專利名稱：立式真空鍍膜機的高溫基板傳輸水冷裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種立式真空鍍膜機的裝置，尤其涉及一種立式真空鍍膜機的高溫基板傳輸水冷裝置。
背景技術：
現有立式真空鍍膜機如圖6所示，是在腔體70內的底部以及頂部分別設有一沿左、右方向延伸的驅動構造71以及一導引構造72，又在腔體70的前面以及內部的后側各設有一濺射源73以及一加熱器74，并將玻璃載具75設置在驅動構造71上而可沿左、右方向行進，當玻璃載具75行進時頂部受導引構造72的導引而能進行一直線的運動。前述現有的導引構造72是在腔體70頂部的底面結合多個分別朝下垂直延伸的基板支架桿721，在多數個基板支架桿721的底端結合一基板722，在基板722底面以左、右間隔的形態結合多對限位滾輪723，各對限位滾輪723分設于前、后兩側，并且各以內側抵靠在玻璃載具75頂緣的前面與后面，作為傳輸玻璃載具75時的導正以及上方的固定手段。但因制程上的需求，鍍膜過程中需要以加熱器74將腔體70內的溫度加溫至300°C 至500°C，內部的高溫容易造成導引構造72的熱變形，使各對限位滾輪723的位置偏移，造成傳輸玻璃載具75時的不順情況甚至卡住玻璃載具75不動，影響到鍍膜作業的進行。因此，現有的立式真空鍍膜機的導引構造缺乏冷卻的設計，因此在加熱后容易產生熱變形，進而影響傳輸玻璃載具的流暢。
實用新型內容本實用新型的目的是提供一種立式真空鍍膜機的高溫基板傳輸水冷裝置，在導引構造設有水冷管，以水冷管將導引構造熱量帶走而達到避免熱變形的功效。為達到上述目的，本實用新型提供一種立式真空鍍膜機的高溫基板傳輸水冷裝置，包括一腔體，為豎直的殼體并具有前、后面以及左、右兩側，在該腔體內部以貫穿左、右兩側的形態穿設一濺鍍空間；以及一水冷導引構造，設置在該濺鍍空間內的頂部，在該腔體頂部的底面以左、右間隔的形態結合多個分別朝下垂直延伸的基板支架桿，在多數個基板支架桿的底端結合一基板，該基板為沿左、右方向延伸的長板體，在該基板的頂面結合一水冷管，在該基板的底面結合多個朝下凸伸的滾輪座，在各滾輪座底部的周面以可旋轉的形態套設一滾輪。進一步，本實用新型在所述基板的前、后兩側緣分別形成一朝上彎曲延伸的立板部，在前、后各立板部的內面與該基板的頂面之間分別形成一弧形且沿左、右方向延伸的弧曲面；所述水冷管為U形的管體且沿左、右方向延伸，該水冷管前、后兩側的外面貼設抵靠在兩弧曲面。更進一步，本實用新型所述各個滾輪座是以左、右間隔的形態結合在所述基板底面的中間。
3[0012]本實用新型是設置在腔體內，以各個滾輪限制并導引玻璃載具的行進方向為一直線，在水冷導引構造的基板上增設水冷管，通過水冷管引進外部的冷卻水進入腔體內循環， 將水冷導引構造上的熱能帶走。本實用新型的有益效果在于，由于水冷管能冷卻水冷導引構造的各基板支架桿、 基板以及滾輪座的溫度，因此使水冷導引構造的各部分皆能保持一定的溫度，防止構造產生熱變形而影響到傳輸的穩定性，因此能保持輸送的玻璃載具所固定的玻璃機板鍍膜的均勻性。
圖1是本實用新型較佳實施例的立體圖。圖2是本實用新型較佳實施例的分解圖。圖3是本實用新型較佳實施例的剖面圖。圖4是本實用新型較佳實施例的側視圖。圖5是本實用新型較佳實施例放大的剖面圖。圖6是現有立式真空鍍膜機的示意圖。元件符號說明10……腔體12......開口30......驅動構造311……輸送輪41……加熱器支架51……基板支架桿521……立板部53……滾輪座55......水冷管61……承載外框70……腔體72……導引構造722......基板73……濺射源75……玻璃載具
具體實施方式
一種立式真空鍍膜機的高溫基板傳輸水冷裝置，請參看圖1至圖5的較佳實施例， 為本實用新型裝設在立式真空鍍膜機的使用形態，包括一腔體10，為豎直的矩形殼體并具有前、后面以及左、右兩側，在腔體10內部以貫穿左、右兩側的形態穿設一濺鍍空間11，為豎直且沿左、右方向延伸的矩形孔洞，對應濺鍍空間11的左、右兩端，在腔體10相反位置的左、右兩側面分別形成一矩形的開口 12。一濺射源20，結合在腔體10的前面。
11……濺鍍空間 20……濺射源 31……輸送輪支架 40……加熱器 50……水冷導引構造 52……基板 522……弧曲面 54……滾輪 60……玻璃載具 62……導引溝 71……驅動構造 721……基板支架桿 723……限位滾輪 74……加熱器[0039]一驅動構造30，設置在濺鍍空間11內的底部，并在腔體10底部的頂面結合一沿左、右方向延伸的輸送輪支架31，在輸送輪支架31以左、右間隔的形態結合多個輸送輪 311。一加熱器40，為豎直設置的板形加熱器并設在濺鍍空間11內的后側，在輸送輪支架31結合一朝后延伸并依托加熱器40的加熱器支架41。一水冷導引構造50，設置在濺鍍空間11內的頂部，并且在腔體10頂部的底面以左、右間隔的形態結合多個分別朝下垂直延伸的基板支架桿51，在多數個基板支架桿51的底端結合一基板52，為沿左、右方向延伸的長板體，并且在前、后兩側緣分別形成一朝上彎曲延伸的立板部521，在前、后各立板部521部的內面與基板52底部的頂面之間分別形成一弧形且沿左、右方向延伸的弧曲面522，在基板52底面的中間以左、右間隔的形態結合多個分別朝下凸伸的滾輪座53，各滾輪座53為圓形的豎直柱體，并且各滾輪座53底部的周面以可旋轉的形態套設一滾輪54，又在基板52的頂面貼設有一 U形且沿左、右方向延伸的水冷管55，以水冷管55前、后兩側的外面貼設抵靠在兩弧曲面522，以緊密的接觸達到較佳的散熱傳輸效果。一玻璃載具60，設有一承載外框61，為矩形且豎直設置的框體，在玻璃載具60的內側可定位承載需要鍍膜的玻璃基板，承載外框61以底面置放在輸送輪支架31的各個輸送輪311上，在承載外框61的頂部凹設一沿左、右方向延伸且貫穿承載外框61左、右兩側的導引溝62，以導引溝62容納各個水冷導引構造50的滾輪M并受各滾輪M的導引。本實用新型如前述較佳實施例，是在水冷導引構造50的底部設有一直線成排的滾輪M以外，如同現有技術的設置方式，也可將滾輪M設為前、后成對且沿左、右方向間隔設置多對的形態，由于本實用新型的構造特征主要在于水冷管55的冷卻作用，故導引作用的滾輪M設置方式在此不加以限制。本實用新型是設置在腔體10內，在水冷導引構造50的基板52上增設水冷管55， 通過水冷管55引進外部的冷卻水進入腔體10內循環，將水冷導引構造50上的熱能帶走， 使水冷導引構造50的各基板支架桿51、基板52以及滾輪座53皆能保持一定的溫度，防止構造熱變形而影響到傳輸的穩定性，因此能保持輸送的玻璃載具60所固定的玻璃機板鍍膜的均勻性。
權利要求1.一種立式真空鍍膜機的高溫基板傳輸水冷裝置，其特征在于，包括一腔體，為豎直的殼體并具有前、后面以及左、右兩側，在該腔體內部以貫穿左、右兩側的形態穿設一濺鍍空間；以及一水冷導引構造，設置在該濺鍍空間內的頂部，在該腔體頂部的底面以左、右間隔的形態結合多個分別朝下垂直延伸的基板支架桿，在多數個基板支架桿的底端結合一基板，該基板為沿左、右方向延伸的長板體，在該基板的頂面結合一水冷管，在該基板的底面結合多個朝下凸伸的滾輪座，在各滾輪座底部的周面以可旋轉的形態套設一滾輪。
2.根據權利要求1所述的立式真空鍍膜機的高溫基板傳輸水冷裝置，其特征在于，在所述基板的前、后兩側緣分別形成一朝上彎曲延伸的立板部，在前、后各立板部的內面與該基板的頂面之間分別形成一弧形且沿左、右方向延伸的弧曲面；所述水冷管為U形的管體且沿左、右方向延伸，該水冷管前、后兩側的外面貼設抵靠在兩弧曲面。
3.根據權利要求1或2所述的立式真空鍍膜機的高溫基板傳輸水冷裝置，其特征在于， 所述各個滾輪座是以左、右間隔的形態結合在所述基板底面的中間。
專利摘要一種立式真空鍍膜機的高溫基板傳輸水冷裝置，包括一腔體，為豎直的殼體并具有前、后面以及左、右兩側，在該腔體內部以貫穿左、右兩側的形態穿設一濺鍍空間；在腔體內的頂部設有水冷導引構造，其在腔體頂部的底面以左、右間隔的形態結合多個分別朝下垂直延伸的基板支架桿，在各基板支架桿底端結合一基板，該基板為沿左、右方向延伸的長板體，在基板頂面結合水冷管，在基板底部結合多個朝下凸伸的滾輪座，在各滾輪座底部的周面以可旋轉的形態套設一導引作用的滾輪，以水冷管引進外部的冷卻水進入腔體內，將水冷導引構造的熱能帶走，使水冷導引構造上的溫度保持一定，防止熱變形影響滾輪傳輸的穩定性，因此能保持鍍膜的均勻性。
文檔編號C23C14/34GK201990722SQ20112005656
公開日2011年9月28日 申請日期2011年3月4日 優先權日2011年3月4日
發明者蔡明展, 賴青華, 邱敬凱, 鄭耿旻, 黃泰源 申請人:友威科技股份有限公司