玻璃基板表面處理的方法及系統的制作方法
【專利摘要】本發明公開了一種玻璃基板表面處理的方法和系統，該方法是將帶有磨料的混合漿料高速噴射至待處理的玻璃基板表面，具體包括下述步驟：①配制帶磨料的混合衆料；②根據待處理玻璃基板的表面狀況，確定噴射口的高度以及與待處理玻璃基板的角度將混合漿料和壓縮空氣分別同時輸入噴射系統、并從同一噴射口噴射至待處理的玻璃基板表面，然后并按照設定路線處理完畢。所述系統包括設有兩個入口和一個噴射口的噴射器、以及分別與噴射器入口端連通的混合漿料輸入機構和壓縮空氣輸入機構，混合漿料和壓縮空氣在噴射器處混合、并從噴射口噴射形成高速噴射的混合漿料。采用本發明處理效率高、成本低。
【專利說明】玻璃基板表面處理的方法及系統
【技術領域】
[0001]本發明屬于玻璃基板、機械加工、磨具制造以及其他需要對零件表面進行處理的領域，具體涉及PDP\TFT基板玻璃等對玻璃表面質量要求較高的電子玻璃基板的表面處理方法及系統。
【背景技術】
[0002]現有技術中，主要采用輥式或盤式拋光輪或拋光軸對玻璃基板的表面進行研磨、拋光加工，上述方法存在的主要問題是:效率較低，切削研磨量大、設備較長(少則幾十米多則上百米)、生產節拍較慢、工藝復雜并且需要按不同粗細的磨料分段進行加工。設備投資大，需要操作工人較多。
【發明內容】
[0003]本發明要解決的技術問題是提供一種玻璃基板表面處理的方法及系統，其采用微米級的磨料漿液與高壓空氣射流噴射技術相結合，解決了現有技術中生產節拍較慢、工藝復雜的技術問題，大幅提高了玻璃基板表面處理效率和產品的良品率，且生產成本和設備成本較低。
[0004]為了解決上述技術問題，本發明采取的技術方案是:
一種玻璃基板表面處理的方法，該方法是將帶有磨料的混合漿料高速噴射至待處理的玻璃基板表面，具體包括下述步驟:
①配制帶磨料的混合漿料；
②根據待處理玻璃基板的表面狀況，確定噴射口的高度以及與待處理玻璃基板的角度；
③將混合衆料和壓縮空氣分別同時輸入噴射系統、并從同一噴射口噴射至待處理的玻璃基板表面，然后并按照設定路線處理完畢。
[0005]優選的，步驟③中還包括混合漿料的回收和處理步驟，形成混合漿料的循環利用。
[0006]本發明還提供了一種基于上述玻璃基板表面處理方法的處理系統，該系統的結構中包括設有兩個入口和一個噴射口的噴射器、以及分別與噴射器入口端連通的混合漿料輸入機構和壓縮空氣輸入機構，混合漿料和壓縮空氣在噴射器處混合、并從噴射口噴射形成高速噴射的混合漿料。
[0007]所述混合漿料輸入機構的結構中包括漿料儲罐、和與漿料儲罐的出口連通并裝有漿料輸出泵的漿料輸出管路，漿料輸出管路的出口與噴射器的一個入口連通；所述壓縮空氣輸入機構的結構中包括壓縮空氣泵、和與壓縮空氣泵連通的壓縮空氣管路，所述壓縮空氣管路的出口與噴射器的另一個入口連通。
[0008]本發明采用了潔凈的壓縮空氣噴射技術，其工作原理是將帶有氧化鈰等磨料的混合漿料通過高壓氣體噴射使得磨料粒子得到有效地加速，從而獲得較大的動能，因而對玻璃表面具有微量的表面切割作用。
[0009]采用上述技術方案產生的有益效果在于:(1)本發明的處理方法具有較高的生產效率，一般G6 (TFT液晶基板6代玻璃)的玻璃基板完全可以在5-20秒內加工完成，適合在線大批量生產；(2)玻璃基板表面有微觀缺陷、經后續的表面清洗不能有效去除的不良品，經過本發明的方法進行處理后可以變成良品，提高了生產線上的良品率，有效的增加企業的盈利能力，經濟效果顯著；(3)本發明也可作為更精細玻璃基板表面加工的預處理，使得后續加工余量減少，提高加工的效率；(4)在浮法玻璃生產線上可以有效的去除玻璃表面的氧化物、粘錫、微小的結石、硫化物等不能經過清洗去除的玻璃基板表面質量缺陷，能有效的解決玻璃基板表面的擦劃傷問題；(5)本發明的設備一次投入的成本較低，節約了生產資金。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0010]圖1是本發明噴射器的結構示意圖；
圖2是圖1的俯視結構7]^意圖；
圖3是本發明噴射系統的結構示意圖；
其中，1、噴射器，1-1、混合漿料配送孔，1-2壓縮空氣配送孔，1-3、噴射口，2、漿料輸出管路，3、漿料儲罐，4、漿料回收泵，5、漿料輸出泵，6、漿料回收池，7、待處理玻璃基板，8、壓縮空氣泵，9、壓縮空氣管路，10、壓縮空氣調節閥，11、漿料調節閥，12、漿料回收管路。
【具體實施方式】
[0011]本實施例是一種玻璃基板表面處理的方法，該方法是將帶有磨料的混合漿料高速噴射至待處理的玻璃基板表面，具體包括下述步驟:
①配制帶磨料的混合漿料；所述混合漿料為含有磨料的水懸浮液，其中磨料的重量百分比為8-25%。所述磨料為氧化鋪、氧化招、氧化錫或氧化錯,其粒徑為3-12 μ m。
[0012]浮法玻璃中生產的玻璃基板優選氧化鈰磨料。氧化鈰磨料的粒度可以根據玻璃基板表面的性質和加工的目的進行選擇，當玻璃基板表面質量較差，微小的附著物較多應選擇較大的粒度以有利于切削，反之選擇較小的粒度，但一般控制在3-12 μ m。
[0013]盛裝氧化鈰混合漿料的漿料儲罐一般配有加熱裝置，將其料漿的溫度控制在25-45 0C，在此溫度范圍內噴射效果更佳。
[0014]②根據待處理玻璃基板的表面狀況，確定噴射口的高度以及與待處理玻璃基板的角度。
[0015]噴射口可以采用扇形結構以提高掃射的面積和效率，噴射口與待處理玻璃基板的入射角度為30° -90°可調，對待處理玻璃基板的噴射高度為20-500mm可調。根據玻璃基板的表面質量調節，原則是表面缺陷較輕微噴射高度選擇較高的位置且噴射角度較大，噴射壓力較小，反之則相反的調整。
[0016]混合漿料借助漿料輸出泵5從漿料儲罐3中抽取，漿料輸出泵5出口壓力為
0.2-0.5MPa,壓縮空氣通過壓縮空氣泵8提供，并且其噴射的壓力為0.3-1.0MPa可調。
[0017]③將混合漿料和壓縮空氣分別同時輸入噴射系統、并從同一噴射口噴射至待處理的玻璃基板表面，然后并按照設定路線處理完畢。
[0018]可以在待處理玻璃基板的工作臺上安裝有傳感器、PLC控制單元及精密機械執行機構，這樣可以根據傳感器檢測的待處理玻璃基板的表面狀況、由PLC控制精密執行機構對待處理玻璃基板實施精確定點、定量的加工，以提高表面處理的效率和精度。
[0019]步驟③中還包括混合漿料的回收和處理步驟，形成混合漿料的循環利用。所述混合漿料的處理步驟包括過濾和離心分離。過濾作用是濾掉大的粒子避免劃傷玻璃；離心分離是通過離心式旋流器將水和不同比重的料漿分離，旋流出的合格料漿通過泵重新打入漿料儲te中使用。
[0020]本實施例提供了一種基于上述方法的處理系統，所述噴射系統的結構中包括設有兩個入口和一個噴射口的噴射器1、以及分別與噴射器I入口端連通的混合漿料輸入機構和壓縮空氣輸入機構，混合漿料和壓縮空氣在噴射器處混合、并從噴射口 1-3噴射形成高速噴射的混合漿料。噴射器I尾部有兩個長孔，分別是混合漿料配送孔1-1和潔凈的壓縮空氣配送孔1-2，兩個長孔在噴射器I的頭部匯集、形成噴射口 1-3。
[0021]所述混合漿料輸入機構的結構中包括漿料儲罐3、和與漿料儲罐3的出口連通并裝有漿料輸出泵5的漿料輸出管路2，漿料輸出管路2的出口與噴射器I的一個入口(即混合漿料配送孔1-1的入口)連通；所述壓縮空氣輸入機構的結構中包括壓縮空氣泵8、和與壓縮空氣泵8連通的壓縮空氣管路9，所述壓縮空氣管路9的出口與噴射器I的另一個入口(即壓縮空氣配送孔1-2的入口)連通。
[0022]所述噴射系統的結構中還包括漿料回收機構，所述漿料回收機構的結構中包括設置在待處理玻璃基板7工作臺下方的漿料回收池6、連通漿料回收池6與漿料儲罐3的漿料回收管路12，所述漿料回收管路12依次裝有漿料回收泵4、過濾器和離心式旋流器，離心式旋流器將水和不同比重的料漿分離，旋流出的合格料漿再通過泵重新打入漿料儲罐中使用，形成混合漿料的循環使用。
[0023]在壓縮空氣管路9和漿料輸出管路2上還分別加裝有漿料調節閥11和壓縮空氣調節閥10，以調整混合漿料和壓縮空氣的流量。
[0024]在工作臺上方還設有檢測待處理玻璃基板7表面狀況的傳感器，所述噴射器I固定在精密機械執行機構上，所述精密機械執行機構在處理玻璃基板7的上方具有三維運動的自由度，還包括控制精密機械執行機構的PLC控制單元，所述傳感器的輸出端接PLC控制單元的輸入端；PLC控制單元相應的輸出端還分別接漿料回收泵4、漿料輸出泵5、壓縮空氣泵8、壓縮空氣調節閥10以及漿料調節閥11的控制端。
【權利要求】
1.一種玻璃基板表面處理的方法，其特征在于該方法是將帶有磨料的混合漿料高速噴射至待處理的玻璃基板表面，具體包括下述步驟: ①配制帶磨料的混合漿料； ②根據待處理玻璃基板的表面狀況，確定噴射口的高度以及與待處理玻璃基板的角度； ③將混合衆料和壓縮空氣分別同時輸入噴射系統、并從同一噴射口噴射至待處理的玻璃基板表面，然后并按照設定路線處理完畢。
2.根據權利要求1所述的玻璃基板表面處理的方法，其特征在于步驟③中還包括混合漿料的回收和處理步驟，形成混合漿料的循環利用。
3.根據權利要求1或2所述的玻璃基板表面處理的方法，其特征在于所述混合漿料為含有磨料的水懸浮液，其中磨料的重量百分比為8-25 %。
4.根據權利要求3所述的玻璃基板表面處理的方法，其特征在于所述磨料為氧化鈰、氧化招、氧化錫或氧化錯，其粒徑為3-12 μ mo
5.根據權利要求1或2所述的玻璃基板表面處理的方法，其特征在于步驟②中噴射口至待處理玻璃基板的距離為20-500mm，噴射口與玻璃基板的噴射角度為30-90°。
6.根據權利要求1或2所述的玻璃基板表面處理的方法，其特征在于步驟②中混合漿料的溫度為25-45°C。
7.根據權利要求2所述的玻璃基板表面處理的方法，其特征在于所述混合漿料的處理步驟包括漿料的過濾和離心分離。
8.根據權利要求1或2所述的玻璃基板表面處理的方法，其特征在于步驟③中所述噴射系統的結構中包括設有兩個入口和一個噴射口的噴射器(I)、以及分別與噴射器(I)入口端連通的混合漿料輸入機構和壓縮空氣輸入機構，混合漿料和壓縮空氣在噴射器處混合、并從噴射口(1-3)噴射形成高速噴射的混合漿料。
9.根據權利要求8所述的玻璃基板表面處理的方法，其特征在于所述混合漿料輸入機構的結構中包括漿料儲罐(3 )、和與漿料儲罐(3 )的出口連通并裝有漿料輸出泵(5 )的漿料輸出管路(2)，漿料輸出管路(2)的出口與噴射器(I)的一個入口連通；所述壓縮空氣輸入機構的結構中包括壓縮空氣泵(8)、和與壓縮空氣泵(8)連通的壓縮空氣管路(9)，所述壓縮空氣管路(9)的出口與噴射器(I)的另一個入口連通。
10.根據權利要求8所述的玻璃基板表面處理的方法，其特征在于所述噴射系統的結構中還包括漿料回收機構，所述漿料回收機構的結構中包括設置在待處理玻璃基板(7)工作臺下方的漿料回收池(6)、連通漿料回收池(6)與漿料儲罐(3)的漿料回收管路(12)，所述漿料回收管路(12)依次裝有漿料回收泵(4)、過濾器和離心式旋流器。
【文檔編號】B24C5/00GK104209867SQ201310377798
【公開日】2014年12月17日 申請日期:2013年8月27日 優先權日:2013年8月27日
【發明者】楊軍 申請人:東旭集團有限公司