1.一種制備銀納米點陣結構的裝置，其特征在于：包括工作臺，所述工作臺上設有門形支架以及用于放置硝酸銀溶液的容器，所述支架的橫梁上設有吊裝基片的提拉機構，所述支架的兩側梁上設有相向的紫外照射燈，所述橫梁上還設有限制所述基片提拉高度的限位機構。
2.根據權利要求1所述的制備銀納米點陣結構的裝置，其特征在于：所述提拉機構包括通過軸承套設在所述橫梁上、卷繞有提拉繩的轉筒，所述提拉繩的一端設有夾持所述基片的抓手，所述轉筒由設置在所述工作臺的驅動機構驅動轉動。
3.根據權利要求2所述的制備銀納米點陣結構的裝置，其特征在于：所述限位機構包括兩設置在所述橫梁上、分別位于所述轉筒兩側的連桿，兩所述連桿端部均設有擋片，兩所述擋片之間的間距能夠供所述基片穿過，兩所述擋片的底端上均安裝有光電傳感器，兩所述光電傳感器相向設置。
4.根據權利要求2所述的制備銀納米點陣結構的裝置，其特征在于：所述驅動機構為電機，所述電機的輸出軸及所述轉筒上設有帶輪，兩所述帶輪由同步帶傳動連接。
5.根據權利要求1所述的制備銀納米點陣結構的裝置，其特征在于：所述容器的端口上覆蓋有鋁箔紙，所述鋁箔紙上設有供所述基片進出所述容器的開口。