技術特征：
技術總結
本發明涉及一種抗氧化型真空鍍膜裝置，包括卷繞室和鍍膜室，卷繞室中設置有放卷輥、放膜過渡輥、第一張力調節輥、第一展平輥、冷卻輥、壓輥、第二張力調節輥、導輥、第二展平輥、牽引輥和收券輥，鍍膜室中設置有送絲機構、熔融坩堝、排液管、工位轉盤、步進電機、底板。該抗氧化型真空鍍膜裝置適用于鍍銀/鋅型金屬化薄膜的真空鍍膜作業，利用離心力配合擋錐降低從蒸發坩堝中噴出的鋅或銀金屬蒸氣中氧化物顆粒的含量，能夠避免蒸發坩堝中噴出的鋅或銀金屬蒸氣四處逃逸，蒸發坩堝中噴出的鋅或銀蒸氣集中成束，方向性好，可控性高，鋅或銀蒸氣利用率高，蒸鍍形成的金屬鍍層結構致密、成分均勻。
技術研發人員：宋仁祥;宋仁喜;吳義超;汪志彬
受保護的技術使用者：安徽省寧國市海偉電子有限公司
技術研發日：2017.07.13
技術公布日：2017.10.17