真空涂覆設備的捕水機構的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種真空涂覆設備的捕水機構，包括固定在真空倉體上的冷阱倉體、設于冷阱倉體內部的制冷盤管和與冷阱倉體相連的調整機構，其中冷阱倉體包括本體和與本體相匹配的蓋體，該蓋體位于真空倉體的內部，蓋體與調整機構相連。本實用新型真空涂覆設備的捕水機構具有工作效率高和產能消耗低的特點。
【專利說明】真空涂覆設備的捕水機構
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及到一種捕水機構，特別涉及到一種真空涂覆設備的捕水機構。
【背景技術】
[0002]真空涂覆設備廣泛的運用于精密器件的鍍膜操作中，其一般包括一個真空倉體，以滿足真空鍍膜的需要。為了使得真空倉體圍成的腔體具有較高的真空度，現有的真空涂覆設備的真空倉體中設有捕水機構，該捕水機構的制冷盤管經常被安裝在高閥與真空腔之間、真空腔內或卷繞鍍膜上下室內等部位，該制冷盤管與真空室總是處于連通的狀態，當真空涂覆設備需要開門取出成品時，往往需要通過加熱除霜裝置對制冷盤管進行加熱，使其在每次開門之前恢復到常溫，以避免制冷盤管從大氣中吸收大量的水汽而結霜，影響下次抽真空。由于每次開門之前都需要有加熱除霜裝置對制冷盤管進行加熱，因此這種真空涂覆設備的捕水機構具有工作效率低和產能消耗高的缺點。
實用新型內容
[0003]本實用新型要解決的技術問題是提供一種工作效率高和產能消耗低的真空涂覆設備的捕水機構。
[0004]根據本實用新型的一個方面，提供了一種真空涂覆設備的捕水機構，包括固定在真空倉體上的冷阱倉體、設于冷阱倉體內部的制冷盤管和與冷阱倉體相連的調整機構，其中冷阱倉體包括本體和與本體相匹配的蓋體，該蓋體位于真空倉體的內部，蓋體與調整機構相連。
[0005]本實用新型真空涂覆設備的捕水機構的有益效果是:由于在冷阱倉體的本體和蓋體圍成的腔室中設有制冷盤管，且該蓋體與調整機構相連，即可以實現當真空涂覆設備的真空倉體關門抽真空時，調整機構控制蓋體與本體分離，此時冷阱倉體的腔室與真空倉體的腔室相連通，制冷盤管超低溫表面能夠有效地奪取腔室中水蒸氣，從而實現真空倉體的真空腔室被快速抽真空；當真空涂覆設備的真空倉體需要開門取出成品時，調整機構控制蓋體與本體氣密封配合，此時冷阱倉體的腔室與真空倉體的腔室斷開連通，因此可以直接打開真空倉體的倉門，而不需要每次開門前都需要有加熱除霜裝置對制冷盤管進行加熱。綜上所述，本實用新型真空涂覆設備的捕水機構具有工作效率高和產能消耗低的優點。
[0006]在一些實施方式中，制冷盤管可以為螺旋狀，其一端為冷媒的流入端，另一端為冷媒的流出端，該流入端和流出端均由冷阱倉體的內部向外部延伸出。由于制冷盤管為緊密排列的螺旋狀，即其表面積大，因此其具有捕集水蒸氣速度快、效率高和占有體積小的優點。
[0007]在一些實施方式中，調整機構可以設于冷阱倉體內部，該調整機構包括氣缸、設于氣缸內部的柱塞和一端與柱塞相連的連桿，該連桿的另一端與蓋體相連，該氣缸固定在本體上。由于通過連桿連接柱塞和蓋體，通過控制氣缸的通氣情況就可實現柱塞帶動蓋體實現蓋體的打開和閉合，因此本實用新型真空涂覆設備的捕水機構具有結構簡單和控制方便的優點。
[0008]在一些實施方式中，柱塞與連桿相連的一側可以設有彈簧,另一側與氣缸圍成氣腔，該彈簧與連桿套接，該彈簧的一端與柱塞相連，另一端與氣缸的內壁相連。由于柱塞與連桿相連的一側可以設有彈簧，另一側與氣缸圍成氣腔，當向氣腔中通入高壓空氣時，彈簧被壓縮，冷阱倉體的蓋體被打開；當停止向氣腔中通入高壓空氣時，在彈簧的回復力的作用下，冷阱倉體的蓋體閉合。因此本實用新型真空涂覆設備的捕水機構具有結構簡單和控制方便的優點。
[0009]在一些實施方之中，還可以包括進氣管，該進氣管與氣腔相連通。通過進氣管的連通，可以為氣腔提供所需的氣壓，從而實現冷阱倉體的蓋體的打開和閉合。
[0010]在一些實施方之中，柱塞和連桿相連的一側與氣缸圍成第一氣腔，另一側與氣缸圍成第二氣腔。由于柱塞的兩側分別形成第一氣腔和第二氣腔，通過控制第一氣腔和第二氣腔的通氣情況就可以實現冷阱倉體的蓋體的打開和閉合，因此本實用新型真空涂覆設備的捕水機構具有結構簡單和控制方便的優點。
[0011]在一些實施方式中，還可以包括第一進氣管和第二進氣管，其中第一進氣管與第一氣腔相連通，該第二進氣管與第二氣腔相連通。由于相應進氣管和氣腔的相連通，通過進氣管可以為相應的氣腔提供所需的氣壓，從而實現冷阱倉體的蓋體的打開和閉合。
[0012]在一些實施方式中，還可以包括抽真空管，該抽真空管與冷阱倉體的內腔相連通。由于設有與冷阱倉體的內腔相連通的抽真空管，且該抽真空管的另一端與真空泵相連，即在正常工作中，其能夠為冷阱倉體和真空倉體的腔室中的氣流提供牽引力，同時通過該抽真空管可以及時排除除霜操作得到的水汽，因此本實用新型具有實用性強的優點。
[0013]在一些實施方式中，蓋體的周圍可以設有密封圈。通過在蓋體的周圍設有密封圈，可以保證在蓋體閉合的情況下，其能夠與冷阱倉體的本體更好的氣密封配合，因此本實用新型真空涂覆設備的捕水機構具有實用性強的優點。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0014]圖1是本實用新型真空涂覆設備的捕水機構一種實施方式的結構示意圖；
[0015]圖2是圖1中真空涂覆設備的捕水機構另一視角的結構示意圖；
[0016]圖3是圖2中真空涂覆設備的捕水機構沿1-1的剖視圖；
[0017]圖4是本實用新型真空涂覆設備的捕水機構另一種實施方式的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0018]下面結合附圖對本實用新型作進一步詳細說明。
[0019]圖1至圖3給出了本實用新型真空涂覆設備的捕水機構的一個實施例，該實施例中，真空涂覆設備的捕水機構包括固定在真空倉體I上的冷阱倉體2、設于冷阱倉體2內部的制冷盤管3、與冷阱倉體2相連的調整機構4以及與冷阱倉體2的內腔相連通的抽真空管6，其中冷阱倉體2包括本體21和與本體21相匹配的蓋體22，該蓋體22位于真空倉體I的內部，蓋體22與調整機構4相連。蓋體22的周圍為凸臺結構，本體21上開設有與之相匹配的凹槽，從而實現蓋體22和本體21的緊密配合，同時為了更好實現蓋體22和本體21的氣密封配合，在蓋體22凸臺結構的表面套設有密封圈221。[0020]制冷盤管3為螺旋狀，其一端為冷媒的流入端31，另一端為冷媒的流出端32，流入端31和流出端32均由冷阱倉體2的內部向外部延伸出。通過冷媒在制冷盤管3中循環流動，可以保證制冷盤管3的表面一直維持在超低溫，從而能夠有效地奪取水蒸氣，實現快速抽真空和滿足高的真空度要求。
[0021]調整機構4設于冷阱倉體2的內部，該調整機構4包括氣缸41、設于氣缸41內部的柱塞42和一端與柱塞42通過螺栓固定相連的連桿43，該連桿43的另一端與蓋體22通過螺栓固定相連，氣缸41固定在本體21上。柱塞42和連桿43相連的一側與氣缸41圍成第一氣腔451，另一側與氣缸41圍成第二氣腔452，冷阱倉體2上設有第一進氣管51和第二進氣管52，該第一氣腔451與第一進氣管51相連通，該第二氣腔452與第二進氣管52相連通，通過第一進氣管51和第二進氣管52，可以為相應的第一氣腔451和第二氣腔452提供所需的氣壓。
[0022]抽真空管6的一端與冷阱倉體2的內腔相連通，另一端與真空泵相連。正常工作時，與抽真空管6相連的真空泵能夠為冷阱倉體2和真空倉體I的腔室中的氣流提供牽引力，即提供抽真空的動力。當多次捕集水蒸氣后，制冷盤管3的表層的霜層到達一定厚度，即影響到抽真空效率時，通過加熱除霜裝置對制冷盤管3進行加熱，除去其表面的霜層，使其變為水汽，并且通過設于冷阱倉體2上的抽真空管6，可以將冷阱倉體2中的水汽及時抽出，即實現給制冷盤管3的除霜，這樣本實用新型真空涂覆設備的捕水機構又可以高效的捕集水蒸氣，且可以持續多次不用再進行除霜操作，直到制冷盤管3表面的冰層到達一定厚度。
[0023]本實施例中真空涂覆設備的捕水機構的數量可以一個或多個，其可以安裝在相應真空涂覆設備的任何位置，保證當蓋體22和本體21分離時，真空倉體I和冷阱倉體2的腔室相連通即可。
[0024]當使用本實施例中真空涂覆設備的捕水機構的真空涂覆設備的真空倉體I關門抽真空時，如圖3所示，通過第二進氣管52向第二氣腔452中通入高壓空氣，此時柱塞42被推動向上運動，與柱塞42相連的連桿43會向上推動蓋體22運動，即調整機構4控制蓋體22與本體21分離，此時冷阱倉體2的腔室與真空倉體I的腔室相連通，制冷盤管3超低溫表面能夠有效地奪取腔室中的水蒸氣，從而實現真空倉體I的真空腔室被快速抽真空。
[0025]當使用本實施例中真空涂覆設備的捕水機構的真空涂覆設備的真空倉體I需要開門取出成品時，通過第一進氣管51向第一氣腔451中通入高壓空氣，此時柱塞42被推動向下運動，與柱塞42相連的連桿43會向下拉動蓋體22運動，即調整機構4控制蓋體22與本體21氣密封配合，此時冷阱倉體2的腔室與真空倉體I的腔室斷開連通，因此可以直接打開真空倉體I的倉門，而不需要每次開門前都需要有加熱除霜裝置對制冷盤管3進行加熱。
[0026]一般真空涂覆設備的真空腔室中的水蒸氣主要來自外界空氣，其含量相對較少，采用本實用新型真空涂覆設備的捕水機構，能夠保證制冷盤管3經過多次捕集水蒸氣后，其表面的霜層較薄，即其表面仍然維持在超低溫，能夠有效的捕集真空腔室中的水蒸氣。在本實用新型真空涂覆設備的捕水機構經過多次循環工作后，其表面的冰層到達一定厚度時，即制冷盤管3不能夠有效的捕集真空腔室中的水蒸氣時，首先通過調整機構4控制蓋體22與本體21處于氣密封狀態，再通過加熱除霜裝置對制冷盤管3進行加熱，除去其表面的霜層，讓其變為水汽，同時打開與抽真空管6的真空泵，讓制冷盤管3表面形成的水汽從抽真空管6中排出，此時可以實現給制冷盤管3的除霜，這樣本實用新型真空涂覆設備的捕水機構又可以高效的捕集水蒸氣，且可以持續多次不用再進行除霜操作，直到制冷盤管3表面的冰層到達一定厚度。當真空涂覆設備上只設有一個本實用新型真空涂覆設備的捕水機構時，該捕水機構進行除霜操作可以與從真空倉體I中取出成品操作同步，如此不需要為除霜操作花費額外的時間，可以提高工作效率；當真空涂覆設備上設有多個本實用新型真空涂覆設備的捕水機構時，可以多個捕水機構交替除霜，如此即可以保證捕水效率，也可以提高工作效率。綜上所述，本實用新型真空涂覆設備的捕水機構避免了每次真空倉體I開門前都需要進行加熱除霜操作，節約了生產時間同時也降低了產能的消耗。
[0027]圖4給出了本實用新型真空涂覆設備的捕水機構的另一個實施例，該實施例中，真空涂覆設備的捕水機構與第一個實施例中不同的是:其調整機構4包括氣缸41、設于氣缸41內部的柱塞42和一端與柱塞42通過螺栓固定相連的連桿43,該連桿43的另一端與蓋體22通過螺栓固定相連，氣缸41與本體21為一體成型結構。柱塞42與連桿43相連的一側設有彈簧44,另一側與氣缸41圍成氣腔45,該彈簧44與連桿43套接,彈簧44的一端與柱塞42相連，另一端與氣缸41的內壁相連，冷阱倉體2上設有進氣管5，氣腔45與進氣管5相連通，通過進氣管5可以為氣腔45提供所需的氣壓。
[0028]該實施例與第一個實施例中的其它部分的結構相同，它同樣能夠實現相同的技術效果。
[0029]當使用本實施例中真空涂覆設備的捕水機構的真空涂覆設備的真空倉體I關門抽真空時，如圖4所示，通過進氣管5向第二氣腔45中通入高壓空氣，此時柱塞42被推動向上運動，與柱塞42相連的連桿43會向上推動蓋體22運動，即調整機構4控制蓋體22與本體21分離，此時冷阱倉體2的腔室與真空倉體I的腔室相連通，制冷盤管3超低溫表面能夠有效地奪取腔室中的水蒸氣，從而實現真空倉體I的真空腔室被快速抽真空。
[0030]當使用本實施例中真空涂覆設備的捕水機構的真空涂覆設備的真空倉體I需要開門取出成品時，氣腔45通過進氣管5與低壓空氣相連通，此時在彈簧44的回復力作用下，柱塞42被推動向下運動，與柱塞42相連的連桿43會向下拉動蓋體22運動，即調整機構4控制蓋體22與本體21氣密封配合，此時冷阱倉體2的腔室與真空倉體I的腔室斷開連通，因此可以直接打開真空倉體I的倉門，而不需要每次開門前都需要有加熱除霜裝置對制冷盤管3進行加熱。
[0031]以上僅是本實用新型的一些實施方式，應當指出，對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型創造構思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本實用新型的保護范圍。
【權利要求】
1.真空涂覆設備的捕水機構，其特征在于，包括固定在真空倉體(I)上的冷阱倉體(2)、設于冷阱倉體(2)內部的制冷盤管(3)和與冷阱倉體(2)相連的調整機構(4)，所述冷阱倉體(2)包括本體(21)和與本體(21)相匹配的蓋體(22)，所述蓋體(22)位于真空倉體Cl)的內部，所述蓋體(22)與調整機構(4)相連。
2.根據權利要求1所述的真空涂覆設備的捕水機構，其特征在于，所述制冷盤管(3)為螺旋狀，其一端為冷媒的流入端(31)，另一端為冷媒的流出端(32)，所述流入端(31)和流出端(32)均由冷阱倉體(2)的內部向外部延伸出。
3.根據權利要求2所述的真空涂覆設備的捕水機構，其特征在于，所述調整機構(4)設于冷阱倉體(2)內部，所述調整機構(4)包括氣缸(41)、設于氣缸(41)內部的柱塞(42)和一端與柱塞(42)相連的連桿(43)，所述連桿(43)的另一端與蓋體(22)相連，所述氣缸(41)固定在本體(21)上。
4.根據權利要求3所述的真空涂覆設備的捕水機構，其特征在于，所述柱塞(42)與連桿(43)相連的一側設有彈簧(44),另一側與氣缸(41)圍成氣腔(45),所述彈簧(44)與連桿(43)套接，所述彈簧(44)的一端與柱塞(42)相連，另一端與氣缸(41)的內壁相連。
5.根據權利要求4所述的真空涂覆設備的捕水機構，其特征在于，還包括進氣管(5)，所述進氣管(5)與氣腔(45)相連通。
6.根據權利要求3所述的真空涂覆設備的捕水機構，其特征在于，所述柱塞(42)和連桿(43)相連的一側與氣缸(41)圍成第一氣腔(451)，另一側與氣缸(41)圍成第二氣腔(452)。
7.根據權利要求6所述的真空涂覆設備的捕水機構，其特征在于，還包括第一進氣管(51)和第二進氣管(52)，所述第一進氣管(51)與第一氣腔(451)相連通，所述第二進氣管(52)與第二氣腔(452)相連通。
8.根據權利要求1所述的真空涂覆設備的捕水機構，其特征在于，還包括抽真空管(6)，所述抽真空管(6)與冷阱倉體(2)的內腔相連通。
9.根據權利要求1?8任一項所述的真空涂覆設備的捕水機構，其特征在于，所述蓋體(22)的周圍設有密封圈(221)。
【文檔編號】C23C14/56GK203668509SQ201420020266
【公開日】2014年6月25日 申請日期:2014年1月13日 優先權日:2014年1月13日
【發明者】劉雙良, 雷志缽 申請人:東莞市華星納米科技有限公司