專利名稱：一種用于拋光曲面釉磚的彈性磨塊的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及磨塊領域，具體涉及一種用于拋光曲面釉磚的彈性磨塊。
背景技術：
眾所周知的，磨塊安裝在拋光機磨頭上，以用于對釉磚進行拋光。而現有的磨塊一般包括夾持頭、安裝在夾持頭上的磨削組件；所述夾持頭上設置有工作面，該工作面為呈矩形的安裝平面；所述磨削組件包括排布在工作面上的兩排拋光件。而當磨塊擺動拋光時，由于磨塊的工作面為一呈矩形的安裝平面，導致磨削組件無法與釉磚的凹面進行良好的接觸，從而影響拋光效果。
實用新型內容為了克服現有技術的不足，本實用新型的目的在于提供一種用于拋光曲面釉磚的彈性磨塊，其通過將工作面設置為一朝外凸的曲面，可使磨削組件與釉磚的凹面進行良好的接觸，從而提高拋光效果。為解決上述問題，本實用新型所采用的技術方案如下:一種用于拋光曲面釉磚的彈性磨塊，包括夾持頭、磨削組件，該夾持頭上設置有一工作面，該工作面為一朝外凸的曲面；所述磨削組件包括排列在工作面上的若干排拋光單元，任意一排拋光單元均包括至少兩個彈性拋光塊。所述工作面為球面或橢球面。任意一排拋光單元均包括三個彈性拋光塊。所述拋光單元的排數為4-10排。相比現有技術，本實用新型的有益效果在于:本實用新型通過將工作面設置為一朝外凸的曲面，當彈性磨塊擺動時或隨著磨頭旋轉時，可使磨削組件與釉磚的凹面進行良好的接觸，從而提高拋光效果，而且，由于彈性拋光塊具有良好的彈性，可便于順利地拋光釉磚，進一步提高拋光效果，以提高產品的質量。
圖1為本實用新型的結構示意圖；圖2為本實用新型的側視圖；圖3為本實用新型的另一種彈性磨塊的結構示意圖；圖4為本實用新型的又一種彈性磨塊的結構示意圖；其中，1、夾持頭；2、工作面；3、彈性拋光塊。
具體實施方式
下面，結合附圖以及具體實施方式
，對本實用新型做進一步描述，以便于更清楚的理解本實用新型所要求保護的技術思路。如圖1、2所示，為本實用新型的一種用于拋光曲面釉磚的彈性磨塊，包括夾持頭
1、磨削組件；所述夾持頭I上設置有一工作面2，該工作面2為一朝外凸的曲面；優選的，所述工作面2為球面或橢球面。所述磨削組件包括排列在工作面2上的若干排拋光單元，任意一排拋光單元均包括至少兩個彈性拋光塊3。具體的，所述拋光單元的排數為6，任意一排拋光單元均包括三個彈性拋光塊3。其中，本實用新型所述的釉磚為釉面瓷磚。當然，所述拋光單元的排數并不僅限于6排，可依實際需求設定，例如如圖3所示設置為8排，或者如圖4所示設置為4排。而優選的，所述拋光單元的排數為4-10排，以便于優化其性能和控制成本。而在實際使用時，可將多個彈性磨塊圓周排列在磨頭上，而彈性磨塊隨著磨頭的轉動做旋轉運動，同時也進行擺動運動，可利用其上的磨削組件對曲面釉磚進行拋光。本實用新型通過將工作面2設置為一朝外凸的曲面，當彈性磨塊擺動時或隨著磨頭旋轉時，可使磨削組件與釉磚的凹面進行良好的接觸，從而提高拋光效果，而且，由于彈性拋光塊3具有良好的彈性，以便于順利地拋光釉磚，進一步提高釉磚的拋光效果，以提高產品的質量。 上述實施方式僅為本實用新型的優選實施方式，不能以此來限定本實用新型保護的范圍，本領域的技術人員在本實用新型的基礎上所做的任何非實質性的變化及替換均屬于本實用新型所要求保護的范圍。
權利要求1.一種用于拋光曲面釉磚的彈性磨塊，其特征在于:包括夾持頭、磨削組件，該夾持頭上設置有一工作面，該工作面為一朝外凸的曲面；所述磨削組件包括排列在工作面上的若干排拋光單元，任意一排拋光單元均包括至少兩個彈性拋光塊。
2.如權利要求1所述的用于拋光曲面釉磚的彈性磨塊，其特征在于:所述工作面為球面或橢球面。
3.如權利要求1所述的用于拋光曲面釉磚的彈性磨塊，其特征在于:任意一排拋光單元均包括三個彈性拋光塊。
4.如權利要求1所述的用于拋光曲面釉磚的彈性磨塊，其特征在于:所述拋光單元的排數為4-10排。
專利摘要本實用新型公開了一種用于拋光曲面釉磚的彈性磨塊，包括夾持頭、磨削組件，該夾持頭上設置有一工作面，該工作面為一朝外凸的曲面；所述磨削組件包括排列在工作面上的若干排拋光單元，任意一排拋光單元均包括至少兩個彈性拋光塊。本實用新型通過將工作面設置為一朝外凸的曲面，當彈性磨塊擺動時或隨著磨頭旋轉時，可使磨削組件與釉磚的凹面進行良好的接觸，從而提高拋光效果，而且，由于彈性拋光塊具有良好的彈性，可便于順利地拋光釉磚，進一步提高拋光效果，以提高產品的質量。
文檔編號B24B41/04GK203077077SQ201320057588
公開日2013年7月24日 申請日期2013年1月31日 優先權日2013年1月31日
發明者全任茂, 莫浩文, 葉富昌 申請人:佛山市納銘精工科技有限公司