單點線性蒸發源系統的制作方法
【專利摘要】本發明提供了一種單點線性蒸發源系統，包括本體、蒸發器和兩塊導向板。本體與基板相隔一定距離設置，本體包括長條形腔室，該本體的朝向基板的一面設有多個連通腔室的噴嘴，用于向基板噴射蒸鍍氣體。蒸發器具有開口部，該開口部連通于腔室，該蒸發器用于蒸發放置于其中的蒸鍍材料。兩塊導向板傾斜設置于腔室內兩端部，導向板的周側與本體密封連接，并且兩塊導向板之間的距離在靠近蒸發器的一端小于靠近基板的一端。本發明能有效改善本體腔室內蒸氣壓力平衡性，并由此可提高蒸鍍到基板上薄膜的均勻度。
【專利說明】單點線性蒸發源系統
【技術領域】
[0001] 本發明涉及一種蒸發源系統，特別是一種單點線性蒸發源系統。
【背景技術】
[0002] 目前有機發光二極管（0LED)組件制作上仍以熱蒸鍍為主，而不論是蒸鍍源制作 商或是用戶都致力于蒸發源性能的提升，希望提高材料利用率，降低材料成本，并提升0LED 組件的性能，例如蒸鍍薄膜厚度均勻度等。
[0003] 現有的用于熱蒸鍍工藝的蒸發源種類主要包括點蒸發源系統、集群式線蒸發源系 統、單點線性蒸發源系統和面蒸發源系統。其中點蒸發源系統包括一個放置蒸鍍材料的坩 堝，基板設于坩堝上方。使用該點蒸發源系統蒸鍍薄膜時，材料利用率低，一般不足10% ;薄 膜均勻度差，一般均勻度小于10%。其中膜均勻度計算公式：(最大膜厚-最小膜厚)/(最大 膜厚+最小膜厚)。集群式線蒸發源系統包括至少兩個平行排列的長槽形坩堝，不同材料分 別平鋪于各長槽形坩堝的底部，使用該集群式線蒸發源系統蒸鍍薄膜，雖然膜均勻度好(小 于5%)，但材料利用率低(僅為10%-20%)。面蒸發源系統包括面積與蒸鍍目標面積相同或更 大的本體蒸鍍薄膜。使用該面蒸發源系統蒸鍍薄膜，材料利用率好(大于40%)，但薄膜均勻 度不穩定(小于10%)。
[0004] 如圖1所示，傳統的單點線型蒸發源包括長條形本體10,本體10內具有腔室，本體 10頂部設有若干噴嘴12,本體10底部中央位置連通坩堝20。當向一基板100蒸鍍薄膜時， 坩堝20被加熱裝置（圖中未示出）加熱，坩堝20內的蒸鍍材料受熱氣化成蒸氣進入本體10 的腔室，經噴嘴12噴向基板100,在基板100下表面鍍上一層薄膜。
[0005] 傳統的單點線性蒸發源系統中，由于本體10呈長條形，坩堝20連接于本體10底 部中央位置，因此進入腔室內的蒸氣在鄰近坩堝20的中央位置濃度較大，而在遠離坩堝20 中央的兩側位置濃度較小。即腔室內的飽和蒸氣壓不平衡，從而造成蒸鍍到基板100上的 薄膜厚度不均勻，特別是基板100兩側薄膜厚度的均勻度更差。在制作大尺寸薄膜時，傳統 的單點線性蒸發源系統鍍膜均勻度差的缺陷更加明顯。
【發明內容】
[0006] 本發明的一個目的在于提供一種單點線性蒸發源系統，使用該單點線性蒸發源系 統制作的薄膜均勻度好。
[0007] 為實現上述目的，本發明采用如下技術方案：
[0008] 本發明提供一種單點線性蒸發源系統，用于向一基板上蒸鍍薄膜，該單點線性蒸 發源系統包括：本體、蒸發器和兩塊導向板。其中，所述本體呈長條形，并包括長條形腔室， 該本體的朝向所述基板的一面設有多個連通所述腔室的噴嘴，所述噴嘴用于向所述基板噴 射蒸鍍氣體。蒸發器具有開口部，該開口部連通于所述腔室，該蒸發器用于蒸發放置于其中 的蒸鍍材料。兩塊導向板傾斜設置于所述腔室內兩端部，所述導向板的周側與所述本體密 封連接，并且所述兩塊導向板之間的距離在靠近所述本體的一端大于靠近所述蒸發器的一 端。
[0009] 根據本發明的一實施方式，其中所述導向板角度可調地設置于所述本體。
[0010] 根據本發明的一實施方式，其中該單點線性蒸發源系統還包括一電機或馬達，所 述導向板包括第一板體和第二板體，所述第一板體上端部可轉動地連接于所述本體，所述 第二板體上部可滑動地連接于所述第一板體下部，所述電機或馬達的輸出軸穿過所述本體 上的通孔連接于所述第一板體。
[0011] 根據本發明的一實施方式，其中所述第一板體下部和所述第二板體上部其中之一 具有中空的空間，所述第一板體下部和所述第二板體上部中的另一個能伸入所述中空的空 間內。
[0012] 根據本發明的一實施方式，其中所述第二板體上部疊放于所述第一板體下部，所 述第二板體和第一板體其中之一設有至少一條凹槽，所述第二板體和第一板體中的另一個 設有形狀與所述凹槽匹配的至少一條凸條。
[0013] 根據本發明的一實施方式，其中所述凹槽呈燕尾形或橢圓形。
[0014] 根據本發明的一實施方式，其中所述單點線性蒸發源系統還包括連接管，連接管 的一端連通于所述蒸發器的開口部，另一端連通于所述腔室，該連接管的內徑小于所述蒸 發器的開口部的尺寸。
[0015] 根據本發明的一實施方式，其中所述單點線性蒸發源系統還包括排氣管、集氣箱 和閥門。排氣管的一端連通于所述連接管；集氣箱連通于所述排氣管的另一端部；閥門安 裝于所述連接管內，當所述單點線性蒸發源系統工作時，該閥門處于連通所述蒸發器和所 述腔室并斷開所述蒸發器和所述排氣管的狀態，當所述單點線性蒸發源系統停止工作時， 該閥門處于斷開所述蒸發器和所述腔室并連通所述腔室和所述排氣管的狀態。
[0016] 根據本發明的一實施方式，其中所述單點線性蒸發源系統還包括、三通閥門、排氣 管和集氣箱。三通閥門具有三個接口，第一接口連通所述蒸發器，第二接口連通所述本體 的腔室；排氣管一端連通于所述三通閥門的第三接口；集氣箱連通于所述排氣管的另一端 部；當所述單點線性蒸發源系統工作時，所述第一接口、第二接口打開，第三接口關閉；當 所述單點線性蒸發源系統停止工作時，所述第一接口關閉，第二接口、第三接口打開。
[0017] 根據本發明的一實施方式，其中鄰近所述本體兩端部的所述噴嘴指向所述基板端 部方向。
[0018] 根據本發明的一實施方式，其中位于所述本體中部位置的若干個噴嘴的直徑小于 位于所述本體兩端部的噴嘴直徑。
[0019] 根據本發明的一實施方式，其中所述本體的長度小于所述基板的長度。
[0020] 根據本發明的一實施方式，其中所述本體的長度為所述基板長度的1/2?4/5。
[0021] 根據本發明的一實施方式，其中所述蒸發器為坩堝。
[0022] 根據本發明的一實施方式，其中所述兩塊導向板對稱設置。
[0023] 根據本發明的一實施方式，其中鄰近所述本體兩端部的所述噴嘴傾斜設置。
[0024] 根據本發明的一實施方式，其中所述噴嘴設置于噴嘴板，所述噴嘴板設于所述本 體上。
[0025] 根據本發明的一實施方式，其中所述噴嘴板與所述本體一體形成。
[0026] 根據本發明的一實施方式，其中所述導向板與所述本體一體形成。
[0027] 根據本發明的一實施方式，其中所述本體由白鐵或鈦制成。
[0028] 根據本發明的一實施方式，其中所述導向板由白鐵或鈦制成。
[0029] 根據本發明的一實施方式，其中所述導向板為弧形。
[0030] 由上述技術方案可知，本發明的單點線性蒸發源系統的優點和積極效果在于：本 發明的單點線性蒸發源系統中，在本體的腔室內兩側傾斜設置兩塊導向板，改變了腔室的 形狀，使腔室的縱截面在鄰近蒸發器處相對較小，而在鄰近基板處相對較大，從而能有效改 善腔室內蒸氣壓力平衡性，使腔室內中部位置和兩端部位置的蒸氣壓趨于一致，由此可提 高蒸鍍到基板上薄膜的均勻度。
[0031] 通過以下參照附圖對優選實施例的說明，本發明的上述以及其它目的、特征和優 點將更加明顯。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0032] 圖1是傳統的單點線性蒸發源系統的結構示意圖；
[0033] 圖2是本發明的單點線性蒸發源系統第一實施例的結構示意圖；
[0034] 圖3是本發明的單點線性蒸發源系統第二實施例的結構示意圖；
[0035] 圖4是本發明的單點線性蒸發源系統第三實施例的結構示意圖；
[0036] 圖5是本發明的單點線性蒸發源系統第四實施例的結構示意圖；
[0037] 圖6是本發明的單點線性蒸發源系統第三實施例和第四實施例的效果圖；
[0038] 圖7是本發明的單點線性蒸發源系統第五實施例的結構示意圖；
[0039] 圖8A是本發明的單點線性蒸發源系統第六實施例的結構示意圖；
[0040] 圖8B是圖8A中沿著A-A線取的剖面圖；
[0041] 圖9A本發明的單點線性蒸發源系統第七實施例的結構示意圖；
[0042] 圖9B是圖9A中沿著B-B線取的剖面圖。
[0043] 主要附圖標記說明：
[0044] 100 :基板
[0045] 10 :本體
[0046] 12 :噴嘴
[0047] 20 :坩堝
[0048] 30 :連接管
[0049] 40 :排氣管
[0050] 50 :集氣箱
[0051] 60:三通閥門
[0052] 70:導向板
[0053] 71 :第一板體
[0054] 711 :燕尾凸條
[0055] 712 :橢圓形凸條
[0056] 72 :第二板體
[0057] 80 :電機
[0058] 81 :輸出軸
【具體實施方式】
[0059] 下面將詳細描述本發明的具體實施例。應當注意，這里描述的實施例只用于舉例 說明，并不用于限制本發明。
[0060] 實施例1
[0061] 如圖2所示，本發明的單點線性蒸發源系統第一實施例用于向一基板100上蒸鍍 薄膜。該第一實施例單點線性蒸發源系統包括：本體10、坩堝20、兩塊導向板70以及多個 噴嘴12。
[0062] 本體10平行于基板100,并設置于基板100的下方，且與基板100相隔一定距離。 本體10可以由例如白鐵或鈦等金屬材料制成，本體10呈長條形，例如本體10是由頂面、底 面、兩側面和兩端面圍成的長方體形狀，本體10內具有長條形腔室。為了減小單點線性蒸 發源系統的整體體積，可以使本體10的長度小于基板100的長度，例如本體10的長度為基 板100長度的1/2?4/5。本體10上可以設置給其加熱的加熱器（圖中未示出）。
[0063] 坩堝20具有開口部，其開口部連通于腔室中部，坩堝20內用于蒸發放置于其中的 蒸鍍材料。坩堝20外面可以設置為其加熱的加熱器（圖中未示出）。本發明中的坩堝20也 可以由其它類型蒸發器代替。
[0064] 兩塊導向板70可以由例如白鐵或鈦等金屬材料制成，傾斜布置在腔室兩端部，且 兩塊導向板70之間的距離在靠近坩堝20的一端小于靠近基板100的一端。傳統的單點線 性蒸發源系統中，腔室中各處的橫截面面積相同，且各處的縱截面面積也相同，從而造成腔 室中部的蒸氣濃度大于腔室兩端部的蒸氣濃度，進而導致了鍍膜不均勻。本發明中，通過設 置兩塊導向板70改變了本體10的腔室形狀，使腔室在靠近坩堝20的縱截面面積小于靠近 基板100的縱截面面積，且使腔室中部的橫截面面積大于腔室兩端部的橫截面面積。也就 是說，腔室的兩端部沿著從基板100到坩堝20的方向向內收攏，從而減小了腔室兩端部的 空間，相對增加了分布在腔室兩端部的蒸氣濃度，從而使得腔室內中部及兩端部的蒸氣壓 趨于平衡，進而提升了鍍到基板100上的薄膜的均勻度。
[0065] 進一步地，當本體10與基板100對正且居中布置情況下，兩塊導向板70相對于本 體10的中心橫截面13對稱布置，這時形成的腔室的縱截面呈倒梯形。為了有效隔絕氣體， 導向板70的周側與本體10之間的連接優選為密封連接，例如，在導向板70的周側與本體 10之間夾設密封條。導向板70也可以與本體10 -體形成。本實施例1中，導向板70為平 板狀，導向板70也可以是弧形等其它形狀。
[0066] 多個噴嘴12安裝于噴嘴板，噴嘴板可以與本體10-體形成，例如噴嘴板即是本體 10的頂板。噴嘴12用于向基板100噴射蒸鍍氣體。多個噴嘴12的排布方式可以多種多 樣，例如在鄰近所述本體兩端部的所述噴嘴傾斜設置；在鄰近本體10兩端部的噴嘴12指向 基板100端部方向；兩端部的噴嘴12相對于中部的噴嘴12排布密集，且位于本體10中部 位置的噴嘴12的直徑小于位于本體10兩端部的噴嘴12的直徑，例如沿著從本體10中部 向其兩端方向，噴嘴12的直徑依次增大。若干個噴嘴12的這些排列方式有利于提高基板 100兩端部的薄膜厚度均勻度。
[0067] 第一實施例單點線性蒸發源系統工作時，坩堝20內的蒸鍍材料受熱蒸發后進入 腔室，再經若干噴嘴12噴出并蒸鍍到基板100的下表面。
[0068] 實施例2
[0069] 如圖3所示，本發明的單點線性蒸發源系統第二實施例的結構與第一實施例基本 相同，不同之處僅在于：該第二實施例的單點線性蒸發源系統還包括連接管30。該連接管 30的一端連通于坩堝20的開口部，另一端連通于腔室，即坩堝20與腔室通過連接管30相 互連通。其中連接管的內徑小于坩堝20的開口部的尺寸，對從坩堝20出來的蒸氣起到聚 攏作用，可以減少坩堝20內的蒸氣溢出，由此減少材料浪費。
[0070] 該第二實施例的單點線性蒸發源系統的其它結構與第一實施例相同，這里不再贅 述。
[0071] 實施例3
[0072] 如圖4所示，本發明的單點線性蒸發源系統第三實施例的結構與第二實施例基本 相同，不同之處僅在于：該第三實施例的單點線性蒸發源系統還包括排氣管40、集氣箱50 和閥門。其中排氣管40的一端連通于連接管30,另一端連通于集氣箱50。閥門安裝于連 接管30內（圖中未不出）。
[0073] 當單點線性蒸發源系統工作時，該閥門處于連通坩堝20和腔室并斷開坩堝20和 排氣管40的狀態，使從坩堝20出來的蒸氣通向腔室；當單點線性蒸發源系統停止工作時， 該閥門處于斷開坩堝20和腔室并連通腔室和排氣管40的狀態，使滯留在腔室的蒸氣經排 氣管40回收到集氣箱50,從而避免由此產生的材料浪費。
[0074] 該第三實施例的單點線性蒸發源系統的其它結構與第二實施例相同，這里不再贅 述。
[0075] 實施例4
[0076] 如圖5所示，本發明的單點線性蒸發源系統第四實施例的結構與第一實施例基本 相同，不同之處僅在于：該第四實施例的單點線性蒸發源系統還包括一個三通閥門60、排 氣管40和集氣箱50。該三通閥門60具有三個接口，第一接口連通坩堝20,第二接口連通 本體10的腔室，第三接口連通于排氣管40的一端部，排氣管40的另一端部連通集氣箱50。 在該第四實施例中，坩堝20、腔室以及排氣管40能通過三通閥門60相互連通。
[0077] 當單點線性蒸發源系統工作時，該三通閥門60的第一接口、第二接口打開，且第 三接口關閉，使從坩堝20出來的蒸氣通向腔室；當單點線性蒸發源系統停止工作時，該三 通閥門60的第一接口關閉，且第二接口、第三接口打開，使滯留在腔室的蒸氣經排氣管40 回收到集氣箱50,從而避免由此產生的材料浪費。
[0078] 該第四實施例的單點線性蒸發源系統的其它結構與第一實施例相同，這里不再贅 述。
[0079] 參見圖6,圖6是本發明的單點線性蒸發源系統第三實施例和第四實施例的效果 圖。從圖中可以看出，腔室內的蒸氣壓力較平衡，加上兩側的噴嘴12的傾斜設置，使得由各 個噴嘴12噴射的蒸氣密度、壓力較為均衡，因此在基板100上形成的薄膜厚度非常均勻。經 測試，薄膜均勻度小于±3%。同時，本發明的單點線性蒸發源系統在結束工作后，腔室內的 蒸氣可回收到集氣箱50,材料使用率大于30%。
[0080] 本發明的單點線性蒸發源系統中導向板70相對于本體10的傾斜角度Θ與基板 100長度及本體10長度差值有關，該差值越長，傾斜角度θ也越大。因此相對于不同的基 板100長度及本體10長度差值，導向板70相對于本體10的傾斜角度Θ也有所不同；另外 兩塊導向板70各自的傾斜角度可以相同（如圖1至圖5所示)，也可以不相同（圖中未示出）。 [0081] 實施例5
[0082] 參見圖7,本發明的單點線性蒸發源系統第五實施例中，導向板70相對于本體10 的傾斜角度Θ可調節地安裝于本體10。例如，該單點線性蒸發源系統第五實施例中還包括 一電機80,當然電機80也可以由馬達替換。導向板7包括第一板體71和第二板體72。第 一板體71頂端部通過傳統的連接方式連接于本體10的一端壁頂部。第一板體71下部具 有中空的空間，第二板體72的上部可伸入第一板體71下部的空間內，從而第一板體71和 第二板體72之間形成可滑動連接。本第五實施例中，也可以在第二板體72上部設置中空 的空間，將第一板體71下部伸入到第二板體72中空的空間內。
[0083] 當需要調節傾斜角度Θ時，電機80的輸出軸81穿過本體10端壁上的通孔抵頂 于第一板體71。當輸出軸81向外伸出時，輸出軸81推動第一板體71，第二板體72向下滑 落而保持與本體10的底壁接觸的同時向遠離電機80方向滑移；當輸出軸81向內縮回時， 輸出軸81拉動第一板體71繞其上端部轉動，第二板體72的底端部與本體10的底壁接觸 的同時，沿著本體10的底壁向電機80方向滑移。
[0084] 使用本發明的單點線性蒸發源系統第五實施例，可方便地調整導向板70相對于 本體10的傾斜角度θ ,因此能良好地適應各種不同的蒸氣壓力需求。
[0085] 實施例6
[0086] 參見圖8A和圖8B，本發明的單點線性蒸發源系統第六實施例結構與第五實施例 基本相同，不同之處僅在于：第二板體72的上部疊放于第一板體71下部。第二板體72上 設有兩條燕尾槽，第一板體71上設有形狀與燕尾槽相匹配的兩條燕尾凸條711，通過燕尾 凸條711和燕尾槽的配合將第二板體72與第一板體71可滑動地連接起來。本實施例六中， 將燕尾槽設置到第一板體71上，將燕尾凸條711設置到第二板體72也是可行的。燕尾槽 的數目不限于兩條，也可以只有一條或者3條、4條等。
[0087] 該第六實施例的單點線性蒸發源系統的其它結構與第五實施例相同，這里不再贅 述。
[0088] 實施例7
[0089] 參見圖9A和圖9B，本發明的單點線性蒸發源系統第七實施例結構與第五實施例 基本相同，不同之處僅在于：第二板體72的上部疊放于第一板體71下部。第二板體72上 設有兩條橢圓形槽，第一板體71上設有形狀與橢圓形槽相匹配的兩條橢圓形凸條712,通 過橢圓形凸條712和橢圓形槽的配合將第二板體72與第一板體71可滑動地連接起來。本 實施例七中，將橢圓形槽設置到第一板體71上，將橢圓形凸條712設置到第二板體72也是 可行的。橢圓形槽的數目不限于兩條，也可以只有一條或者3條、4條等。
[0090] 當然，本發明中，第二板體72與第一板體71之間可滑動的連接方式并不限于上述 橢圓形凹槽和橢圓形凸條配合，或者燕尾形凹槽和燕尾形凸條配合，還可以是其它形狀的 凹槽和凸條配合，甚至是其它連接方式，只要能實現可滑動連接即可。
[0091] 雖然已參照幾個典型實施例描述了本發明，但應當理解，所用的術語是說明和示 例性、而非限制性的術語。由于本發明能夠以多種形式具體實施而不脫離發明的精神或實 質，所以應當理解，上述實施例不限于任何前述的細節，而應在隨附權利要求所限定的精神 和范圍內廣泛地解釋，因此落入權利要求或其等效范圍內的全部變化和改型都應為隨附權 利要求所涵蓋。
【權利要求】
1. 一種單點線性蒸發源系統，用于向一基板上蒸鍍薄膜，該單點線性蒸發源系統包 括： 本體，所述本體呈長條形，并包括長條形腔室，該本體的朝向所述基板的一面設有多個 連通所述腔室的噴嘴，所述噴嘴用于向所述基板噴射蒸鍍氣體； 蒸發器，具有開口部，該開口部連通于所述腔室，該蒸發器用于蒸發放置于其中的蒸鍍 材料； 兩塊導向板，傾斜設置于所述腔室內兩端部，所述導向板的周側與所述本體密封連接， 并且所述兩塊導向板之間的距離在靠近所述基板的一端大于靠近所述蒸發器的一端。
2. 如權利要求1所述的單點線性蒸發源系統，其中，所述導向板角度可調地設置于所 述本體。
3. 如權利要求2所述的單點線性蒸發源系統，其中，該單點線性蒸發源系統還包括一 電機或馬達，所述導向板包括第一板體和第二板體，所述第一板體上端部可轉動地連接于 所述本體，所述第二板體上部可滑動地連接于所述第一板體下部，所述電機或馬達的輸出 軸穿過所述本體上的通孔連接于所述第一板體。
4. 如權利要求3所述的單點線性蒸發源系統，其中，所述第一板體下部和所述第二板 體上部其中之一具有中空的空間，所述第一板體下部和所述第二板體上部中的另一個能伸 入所述中空的空間內。
5. 如權利要求3所述的單點線性蒸發源系統，其中，所述第二板體上部疊放于所述第 一板體下部，所述第二板體和第一板體其中之一設有至少一條凹槽，所述第二板體和第一 板體中的另一個設有形狀與所述凹槽匹配的至少一條凸條。
6. 如權利要求5所述的單點線性蒸發源系統，其中，所述凹槽呈燕尾形或橢圓形。
7. 如權利要求1所述的單點線性蒸發源系統，其中，所述單點線性蒸發源系統還包括： 連接管，一端連通于所述蒸發器的開口部，另一端連通于所述腔室，該連接管的內徑小 于所述蒸發器的開口部的尺寸。
8. 如權利要求7所述的單點線性蒸發源系統，其中，所述單點線性蒸發源系統還包括： 排氣管，一端連通于所述連接管； 集氣箱，連通于所述排氣管的另一端部； 閥門，安裝于所述連接管內； 當所述單點線性蒸發源系統工作時，該閥門處于連通所述蒸發器和所述腔室并斷開所 述蒸發器和所述排氣管的狀態，當所述單點線性蒸發源系統停止工作時，該閥門處于斷開 所述蒸發器和所述腔室并連通所述腔室和所述排氣管的狀態。
9. 如權利要求1所述的單點線性蒸發源系統，其中，所述單點線性蒸發源系統還包括： 三通閥門，具有三個接口，第一接口連通所述蒸發器，第二接口連通所述本體的腔室； 排氣管，一端連通于所述三通閥門的第三接口； 集氣箱，連通于所述排氣管的另一端部； 當所述單點線性蒸發源系統工作時，所述第一接口、第二接口打開，第三接口關閉；當 所述單點線性蒸發源系統停止工作時，所述第一接口關閉，第二接口、第三接口打開。
10. 如權利要求1所述的單點線性蒸發源系統，其中，鄰近所述本體兩端部的所述噴嘴 指向所述基板端部方向。
11. 如權利要求1所述的單點線性蒸發源系統，其中，位于所述本體中部位置的噴嘴的 直徑小于位于所述本體兩端部的噴嘴直徑。
12. 如權利要求1所述的單點線性蒸發源系統，其中，所述本體的長度小于所述基板的 長度。
13. 如權利要求12所述的單點線性蒸發源系統，其中，所述本體的長度為所述基板長 度的1/2?4/5。
14. 如權利要求1所述的單點線性蒸發源系統，其中所述蒸發器為坩堝。
15. 如權利要求1所述的單點線性蒸發源系統，其中所述兩塊導向板對稱設置。
16. 如權利要求1所述的單點線性蒸發源系統，其中，鄰近所述本體兩端部的所述噴嘴 傾斜設置。
17. 如權利要求1所述的單點線性蒸發源系統，其中所述噴嘴設置于噴嘴板，所述噴嘴 板設于所述本體上。
18. 如權利要求17所述的單點線性蒸發源系統，其中所述噴嘴板與所述本體一體形 成。
19. 如權利要求1所述的單點線性蒸發源系統，其中所述導向板與所述本體一體形成。
20. 如權利要求1所述的單點線性蒸發源系統，其中所述本體由白鐵或鈦制成。
21. 如權利要求1所述的單點線性蒸發源系統，其中所述導向板由白鐵或鈦制成。
22. 如權利要求1所述的單點線性蒸發源系統，其中所述導向板為弧形。
【文檔編號】C23C14/24GK104099570SQ201310111467
【公開日】2014年10月15日 申請日期:2013年4月1日 優先權日:2013年4月1日
【發明者】林進志, 周皓煜, 黃俊允 申請人:上海和輝光電有限公司