底上。替代地，為了關閉反應室，可以移動基底中的僅僅一個和前板。前板可以布置成使得它形成兩個分離的反應室，一個反應室具有第一基底并且另一個反應室具有第二基底。前板也可以設置成使得它形成僅僅一個反應室， 由此第一和第二基底都與前板一起構成反應室的一部分。參考上面，可以通過利用所描述的構造替代方案實現反應室，使得每一個方案具有適當的反應室。此外，應當注意，前板6和支撐結構8的運動方向不需要是豎直的，而是它們也可以沿一些其它方向運動，諸如沿水平方向運動。同樣，基底在處理室內的運動方向可以是不同于水平方向的一些方向。例如，基底可以豎直地運動并且前板和/或支撐結構可以水平地運動。在那種情況下，基底不具有上表面和下表面，而是具有第一表面和第二表面，該第一表面和第二表面對應于上述實施例的上表面和下表面。在那種情況下，在反應室的打開狀態下在前板的前方或旁邊傳遞基底，在該打開狀態中前板處于離開基底一定距離處，并且前板和基底相對彼此運動以便打開和關閉反應室。然而，在優選情況下，平面狀基底沿平行于其表面的方向在處理室中被傳遞，并且前板和/或支撐結構沿垂直于這個基底表面的方向被傳遞，由此基底當裝載在反應室中時，通過垂直于基底表面的前板或支撐結構，也被提升和降下，或以其它方式運動。
12
對于本領域技術人員來說顯然的是，隨著技術進步，本發明的基本思想可以以多種方式被實施。因此，本發明及其實施例不限于上述例子，而是它們可以在權利要求的范圍內變化。
權利要求
1.一種用來處理一個或更多個基底( 的ALD反應器(1)，所述ALD反應器(1)包括至少一個反應室，所述至少一個反應室包括前板(6)，所述前板具有氣體連接件(10)，所述氣體連接件用來將起始材料、沖洗氣體和類似的氣體供給到所述反應室內，其特征在于，所述前板(6)被布置成用來放置在所述基底( 上以便關閉所述反應室，和放置在離開所述基底一定距離處以便打開所述反應室，使得當所述反應室處于打開狀態時，所述基底(2)被布置成用來被裝載在所述前板(6)的下方、上方或前方，并且使得在所述反應室的關閉狀態中所述基底( 能通過ALD方法處理，其中在所述打開狀態中，所述前板(6)在離開所述基底( 一定距離處，在所述關閉狀態中，所述前板(6)放置在所述基底( 上。
2.如權利要求1所述的ALD反應器(1)，其特征在于，所述前板(6)被布置用來大體上沿豎直方向運動。
3.如權利要求1或2所述的ALD反應器(1)，其特征在于，所述前板(6)被布置用來從所述基底( 上方降下在所述基底( 的上表面上，以便關閉所述反應室，或者所述前板 (6)被布置用來從所述基底( 下方被提升到靠著所述基底( 的下表面，以便關閉所述反應室。
4.如前述權利要求1到3的任何一項所述的ALD反應器(1)，其特征在于，所述基底 (2)被布置用來大體上沿豎直方向運動。
5.如權利要求4所述的ALD反應器(1)，其特征在于，所述基底(2)被布置用來被向上提升，以便將所述前板(6)放置在所述基底O)的上表面上。
6.如前述權利要求1到5的任何一項所述的ALD反應器(1)，其特征在于，所述前板(6) 還包括氣體連接件(12)，所述氣體連接件用來從所述反應室移除起始材料、沖洗氣體和類似氣體。
7.如前述權利要求1到6的任何一項所述的ALD反應器(1)，其特征在于，所述ALD反應器還包括支撐結構(8)，所述支撐結構放置在所述基底(2)的相對于所述前板(6)的相對側上。
8.如權利要求7所述的ALD反應器(1)，其特征在于，所述支撐結構(8)被布置用來當所述反應室處于關閉狀態時放置在所述基底O)、基底支撐件或所述前板(6)的表面上。
9.如前述權利要求1到8的任何一項所述的ALD反應器(1)，其特征在于，所述支撐結構(8)被布置用來大體上豎直地運動，以便打開和關閉所述反應室。
10.如權利要求9所述的ALD反應器(1)，其特征在于，所述支撐結構(8)被布置用來向上提升所述基底( ，以便將位于所述基底( 上方的所述前板(6)放置到所述基底(2) 的上表面上。
11.如權利要求1或8所述的ALD反應器(1)，其特征在于，所述前板(6)或所述支撐結構(8)被固定并且布置成靜止。
12.如前述權利要求8到11的任何一項所述的ALD反應器(1)，其特征在于，當所述反應室處于關閉狀態時，所述支撐結構(8)形成第二前板，以便處理所述基底(2)的相對的表
13.如前述權利要求8到11的任何一項所述的ALD反應器(1)，其特征在于，所述基底支撐件構成所述反應室的支撐結構(8)。
14.如前述權利要求1到13的任何一項所述的ALD反應器(1)，其特征在于，當所述反應室處于關閉狀態時，所述基底( 和/或所述基底被支撐到其上的基底支撐件構成所述反應室的一部分。
15.如權利要求14所述的ALD反應器(1)，其特征在于，所述前板(6)是凹入的，使得在所述反應室的關閉狀態中，所述前板(6)或所述基底( 和放置在所述基底O)的上表面或下表面上的所述基底支撐件與所述前板(6) —起在所述前板(6)和所述基底( 之間構成反應空間04)。
16.如前述權利要求1到15的任何一項所述的ALD反應器(1)，其特征在于，所述反應室被布置用來同時容納兩個或更多個基底O)。
17.如前述權利要求1到16的任何一項所述的ALD反應器(1)，其特征在于，所述反應室包括第一前板和第二前板(6)，所述第一前板和第二前板在所述反應室的打開狀態中處于離開彼此一定距離處，用來在所述反應室的關閉狀態中處理所述基底O)的相對的表面，其中所述第一前板和第二前板(6)分別放置在所述基底( 的相對的表面上，或者第一前板和第二前板用來在所述反應室的關閉狀態中處理互相疊置或面對面放置的第一基底或第二基底的表面，其中分別的，第一前板(6)放置在第一基底( 上或者第二前板(6)放置在第二基底( 上。
18.如前述權利要求1到16的任何一項所述的ALD反應器(1)，其特征在于，所述反應室包括具有第一側和第二側的一個前板(6)，當所述反應室處于關閉狀態時，所述前板(6) 的第一側被布置成放置在第一基底(2)上，并且所述第二側被放置在第二基底上。
19.如權利要求18所述的ALD反應器(1)，其特征在于，所述前板(6)被布置與所述第一基底( 形成一個反應室，并且與所述第二基底( 形成一個反應室，或者所述前板被布置與第一基底和第二基底( 形成一個共同的反應室。
20.如前述權利要求1到19的任何一項所述ALD反應器(1)，其特征在于，所述前板 (6)和/或所述支撐結構(8)和/或大體上平面的基底( 設置有密封件，所述密封件用來密封處于關閉狀態的反應室。
21.如前述權利要求1到20的任何一項所述的ALD反應器(1)，其特征在于，所述ALD 反應器(1)還包括處理室G)，在所述處理室中設置有一個或更多個反應室。
22.如前述權利要求1到21的任何一項所述的ALD反應器(1)，其特征在于，包括傳遞裝置(18)，所述傳遞裝置用來將所述基底( 裝載在所述前板(6)的下方或上方。
23.如權利要求22所述的ALD反應器(1)，其特征在于，布置在所述基底(2)下方的所述前板(6)或所述支撐結構(8)被布置用來在反應室關閉時將所述基底O)向上提升離開所述傳遞裝置(18)，并且用來在反應室打開時將所述基底(2)降下到所述傳遞裝置(18) 上。
24.如前述權利要求21到23的任何一項所述的ALD反應器(1)，其特征在于，包括一個或更多個可折疊的和/或波紋式的管，所述管被緊密地布置在所述處理室的壁和在處理室內部可運動的所述前板(6)和/或所述支撐結構(8)之間，以便提供到所述處理室 (4)中的引入件。
25.如權利要求M所述的ALD反應器(1)，其特征在于，所述可折疊的和/或波紋式的管直接地或通過凸緣緊密連接到所述處理室的壁，并且所述管在低壓室內緊密連接到相對于所述處理室(4)可運動的所述前板(6)和/或所述支撐結構(8)。
26.—種生產線，所述生產線包括用來改性和/或生長基底( 的表面的兩個或更多個連續的處理室，并且其中所述基底( 被傳遞過連續的處理室，其特征在于，所述生產線的處理室中的至少一個被設置成根據權利要求1到22的任何一項的ALD反應器(1)。
27.一種用來將一個或更多個基底(2)裝載到ALD反應器(1)的反應室中并且用來從那里移除的方法，其特征在于，在所述方法中，所述基底( 通過以下步驟被裝載到反應室中以便處理，即通過將所述基底( 傳遞到所述反應室的前板(6)的上方、下方或前方，所述前板(6) 包括氣體連接件(10)，所述氣體連接件用來將起始材料、沖洗氣體和類似氣體供給到所述反應室中；并且通過使所述反應室的前板(6)和所述基底( 相對彼此運動，以便將所述前板(6)放置在所述基底( 上，從而將所述反應室關閉到關閉狀態；并且在所述方法中，通過以下步驟從所述反應室移除所述基底O)，即通過使所述反應室的前板(6)和所述基底相對彼此運動，以便將所述前板(6)和所述基底(2)放置在離開彼此一定距離處，以便將所述反應室打開到打開狀態；并且通過在打開狀態將所述基底傳遞離開所述反應室的前板(6)的上方、下方或前方。
28.如權利要求27所述的方法，其特征在于，所述前板(6)或所述基底相對彼此大體上沿豎直方向運動，以便打開和關閉所述反應室。
29.如權利要求27或觀所述的方法，其特征在于，所述前板(6)向下運動到所述基底 (2)的上表面上，以便將所述反應室關閉到關閉狀態。
30.如權利要求27或觀所述的方法，其特征在于，所述前板(6)向上運動到所述基底 (2)的下表面上，以便將所述反應室關閉到關閉狀態。
31.如前述權利要求27到四的任何一項所述的方法，其特征在于，將所述基底(2)向上提升，以便將所述前板(6)放置在所述基底( 的上表面上，從而將所述反應室關閉到關閉狀態。
32.如前述權利要求27到四的任何一項所述的方法，其特征在于，當所述反應室處于關閉狀態時，用支撐結構(8)支撐所述基底O)，所述支撐結構被放置在所述基底O)的相對于所述前板(6)的相對側上。
33.如權利要求32所述的方法，其特征在于，通過所述支撐結構(8)向上提升所述基底O)，以便將所述前板(6)放置在所述基底的上表面上，從而將所述反應室關閉到關閉狀態。
34.如權利要求32所述的方法，其特征在于，通過將所述前板(6)放置在所述基底(2) 的下表面上而借助所述前板(6)向上提升所述基底，以便又將所述基底O)、所述基底支撐件或所述前板(6)的上表面放置在所述支撐結構(8)上。
35.如權利要求32或34所述的方法，其特征在于，通過將所述支撐結構(8)向下降下在所述基底O)、所述基底支撐件或所述前板(6)的上表面上，以便將所述反應室關閉到關閉狀態。
36.如前述權利要求27到35的任何一項所述的方法，其特征在于，起始材料、沖洗氣體和類似氣體通過所述前板(6)被引入到所述反應室的反應空間中并且從那里被移除。
37.如前述權利要求27到36的任何一項所述的方法，其特征在于，起始材料、沖洗氣體和類似氣體通過所述支撐結構(8)被引入到所述反應室的反應空間中并且從那里被移除， 所述支撐結構構成第二前板。
38.如前述權利要求27到36的任何一項所述的方法，其特征在于，同時地將兩個或更多個基底裝載到所述反應室中。
39.如前述權利要求27到38的任何一項所述的方法，其特征在于，通過傳遞裝置(18) 將所述基底( 傳遞到所述前板(6)的下方或上方。
40.如前述權利要求27到39的任何一項所述的方法，其特征在于，在所述反應室關閉時，通過布置在基底下方的所述前板(6)或所述支撐結構(8)將所述基底O)向上提升離開所述傳遞裝置(18)，并且在所述反應室打開時，將所述基底O)降下到所述傳遞裝置 (18)上。
41.如前述權利要求27到40的任何一項所述的方法，其特征在于，在一生產線中實施所述方法，所述生產線包括用來改性和/或生長所述基底O)的表面的兩個或更多個連續的處理室，并且其中所述基底( 沿水平方向被傳遞過連續的處理室。
全文摘要
本發明涉及用來處理一個或更多個基底(2)的ALD反應器(1)，該ALD反應器(1)包括至少一個反應室，該至少一個反應室包括前板(6)，該前板包括氣體連接件(10)，該氣體連接件用來將起始材料、沖洗氣體和類似的氣體引入到反應室中。根據本發明，前板(6)被布置成用來放置在基底(2)上以便關閉反應室和放置在離開基底表面一定距離處以便打開反應室，使得當反應室處于打開狀態時基底(2)被布置成用來裝載在前板(6)的下方、上方或前方，并且使得在反應室的關閉狀態中基底(2)通過ALD方法可處理，其中在該打開狀態中前板(6)處于離開基底(2)一定距離處，在該關閉狀態中前板放置到基底(2)上。本發明還涉及用來處理基底(2)的生產線并且涉及用來將基底裝載到ALD反應器中的方法。
文檔編號C23C16/458GK102308021SQ201080006801
公開日2012年1月4日 申請日期2010年2月8日 優先權日2009年2月9日
發明者J·斯卡普, P·索伊尼寧 申請人:Beneq有限公司