本發明涉及物理氣相沉積技術領域，尤其涉及一種鎂合金高亮鏡面的表面處理方法、鎂合金復合材料。
背景技術：
鎂合金材料具有密度小，強度高，消震性好，承受沖擊載荷能力大，散熱快，屏蔽性能好，易于回收的優點，廣泛用于攜帶式的器械、3c產品和汽車行業達到輕量化目的。
但表面處理是目前壓鑄鎂合金市場推廣的主要技術瓶頸，鎂的活性強極易氧化，其氧化膜(MgO)不致密且耐腐性能差。目前市面上的鎂合金3c外殼主要以黑色、灰色為主。
從技術上講，目前處理的工藝主要有陽極氧化、微弧氧化、表面滲層處理、金屬涂層、有機涂層以及表面改性等，對于高亮鎂合金外觀處理沒有較成熟之工藝，目前處理的工藝主要是鈍化加電泳，這種處理方式會導致光澤度降低、產品顏色發黑、耐腐耐磨性能達不到產品要求的缺陷，另外，生產過程中會產生廢水等環保問題。
技術實現要素：
本發明針對現有技術的不足，提供一種高致密、耐磨、防腐、防污的鎂合金材料表面處理的方法、鎂合金復合材料。
本發明通過以下技術手段實現解決上述技術問題的：一種鎂合金高亮鏡面的表面處理方法，包括如下步驟：
(1)將羊毛脂或者脫脂棉在酒精中完全浸潤后，固定在夾具上，對襯底進行往返式拋光；
(2)在真空環境下，使用紅外加熱燈對襯底進行加熱，同時，采用電子槍對第一陶瓷類介質進行加熱，第一陶瓷類介質蒸發附著在襯底表面，形成底層薄膜層；
(3)在真空清潔的條件下，充入惰性氣體，對底層薄膜層進行離子轟擊處理；
(4)在真空環境下，使用紅外加熱燈對步驟(3)的產物進行加熱；同時，采用電子槍對第二陶瓷類介質進行加熱，第二陶瓷類介質蒸發附著在底層薄膜表面，形成介質薄膜層；
(5)在真空環境中，使用電子槍對第三陶瓷類介質進行加熱，第三陶瓷類介質蒸發附著在介質薄膜層表面，形成介質過鍍薄膜層；
(6)對介質過鍍薄膜層進行離子轟擊處理；
(7)在真空環境下，采用電阻加熱蒸發的方式在介質過鍍薄膜層的表面形成氟化物層。
優選地，所述步驟(1)中酒精的純度大于或等于99.99％；拋光時，施加的壓力為2.5～3.5N。
優選地，所述步驟(2)抽真空至1.0E-3Pa～5.0E-3Pa；紅外加熱溫度區間80℃～150℃。
優選地，所述步驟(3)抽真空至6.0E-3PA；離子轟擊處理時間為3～6min。
優選地，所述步驟(4)抽真空至13Pa～8.0E-3Pa；紅外加熱溫度區間80℃～150℃。
優選地，所述步驟(5)的抽真空至1.0E-3Pa～5.0E-3Pa。
優選地，所述步驟(6)的離子轟擊處理時間為3～10min。
優選地，所述步驟(7)的抽真空至1.0E-3Pa～5.0E-3Pa，所述氟化物為MgF2或CeF3。
一種使用上述的鎂合金高亮鏡面的表面處理方法處理得到的鎂合金復合材料，所述鎂合金復合材料從內之外依次包括襯底層、底層薄膜層、介質薄膜層、介質過鍍薄膜層、氟化物層。
優選地，所述底層薄膜層厚度為0.01～0.1um；所述介質薄膜層的厚度為0.2～1.5um；所述介質過鍍薄膜層的厚度為0.01～0.03um；所述氟化物層的厚度為0.1um～0.2um。
本發明的優點在于：本發明利用物理氣相沉積針對鎂合金材料進行高亮表面處理，把固(液)體鍍料在高真空狀態下通過高溫蒸發、電子束、等離子體、離子束在固態表面沉積凝聚生成固態透明薄膜，針對膜層的結合力、勻性較差，在沉積過程提升成膜環境溫度，同時復合膜層每層加入離子轟擊清潔表面消除應力以提升膜層的附著力。并采用疏水性氟化物以提升材料的耐磨性、防腐性、防污性。
相比現有技術而言具有以下優點：
(1)材料表面抗腐蝕有明顯提升，能滿足手機、筆記本等各種消費電子相關產品的應用。材料抗腐蝕有效提升2倍以上，可以滿足pH4.6溶液浸泡48h以上不腐蝕。
(2)具有防污功能，表面污染物可以方便的使用紙巾毛巾擦拭清潔。
(3)涂層表面摩擦系數低，手感光滑，處理后表面水立角測試>90度，最大值118度。
(4)另外，由于本發明采用了光學介質材料，可以產生干涉效應，增加光線的散射反射，提高了10％～15％的表面光澤。
具體實施方式
為進一步描述本發明，下面結合實施例對其作進一步說明。
實施例1
一種鎂合金高亮鏡面的表面處理方法，包括如下步驟：
(1)將羊毛脂或者脫脂棉在酒精中完全浸潤后，固定在夾具上，襯底進行往返式拋光，對其表面進行處理。
(2)在真空環境下，使用紅外加熱燈對襯底進行加熱，同時，采用電子槍對第一陶瓷類介質進行加熱，第一陶瓷類介質蒸發附著在襯底表面，形成底層薄膜層；該薄膜親陶瓷類氧化物，能提升附著力。
(3)在真空清潔的條件下，充入惰性氣體，對底層薄膜層進行離子轟擊處理；清潔表面，在拋光面形成輕微蝕刻，同時消除材料間的應力，以提高后續涂層的附著力。
(4)在真空環境下，使用紅外加熱燈對步驟(3)的產物進行加熱；同時，采用電子槍對第二陶瓷類介質進行加熱，第二陶瓷類介質蒸發附著在底層薄膜表面，形成介質薄膜層。
(5)在真空環境中，使用電子槍對第三陶瓷類介質進行加熱，第三陶瓷類介質蒸發附著在介質薄膜層表面，形成介質過鍍薄膜層；該薄膜親氟化物，提升附著力。
(6)對介質過鍍薄膜層進行離子轟擊處理，以消除介質層應力。
(7)在真空環境下，采用電阻加熱蒸發的方式在介質過鍍薄膜層的表面形成氟化物層。使材料表面具有疏水性能，降低材料的摩擦系數，使材料具有防污能力。
實施例2
一種鎂合金高亮鏡面的表面處理方法，包括如下步驟：
(1)將羊毛脂或者脫脂棉在酒精中完全浸潤后，固定在夾具上，襯底進行往返式拋光；其中，酒精的純度為99.99％；拋光時，施加的壓力為2.5N。
(2)在1.0E-3Pa的真空環境下，使用紅外加熱燈對襯底進行加熱至80℃，同時，采用電子槍產生高能電子束對第一陶瓷類介質進行加熱，第一陶瓷類介質蒸發附著在襯底表面，形成底層薄膜層；
(3)在6.0E-3PA的真空清潔的條件下，充入惰性氣體，如氬氣，對底層薄膜層進行離子轟擊處理轟擊3min；
(4)在13Pa的真空環境下，使用紅外加熱燈對步驟(3)的產物進行加熱至80℃；同時，采用電子槍對第二陶瓷類介質進行加熱，第二陶瓷類介質蒸發附著在底層薄膜表面，形成介質薄膜層；
(5)在1.0E-3Pa的真空環境中，使用電子槍對第三陶瓷類介質進行加熱，第三陶瓷類介質蒸發附著在介質薄膜層表面，形成介質過鍍薄膜層；
(6)對介質過鍍薄膜層進行離子轟擊處理3min；
(7)在1.0E-3Pa真空環境下，采用電阻加熱蒸發的方式在介質過鍍薄膜層的表面形成MgF2層。
實施例3
一種鎂合金高亮鏡面的表面處理方法，包括如下步驟：
(1)將羊毛脂或者脫脂棉在酒精中完全浸潤后，固定在夾具上，襯底進行往返式拋光；其中，酒精的純度大于99.99％；拋光時，施加的壓力為3N。
(2)在2.0E-3Pa的真空環境下，使用紅外加熱燈對襯底進行加熱至100℃，同時，采用電子槍產生高能電子束對第一陶瓷類介質進行加熱，第一陶瓷類介質蒸發附著在襯底表面，形成底層薄膜層；
(3)在6.0E-3PA的真空清潔的條件下，充入惰性氣體，如氬氣，對底層薄膜層進行離子轟擊處理轟擊4min；
(4)在2.0E-3Pa的真空環境下，使用紅外加熱燈對步驟(3)的產物進行加熱至100℃；同時，采用電子槍對第二陶瓷類介質進行加熱，第二陶瓷類介質蒸發附著在底層薄膜表面，形成介質薄膜層；
(5)在3.0E-3Pa的真空環境中，使用電子槍對第三陶瓷類介質進行加熱，第三陶瓷類介質蒸發附著在介質薄膜層表面，形成介質過鍍薄膜層；
(6)對介質過鍍薄膜層進行離子轟擊處理7min；
(7)在3.0E-3Pa真空環境下，采用電阻加熱蒸發的方式在介質過鍍薄膜層的表面形成CeF3層。
實施例4
一種鎂合金高亮鏡面的表面處理方法，包括如下步驟：
(1)將羊毛脂或者脫脂棉在酒精中完全浸潤后，固定在夾具上，襯底進行往返式拋光；其中，酒精的純度為99.99％；拋光時，施加的壓力為3.5N。
(2)在5.0E-3Pa的真空環境下，使用紅外加熱燈對襯底進行加熱至150℃，同時，采用電子槍產生高能電子束對第一陶瓷類介質進行加熱，第一陶瓷類介質蒸發附著在襯底表面，形成底層薄膜層；
(3)在6.0E-3PA的真空清潔的條件下，充入惰性氣體，如氬氣，對底層薄膜層進行離子轟擊處理轟擊6min；
(4)在8.0E-3Pa的真空環境下，使用紅外加熱燈對步驟(3)的產物進行加熱至150℃；同時，采用電子槍對第二陶瓷類介質進行加熱，第二陶瓷類介質蒸發附著在底層薄膜表面，形成介質薄膜層；
(5)在5.0E-3Pa的真空環境中，使用電子槍對第三陶瓷類介質進行加熱，第三陶瓷類介質蒸發附著在介質薄膜層表面，形成介質過鍍薄膜層；
(6)對介質過鍍薄膜層進行離子轟擊處理10min；
(7)真空環境下，采用電阻加熱蒸發的方式在介質過鍍薄膜層的表面形成MgF2層。
實施例5
一種使用上述的鎂合金高亮鏡面的表面處理方法處理得到的鎂合金復合材料，所述鎂合金復合材料從內之外依次包括襯底層、底層薄膜層、介質薄膜層、介質過鍍薄膜層、氟化物層。
在有些實施例中，所述底層薄膜層厚度為0.01～0.1um；所述介質薄膜層的厚度為0.2～1.5um；所述介質過鍍薄膜層的厚度為0.01～0.03um；所述氟化物層的厚度為0.1um～0.2um。
實施例6
本發明實施例2-4的復合材料進行表面性能測試，其中實施例2中底層薄膜層厚度為0.01um、薄膜層的厚度為0.2um、介質過鍍薄膜層的厚度為0.01um、氟化物層的厚度為0.1um。實施例3中底層薄膜層厚度為0.08um；介質薄膜層的厚度為1um；介質過鍍薄膜層的厚度為0.02um；氟化物層的厚度為0.15um.實施例4中的底層薄膜層厚度為0.1um、介質薄膜層的厚度為1.5um、介質過鍍薄膜層的厚度為0.03um、氟化物層的厚度為0.2um。
本發明采用的底層薄膜層及過渡薄膜層介質優選為TiO2，第二陶瓷類介質薄膜層采用ZrO2，也可以采用Al2O3或其他現有的陶瓷類氧化物。厚度選擇根據外觀顏色、測試要求作調整，溫度選擇根據膜層厚度作調整。當然，本發明的各光學介質均采用ZrO2、SiO2、Al2O3、TiO2或其他陶瓷類氧化物，也應該在本發明的保護范圍之內。
表面性能測試：緩沖液(PH4.6)浸泡48h測試、高溫高濕(50℃、95％濕度)72h的測試、鹽霧(35℃、PH8.0)72h測試、高低溫(--40℃、80℃)72h沖擊測試，觀察材料表面外觀點蝕、線蝕及面蝕現象。
測試后，本發明相對表面處理前的材料其抗腐蝕有效提升2倍以上，能滿足pH4.6溶液浸泡48h以上不腐蝕。具有防污功能，表面污染物可以方便的使用紙巾毛巾擦拭清潔。涂層表面摩擦系數低，手感光滑，處理后表面水立角測試>90度，最大值118度。增加光線的散射反射，提高產品的表面光澤(10％～15％)。
以上僅為本發明創造的較佳實施例而已，并不用以限制本發明創造，凡在本發明創造的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本發明創造的保護范圍之內。