一種用于真空鍍膜的屏蔽箱的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種用于真空鍍膜的屏蔽箱，包括外殼（1）和屏蔽片（2），其特征在于所述的外殼（1）內設有多個獨立設置的屏蔽片（2），屏蔽片（2）相互之間平行設置且每個屏蔽片（2）上皆設有多個通孔（3）。本實用新型采用的屏蔽箱，由于具有多個獨立的屏蔽片且每個屏蔽片上具有多個空孔，可以在多次鍍膜或長時間鍍膜中有效吸附金屬層，金屬殘渣也不會掉落在被鍍工件上，從而減少了被鍍工件的鍍膜缺陷，達到改善鍍膜膜層光學和機械性能的目的；且相互獨立的屏蔽片易抽取分離和單獨清洗，有效的減少了不必要的人力物力損失，具有結構簡單、使用方便且吸附效率高的特點，可以根據需要單獨或組合地安裝在鍍膜腔室內鍍膜源附近適當的位置。
【專利說明】 —種用于真空鍍膜的屏蔽箱
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及鍍膜【技術領域】，具體地說是一種增強鍍膜腔室對金屬層的吸附能力并防止在鍍膜過程中金屬殘渣掉落在被鍍工件上的用于真空鍍膜的屏蔽箱。
【背景技術】
[0002]在真空鍍膜過程中，由鍍膜源發出的金屬蒸汽被沉積到被鍍工件的同時，也會部分濺射到鍍膜腔室的內壁上，久而久之造成腔室內壁上金屬層的累積，這些金屬層一方面會影響到腔室的工作效果，另一方面清理起來很不容易，造成不必要的人力物力損失。而且隨著鍍膜次數或時間的增加，鍍膜腔室內壁上沉積的金屬層也越來越厚，而這些金屬層在腔壁表面附著并不穩固，在鍍膜過程中金屬殘渣就非常容易掉落在被鍍工件上，造成被鍍工件的鍍膜缺陷。
【發明內容】
[0003]本實用新型的目的是針對現有技術的不足，本實用新型提供一種增強鍍膜腔室對金屬層的吸附能力并防止在鍍膜過程中金屬殘渣掉落在被鍍工件上的用于真空鍍膜的屏蔽箱。
[0004]本實用新型的目的是通過以下技術方案解決的:
[0005]一種用于真空鍍膜的屏蔽箱，包括外殼和屏蔽片，其特征在于所述的外殼內設有多個獨立設置的屏蔽片，屏蔽片相互之間平行設置且每個屏蔽片上皆設有多個通孔。
[0006]所述的外殼呈“U”形且外殼的內壁上設有溝槽，每個屏蔽片皆沿相應的溝槽插入外殼內。
[0007]所述的通孔均勻分布在屏蔽片且任兩個屏蔽片上的通孔皆相互對應。
[0008]所述的外殼和屏蔽片采用鋼材、銅材、鋁材或合金材料制成。
[0009]本實用新型相比現有技術有如下優點:
[0010]本實用新型采用的屏蔽箱，由于具有多個獨立的屏蔽片且每個屏蔽片上具有多個空孔，可以在多次鍍膜或長時間鍍膜中有效吸附金屬層，金屬殘渣也不會掉落在被鍍工件上，從而減少了被鍍工件的鍍膜缺陷，達到改善鍍膜膜層光學和機械性能的目的；該屏蔽箱可以根據需要單獨或組合地安裝在鍍膜腔室內鍍膜源附近適當的位置。
[0011]本實用新型的屏蔽箱內具有多個相互獨立的屏蔽片，可以根據需要抽取分離和單獨清洗，有效的減少了不必要的人力物力損失；具有結構簡單、使用方便且吸附效率高的特點，適宜推廣使用。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0012]附圖1為本實用新型的結構示意圖。
[0013]其中:1 一外殼；2—屏蔽片；3—通孔。【具體實施方式】
[0014]下面結合附圖與實施例對本實用新型作進一步的說明。
[0015]如圖1所示:一種用于真空鍍膜的屏蔽箱，包括外殼I和屏蔽片2，外殼，I和屏蔽片2采用鋼材、銅材、鋁材或合金材料制成，在外殼I內設有多個獨立設置的屏蔽片2，屏蔽片2相互之間平行設置且每個屏蔽片2上皆設有多個通孔3，通孔3均勻分布在屏蔽片2且任兩個屏蔽片2上的通孔3皆相互對應。具體地說，外殼I呈“U”形且外殼I的內壁上設有溝槽，每個屏蔽片2皆沿相應的溝槽插入外殼I內。
[0016]本實用新型采用的屏蔽箱，由于具有多個獨立的屏蔽片2且每個屏蔽片2上具有多個空孔3，可以在多次鍍膜或長時間鍍膜中有效吸附金屬層，金屬殘渣也不會掉落在被鍍工件上，從而減少了被鍍工件的鍍膜缺陷，達到改善鍍膜膜層光學和機械性能的目的；多個相互獨立的屏蔽片2可以根據需要抽取分離和單獨清洗，有效的減少了不必要的人力物力損失；具有結構簡單、使用方便且吸附效率高的特點，故該屏蔽箱可以根據需要單獨或組合地安裝在鍍膜腔室內鍍膜源附近適當的位置。
[0017]以上實施例僅為說明本實用新型的技術思想，不能以此限定本實用新型的保護范圍，凡是按照本實用新型提出的技術思想，在技術方案基礎上所做的任何改動，均落入本實用新型保護范圍之內；本實用新型未涉及的技術均可通過現有技術加以實現。
【權利要求】
1.一種用于真空鍍膜的屏蔽箱，包括外殼(I)和屏蔽片(2)，其特征在于所述的外殼(O內設有多個獨立設置的屏蔽片(2)，屏蔽片(2)相互之間平行設置且每個屏蔽片(2)上皆設有多個通孔(3)。
2.根據權利要求1所述的用于真空鍍膜的屏蔽箱，其特征在于所述的外殼(I)呈“U”形且外殼(I)的內壁上設有溝槽，每個屏蔽片(2)皆沿相應的溝槽插入外殼(I)內。
3.根據權利要求1所述的用于真空鍍膜的屏蔽箱，其特征在于所述的通孔(3)均勻分布在屏蔽片(2 )且任兩個屏蔽片(2 )上的通孔(3 )皆相互對應。
4.根據權利要求1所述的用于真空鍍膜的屏蔽箱，其特征在于所述的外殼(I)和屏蔽片(2 )采用鋼材、銅材、鋁材或合金材料制成。
【文檔編號】C23C14/56GK203559120SQ201320582330
【公開日】2014年4月23日 申請日期:2013年9月22日 優先權日:2013年9月22日
【發明者】王朝陽, 宮睿 申請人:無錫啟暉光電科技有限公司