蒸發源的制作方法

本發明屬于真空蒸鍍技術領域，具體涉及一種蒸發源。

背景技術：

在真空蒸鍍過程中，需要通過蒸發源將蒸鍍材料蒸發(或升華)為蒸氣，蒸氣在待蒸鍍物體表面凝結后形成膜層。因此，蒸發源產生的蒸氣是否均勻，對所形成的膜層的質量是十分重要的。蒸發源通常為“線源”形式，其包括長條形的腔室，腔室頂部均勻開設有多個出氣孔，底部則連接坩堝，坩堝用于盛放蒸鍍材料并將其蒸發，產生的蒸氣進入腔室后并從出氣孔排出。

一種現有的蒸發源如圖1所示，其腔室1底部多個不同位置分別連接坩堝2。這種蒸發源的腔室1不同位置的氣壓不同，正對坩堝2處氣壓高，相應出氣孔19的出氣量也大，遠離坩堝2的出氣孔19的出氣量則小，由此導致蒸發源產生的蒸氣均勻性差。

另一種現有的蒸發源如圖2所示，其腔室1底部連接有一個長條形的大坩堝2。但是，由于該坩堝2為長度較大的長條形，故向其中加入蒸鍍材料時難以保證加料均勻，且也難以保證坩堝2所有位置的加熱均勻，故這樣的蒸發源同樣存在產生的蒸氣均勻性差的問題。

技術實現要素：

本發明至少部分解決現有的蒸發源產生的蒸氣均勻性差的問題，提供一種可產生均勻的蒸氣的蒸發源。

解決本發明技術問題所采用的技術方案是一種蒸發源，其包括：

腔室，其分為多個區域，每個區域中設有至少一個出氣孔以及至少一個氣壓傳感器；

多個與所述腔室相連的坩堝，每個所述坩堝用于向腔室的至少一個區域供應蒸氣。

優選的是，所述腔室內部通過隔墻分割為多個互不連通的隔間，每個所述隔間為一個區域。

優選的是，每個所述坩堝用于為多個區域提供蒸氣；所述坩堝和與其對應的每個區域間通過一條輸氣管相連。

進一步優選的是，與同一坩堝相連的多條輸氣管的結構相同。

進一步優選的是，每個所述坩堝用于為2至3個區域提供蒸氣。

進一步優選的是，所述蒸發源還包括：用于調節所述輸氣管中氣體流量的調節機構。

進一步優選的是，所述調節機構為管狀，連接在所述腔室與輸氣管之間，其包括：第一固定端和第二固定端，二者中的一個與腔室相連，另一個與輸氣管相連；旋轉部，連接在第一固定端和第二固定端之間，并能相對第一固定端和第二固定端旋轉；第一擋片，設于第一固定端內側與旋轉部相連處，擋住第一固定端內通道的一部分；第二擋片，設于旋轉部內側與第一固定端相連處，擋住旋轉部內通道的一部分。

優選的是，所述蒸發源還包括：控制單元，與各氣壓傳感器和坩堝連接，用于根據各所述氣壓傳感器的檢測結果控制各坩堝的加熱溫度。

優選的是，所述蒸發源包括2至3個坩堝。

優選的是，每個所述區域設有2至3個出氣孔。

本發明的蒸發源包括多個坩堝，每個坩堝主要向腔室的部分位置(一個或多個區域)提供蒸氣，每個區域中設有用于檢測氣壓的氣壓傳感器，而氣壓體現了相應區域中蒸氣的流量，也就是體現了相應出氣孔的出氣量。由此，只要根據氣壓傳感器的檢測結果對相應區域的供氣進行調節(如調節相應坩堝的加熱溫度，或調節坩堝向區域的氣體流量等)，即可提高蒸發源整體(即多個不同區域)產生的蒸氣的均勻性。

附圖說明

圖1為現有的一種蒸發源的結構示意圖；

圖2為現有的另一種蒸發源的結構示意圖；

圖3為本發明的實施例的一種蒸發源的結構示意圖；

圖4為本發明的實施例的一種蒸發源中調節機構的結構示意圖；

圖5為本發明的實施例的一種蒸發源中調節機構的擋片在不同重疊狀況時的示意圖；

其中，附圖標記為：1、腔室；11、區域；19、出氣孔；2、坩堝；3、輸氣管；5、氣壓傳感器；6、調節機構；61、第一固定端；62、第二固定端；63、旋轉部；651、第一擋片；652、第二擋片。

具體實施方式

為使本領域技術人員更好地理解本發明的技術方案，下面結合附圖和具體實施方式對本發明作進一步詳細描述。

實施例1：

如圖3至圖5所示，本實施例提供一種蒸發源，該蒸發源用于在真空蒸鍍系統中產生蒸鍍用的蒸氣。

具體的，以上蒸發源包括：

腔室1，其分為多個區域11，每個區域11中設有至少一個出氣孔19以及至少一個氣壓傳感器5；

多個與腔室1相連的坩堝2，每個坩堝2用于向腔室1的至少一個區域11供應蒸氣。

本實施例的蒸發源包括多個坩堝2，每個坩堝2主要向腔室1的部分位置(一個或多個區域11)提供蒸氣，每個區域11中設有用于檢測氣壓的氣壓傳感器5，而氣壓體現了相應區域11中蒸氣的流量，也就是體現了相應出氣孔19的出氣量。由此，只要根據氣壓傳感器5的檢測結果對相應區域11的供氣進行調節(如調節相應坩堝2的加熱溫度，或調節坩堝2向區域11的氣體流量等)，即可提高蒸發源整體(即多個不同區域11)產生的蒸氣的均勻性。

優選的，腔室1為長條形；多個區域11沿腔室1的長度方向依次排布；各出氣孔19沿腔室1的長度方向依次排布。

也就是說，如圖3所示，本實施例的蒸發源優選為“線源”的形式，其整體為長條形，而各出氣孔19也沿其長度方向排布。

優選的，蒸發源包括2至3個坩堝2。

雖然坩堝2數量越多越有利于提高蒸氣的均勻性，但若坩堝2太多，則難以對所有坩堝2進行準確控制，且坩堝2間距離太近，容易相互影響，故總共有2至3個坩堝2是比較優選的。

優選的，每個區域11設有2至3個出氣孔19。

根據氣壓傳感器5的反饋進行調節，可實現不同區域11間蒸氣量的均勻，但如果一個區域11過大，其中的出氣孔19過多，則這些出氣孔19的出氣量也會存在不均勻，故優選每個區域11僅對應2至3個出氣孔19，且每個區域11的形狀太小完全一致。

優選的，腔室1內部通過隔墻分割為多個互不連通的隔間，每個隔間為一個區域11。

顯然，如果腔室1的不同區域11是相互連通的，則雖然各坩堝2是為不同區域11供氣，但不同區域11間仍會存在氣體流動，故一個區域11氣壓的變化會對其它區域11產生影響，故難以準確對各區域11的氣壓進行調節。因此，優選如圖3所示，腔室1的各區域11是相互不導通的隔間，這樣各隔間(區域11)中的氣壓相互獨立，可實現更準確的調節。

優選的，每個坩堝2用于為多個區域11提供蒸氣；坩堝2和與其對應的每個區域11間通過一條輸氣管3相連。

顯然，當一個坩堝2對應多個區域11時，各區域11與坩堝2的相對位置必然存在一定的差別，故仍可能存在靠近坩堝2的區域11中蒸氣量大，遠離坩堝2的區域11中蒸氣量小的問題。為此，可如圖3所示，讓每個坩堝2通過輸氣管3與多個區域11(如隔間)相連，顯然，坩堝2中產生的蒸氣會比較均勻的進入各條輸氣管3，由此，與不同輸氣管3相連的區域11雖然與坩堝2的距離相差較大，但各自獲得的蒸氣量卻很接近，可進一步提高蒸發源的產生的蒸氣均勻性。

更優選的，與同一坩堝2相連的多條輸氣管3的結構相同。

也就是說，與同一坩堝2相連的多條輸氣管3優選具有相同的材質、內徑、外徑、長度等，從而保證它們結構相同，這樣更有利于保證進入每條輸氣管3中的蒸氣量相同。

更優選的，每個坩堝2用于為2至3個區域11提供蒸氣。

如圖3所示，雖然是通過輸氣管3傳輸蒸氣，但由于各區域11與坩堝2的相對位置不同，故相應的輸氣管3也不可能完全相同，如果一個坩堝2連接的輸氣管3過多，則不同輸氣管3的狀況相差太大，進而使輸氣管3中的蒸氣量差別很大，也不利于提高蒸氣的均勻性，故每個坩堝2對應2至3個區域11是優選的。

優選的，蒸發源還包括控制單元，與各氣壓傳感器5和坩堝2連接，用于根據各氣壓傳感器5的檢測結果控制各坩堝2的加熱溫度。

也就是說，各坩堝2的加熱狀況(如通入加熱絲的電流)是由控制單元(圖中未示出)控制的，而控制單元則根據各氣壓傳感器5的檢測結果控制坩堝2的加熱。具體的，若發現對應某個坩堝2的多個區域11中的氣壓都偏大(如偏差2％以上)，則降低相應坩堝2的加熱溫度，反之則提高相應坩堝2的加熱溫度，從而實現自動的根據氣壓的反饋控制。

更優選的，蒸發源還包括用于調節輸氣管3中氣體流量的調節機構6。

顯然，若一個坩堝2對應多個區域11，則調節坩堝2的加熱溫度必然對與其相應的所有區域11都造成影響，而無法消除這些區域11之間的氣壓不均。為此，對于以上每個坩堝2通過輸氣管3與多個區域11(如隔間)相連的例子，則可設置調節機構6調節各輸氣管3中的氣體流量，當與同一個坩堝2對應的多個區域11中的氣壓不同(如偏差2％以上)時，則對相應的輸氣管3中的氣體流量進行調節，從而實現對與同一坩堝2相連的多個區域11的氣壓的獨立的調節。

進一步優選的，調節機構6為管狀，連接在腔室1與輸氣管3之間，其包括：第一固定端61和第二固定端62，二者中的一個與腔室1相連，另一個與輸氣管3相連；旋轉部63，連接在第一固定端61和第二固定端62之間，并能相對第一固定端61和第二固定端62旋轉；第一擋片651，設于第一固定端61內側與旋轉部63相連處，擋住第一固定端61內通道的一部分；第二擋片652，設于旋轉部63內側與第一固定端61相連處，擋住旋轉部63內通道的一部分。

如圖4所示，調節機構6整體上是連接在腔室1與輸氣管3之間的管子，調節機構6的一個固定端連接腔室1，另一個固定端連接輸氣管3，且而兩個固定端之間設有可旋轉的旋轉部63，第一固定端61與旋轉部63相接處有第一擋片651，旋轉部63內側與第一固定端61相接處有第二擋片652。這樣，如圖5所示，當旋轉部63相對第一固定端61旋轉時，第一擋片651和第二擋片652的重疊面積也隨之改變，即調節機構6內可通過氣的通道的截面積變化，從而改變輸氣管3中的氣體流量。

其中，坩堝2和調節機構6可均位于真空蒸鍍設備的真空腔內，從而在真空蒸鍍過程中可只檢測氣壓，而在真空蒸鍍結束后的保養過程中再相應的旋轉該旋轉部63進行調節。或者，也可以將坩堝2和調節機構6設于真空腔外，而只有腔室1設于真空腔內，從而可在真空蒸鍍過程中實時的手動旋轉該旋轉部63進行調節。或者，也可設置驅動器(如電機等)驅動旋轉部63旋轉(這樣調節機構6可位于真空腔內，也可位于真空腔外)，而驅動器也受控制單元控制，從而可在真空蒸鍍過程中自動的實時旋轉該旋轉部63進行調節。

當然，調節機構6的具體形式并不限于此。例如，若輸氣管3是由柔性材料構成的，則調節機構6也可為夾在輸氣管3上的夾子，通過對輸氣管3施加不同的夾持力使輸氣管3產生不同的變形，也可改變其中的氣體流量。

可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發明的原理而采用的示例性實施方式，然而本發明并不局限于此。對于本領域內的普通技術人員而言，在不脫離本發明的精神和實質的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發明的保護范圍。