專利名稱：研磨機的制作方法
技術領域：
本發明涉及研磨機機械領域，具體涉及一種研磨機。
背景技術：
傳統研磨機的種類很多，我們主要介紹用于研磨玻璃、陶瓷等的大型自動數控研磨機，該研磨機一般上面是研磨機構，下面設有傳動機構，傳統研磨機用的是擺線針輪，功率小、穩定性差。研磨機的支撐中軸軸套外面設的是自潤滑軸承，自潤滑軸承剛性差、不耐用。傳動機構外面箱體是采用封閉式的，不易觀測傳動機構的工作狀況，也不便于傳動機構的拆卸和裝載。研磨機的研磨盤容易損壞。
發明內容
發明目的本發明為了解決現有技術的不足，提供了一種穩定性好、研磨精確度高、使用壽命長的研磨機。技術方案一種研磨機，包括研磨機構、與所述研磨機構相連的傳動機構，所述傳動機構下面連有驅動機構，所述研磨機構包括上拋光片和下拋光片，所述上拋光片下面套有上研磨盤，所述下拋光片上面套有下研磨盤，所述上研磨盤和下研磨盤上均刻有印痕，上研磨盤的印痕為5-10mm深，下研磨盤的印痕為4-10mm深，所述上研磨盤和下研磨盤上的印痕均組成方格，所述上研磨盤上的方格大小為10X10mm-20X20mm，所述下研磨盤上的方格大小為15 X 15mm-30 X 30mm，所述傳動機構包括支撐所述下拋光片的支撐桿和安裝在所述支撐桿周圍且與所述驅動機構相連的運行裝置。作為優化，所述驅動機構與所述傳動機構之間連有減速器。作為優化，所述驅動機構和傳動機構外面設有箱體。作為優化，所述支撐軸軸套外面設有滾針軸承。作為優化，所述箱體的側面設有門，所述門以所述箱體的側面底邊為下邊框，所述箱體的側面與所述箱體之間設有拆分連接裝置。作為優化，所述拋光機的驅動機構與PLC集中控制箱相連，所述PLC集中控制箱設有PCL集中控制系統。作為優化，所述上拋光片上面設有氣缸。作為優化，所述PLC集中控制箱內裝有比例閥與所述PCL集中控制系統相連，所述比例閥還與所述氣缸相連。作為優化，所述上拋光片分成兩層分別為上層拋光片和下層拋光片，所述上層拋光片和下層拋光片中間對應設有若干相相匹配的通孔，所述通孔內裝有固定裝置，所述上層拋光片上還設有以所述上層拋光片的中心為對稱點對稱定位銷。作為優化，所述支撐軸軸套下方設有一組向心軸承，支撐軸軸套上方設有兩組軸承，分別為套在支撐軸軸套上方的雙列滾珠軸承和套在所述雙列滾珠軸承下方的平面軸承。
本發明研磨機工作的時候上拋光片帶動上研磨盤的旋轉速度為每分鐘小于60 圈，對應下拋光片帶動下研磨盤的旋轉速度為每分鐘小于50圈，上研磨盤比下研磨盤的旋轉速度大于10圈每分鐘。研磨盤的厚度可以根據需要制作，一般在35mm-45mm之間。有益效果本發明研磨機使用壽命長、工作效率高、拋光精確度高。在與驅動裝置相連的傳動裝置上裝有減速機，使得該傳動機構功率大、穩定性好、更加耐用，通過在研磨盤上課印痕的方法來研磨，可以增加研磨盤的厚度，使研磨盤不易損壞。
圖1為本發明研磨機主視圖2為本發明研磨機的上研磨盤結構示意圖； 圖3為本發明研磨機的下研磨盤結構示意圖； 圖4為本發明研磨機大箱體一個側面結構示意圖； 圖5為本發明研磨盤的支撐軸局部放大結構示意圖； 圖6為本發明研磨盤的上拋光片結構示意圖。
具體實施例方式如圖所示，一種研磨機，包括研磨機構1、與所述研磨機構1相連的傳動機構2，所述傳動機構2下面連有驅動機構3，所述研磨機構1包括上拋光片和下拋光片4，所述上拋光片下面套有上研磨盤5，所述下拋光片4上面套有下研磨盤6，所述上研磨盤5和下研磨盤6上均刻有印痕7，上研磨盤5的印痕為5-10mm深，下研磨盤6的印痕為4-10mm 深，所述上研磨盤5和下研磨盤6上的印痕均組成方格，所述上研磨盤5上的方格大小為 10 X 10mm-20 X 20mm,所述下研磨盤6上的方格大小為15 X 15mm-30 X 30mm,所述傳動機構2 包括支撐所述下拋光片4的支撐桿8和安裝在所述支撐桿8周圍且與所述驅動機構3相連的運行裝置，所述驅動機構3與所述傳動機構2之間連有減速器9，所述驅動機構3和傳動機構2外面設有箱體10，所述支撐軸8軸套外面設有滾針軸承，所述箱體10的側面設有門 11，所述門11以所述箱體10的側面底邊為下邊框，所述箱體10的側面與所述箱體10之間設有拆分連接裝置12，所述拋光機的驅動機構3與PLC集中控制箱相連，所述PLC集中控制箱設有PCL集中控制系統，所述上拋光片上面設有氣缸，所述PLC集中控制箱內裝有比例閥與所述PCL集中控制系統相連，所述比例閥還與所述氣缸相連，所述上拋光片分成兩層分別為上層拋光片13和下層拋光片14，所述上層拋光片13和下層拋光片14中間對應設有若干相相匹配的通孔15，所述通孔15內裝有固定裝置，所述上層拋光片13上還設有以所述上層拋光片13的中心為對稱點對稱定位銷16，所述支撐軸8軸套下方設有一組向心軸承 17，支撐軸8軸套上方設有兩組軸承，分別為套在支撐軸軸套上方的雙列滾珠軸承18和套在所述雙列滾珠軸承18下方的平面軸承19。
權利要求
1.一種研磨機，其特征在于包括研磨機構(1)、與所述研磨機構(1)相連的傳動機構 (2)，所述傳動機構(2)下面連有驅動機構(3)，所述研磨機構(1)包括上拋光片和下拋光片 (4)，所述上拋光片下面套有上研磨盤(5)，所述下拋光片(4)上面套有下研磨盤(6)，所述上研磨盤(5)和下研磨盤(6)上軍刻有印痕(7)，上研磨盤(5)的印痕為5-10mm深，下研磨盤(5)的印痕為4-10mm深，所述上研磨盤(5)和下研磨盤(6)上的印痕均組成方格(6)， 所述上研磨盤(5 )上的方格大小為10 X 10mm-20 X 20mm,所述下研磨盤(6 )上的方格大小為 15X15mm-30X30mm,所述傳動機構(2)包括支撐所述下拋光片(4)的支撐桿(8)和安裝在所述支撐桿(8 )周圍且與所述驅動機構(3 )相連的運行裝置。
2.根據權利要求1所述研磨機，其特征在于所述驅動機構(3)與所述傳動機構(2)之間連有減速器(9)。
3.根據權利要求1所述研磨機，其特征在于所述驅動機構(3)和傳動機構(2)外面設有箱體(10)。
4.根據權利要求1所述研磨機，其特征在于所述支撐軸(8)軸套外面設有滾針軸承。
5.根據權利要求3所述研磨機，其特征在于所述箱體(10)的側面設有門(11)，所述門(11)以所述箱體(10)的側面底邊為下邊框，所述箱體(10)的側面與所述箱體(10)之間設有拆分連接裝置(12)。
6.根據權利要求1所述研磨機，其特征在于所述拋光機的驅動機構(3)與PLC集中控制箱相連，所述PLC集中控制箱設有PCL集中控制系統。
7.根據權利要求1所述研磨機，其特征在于所述上拋光片上面設有氣缸。
8.根據權利要求6或7所述的一種大型拋光機，其特征在于所述PLC集中控制箱內裝有比例閥與所述PCL集中控制系統相連，所述比例閥還與所述氣缸相連。
9.根據權利要求1所述研磨機，其特征在于所述上拋光片分成兩層分別為上層拋光片(13)和下層拋光片(14)，所述上層拋光片(13)和下層拋光片(14)中間對應設有若干相相匹配的通孔(15)，所述通孔(15)內裝有固定裝置，所述上層拋光片(13)上還設有以所述上層拋光片(13)的中心為對稱點對稱定位銷(16)。
10.根據權利要求1所述研磨機，其特征在于所述支撐軸(8)軸套下方設有一組向心軸承(17)，支撐軸(8)軸套上方設有兩組軸承，分別為套在支撐軸軸套上方的雙列滾珠軸承(18)和套在所述雙列滾珠軸承(18)下方的平面軸承(19)。
全文摘要
本發明公開了一種研磨機，包括研磨機構、與所述研磨機構相連的傳動機構，所述傳動機構下面連有驅動機構，所述研磨機構包括上拋光片和下拋光片，所述上拋光片下面套有上研磨盤，所述下拋光片上面套有下研磨盤，所述上研磨盤和下研磨盤上均刻有印痕，所述上研磨盤和下研磨盤上的印痕均組成方格，所述傳動機構包括支撐所述下拋光片的支撐桿和安裝在所述支撐桿周圍且與所述驅動機構相連的運行裝置。本發明研磨機使用壽命長、工作效率高、拋光精確度高。
文檔編號B24B37/11GK102398206SQ20111037130
公開日2012年4月4日 申請日期2011年11月21日 優先權日2011年11月21日
發明者曹錫明, 胡杰, 黃云飛 申請人:南通瑞爾實業有限公司