掩膜板的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種掩膜板，該掩膜板包括圖形部分和邊框部分，還包括：切割線結構，所述切割線結構作為所述圖形部分和所述邊框部分的分界線，沿著所述切割線結構的延伸方向，所述掩膜板能夠被折斷；未刻蝕部分，位于所述切割線結構的至少一個端部區域或中間區域，所述未刻蝕部分到所述掩膜板邊緣的距離大于預設長度值。通過本實用新型，達到了有效地緩解手動折斷掩膜板而產生的邊緣褶皺或翹起的發生的效果。
【專利說明】
掩膜板
技術領域
[0001]本實用新型涉及顯示技術領域，尤其是涉及一種掩膜板。
【背景技術】
[0002]精細金屬掩膜(FMM Mask)模式是通過蒸鍍方式將0LED(0rganic Light-EmittingD1de，有機發光二極管)材料按照預定程序蒸鍍到LTPS( Low Temperature Poly-si I icon，低溫多晶硅)背板上，利用FMM上的圖形，蒸鍍紅綠藍有機物到規定位置上。
[0003]在使用FMM Mask的過程中，需要將先對FMM Mask進行張網和拉伸，再將其焊接到金屬框架上，因此FMM Mask在制作時需要預留出多余部分供拉伸時使用，焊接完成后再將多余部分去除。目前的FMM Mask生產工藝中，是在多余部分的邊緣預先刻蝕出切割線(Cutting Line)，焊接完成后由人工沿著切割線將多余部分折斷，其中，切割線是采用半刻蝕工藝形成的，因此其并沒有刻透FMM Mask，這樣設計的目的是保持FMM Mask的足夠硬度以避免輕易折斷，相對不刻蝕的方法又適當減小了FMM Mask的硬度以方便折斷。
[0004]對于FMM Mask上的切割線(Cutting Line)設計方式，目前主要采用在FMM Mask上設計非貫穿的Cutting Line設計，S卩在Cutting Line的兩個邊緣分別預留一未刻蝕區域(寬度為ΙΟΟμπι左右)，以此方式達到增加Cutting Line位置區域的強度，但是未刻蝕區域的存在會增加手動折斷多余部分時的難度，即使折斷也很容易在Cutting Line邊緣產生裙皺或翹起，褶皺或翹起的區域會影響FMM Mask和待蒸鍍基板的接觸，最終容易使顯示基板產生較大的陰影(Shadow)，降低產品良率。
【實用新型內容】
[0005]本實用新型的主要目的在于提供一種可以防止在折斷精細金屬掩膜的切割線的過程中容易在切割線邊緣產生褶皺或翹起的技術方案。
[0006]為了達到上述目的，本實用新型提供了一種掩膜板，包括圖形部分和邊框部分，還包括:切割線結構，所述切割線結構作為所述圖形部分和所述邊框部分的分界線，沿著所述切割線結構的延伸方向，所述掩膜板能夠被折斷;未刻蝕部分，位于所述切割線結構的至少一個端部區域或中間區域，所述未刻蝕部分到所述掩膜板邊緣的距離大于預設長度值。
[0007]優選地，還包括:開口結構，位于所述切割線結構在延伸方向上的至少一個端部區域，所述開口結構在所述切割線結構延伸方向上的寬度小于所述預設長度值，所述切割線結構在延伸方向上的延長線貫穿所述開口結構。
[0008]優選地，所述開口結構包括:分別位于所述切割線結構在延伸方向上的兩個端部區域的第一開口和第二開口。
[0009]優選地，所述第一開口在所述切割線結構延伸方向上的第一寬度與所述第二開口在所述切割線結構延伸方向上的第二寬度的范圍為0.5mm?1mm。
[0010]優選地，所述第一寬度與所述第二寬度相等。
[0011 ]優選地，所述第一開口和所述第二開口的形狀均為矩形。
[0012]優選地，所述第一開口垂直于所述切割線結構延伸方向的第一側邊的中點和所述第二開口垂直于所述切割線結構延伸方向的第二側邊的中點之間的連線與所述切割線結構的延伸線重合。
[0013]優選地，所述第一開口靠近所述圖形部分且平行于所述切割線結構延伸方向的第三側邊和所述第二開口靠近所述圖形部分且平行于所述切割線結構延伸方向的第四側邊的連線與所述切割線結構的延伸方向重合。
[0014]優選地，當所述未刻蝕部分位于所述切割線結構在延伸方向上的中間區域時，所述未刻蝕部分包括第一未刻蝕子部分和第二未刻蝕子部分，所述第一未刻蝕子部分和所述第二未刻蝕子部分將所述切割線結構分割為三部分。
[0015]優選地，所述第一未刻蝕子部分與所述第二未刻蝕子部分相對于所述切割線結構延伸方向對稱，且相對于所述切割線結構的中垂線對稱。
[0016]與現有技術相比，本實用新型所述的掩膜板，可以有效地緩解手動折斷掩膜板而產生的邊緣褶皺或翹起的發生，使掩膜板和玻璃基板接觸良好，從而避免蒸鍍完成的顯示面板出現陰影，進而提高顯示面板的產品良率。
【附圖說明】
[0017]圖1是根據現有技術的掩膜板的結構示意圖；
[0018]圖2是根據本實用新型實施例的一種掩膜板的結構示意圖；
[0019]圖3是根據本實用新型實施例的另一種掩膜板的結構示意圖；
[0020]圖4是根據本實用新型實施例的又一種掩膜板的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0021]下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型的一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領域的普通技術人員在沒有做出創造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。
[0022]目前，為了增加掩膜板的強度以防止掩膜板折斷，很多廠商采用未貫穿的切割線設計，掩膜板的兩側邊緣預留一定寬度(例如，ΙΟΟμπι)的未刻蝕區，但是在手動切除掩膜板多余部分的時候，由于兩側未刻蝕區的存在，中間部分先折斷，兩側部分后折斷，在中間部分折斷和兩側部分未折斷的過程中，由于手動施力的原因，很容易使兩側未刻蝕區域產生褶皺或翹起，影響掩膜板和基板的接觸狀態。為便于理解，請參考圖1 (圖1是根據現有技術的掩膜板的結構示意圖)，如圖1所示，兩側的虛線框區域即為在手動彎折掩膜板過程中容易發生褶皺或翹起的區域。
[0023]可以看出現有技術中，在切割線區域設置未刻蝕區域的方式不僅增加手動折斷多切割線的難度，而且容易在切割線的邊緣產生褶皺或翹起，因此本實用新型提出一種改進結構的掩膜板。
[0024]本實用新型實施例提供的掩膜板，包括圖形部分和邊框部分，其還包括:切割線結構，所述切割線結構作為所述圖形部分和所述邊框部分的分界線，沿著所述切割線結構的延伸方向，所述掩膜板能夠被折斷;未刻蝕部分，位于所述切割線結構的至少一個端部區域或中間區域，所述未刻蝕部分到所述掩膜板邊緣的距離大于預設長度值。
[0025]在本實用新型實施例中，未刻蝕部分的寬度可以與現有設計方式下的未刻蝕區域的寬度相當，例如，10um左右，但是未刻蝕部分的位置卻發生了改變，如圖1所示，現有技術中未刻蝕區域位于掩膜板的邊緣位置，掩膜板的邊緣即為未刻蝕區域的外側邊緣，也就是說，未刻蝕區域的外側邊緣與掩膜板的邊緣之間的距離是O。然而，本實用新型實施例中，未刻蝕部分的外側邊緣與掩膜板的邊緣之間是存在一定距離的，該距離的大小可以根據工藝需求進行設定，即大于預設長度值即可。
[0026]在本實用新型實施例中，未刻蝕部分的位置可以有兩種情況:
[0027](I)未刻蝕部分仍然位于所述切割線結構的端部，假設未刻蝕部分有I個，其可以位于所述切割線結構的任意一個端部區域，假設未刻蝕部分有2個，則該2個未刻蝕部分可以分別位于所述切割線結構的兩個端部區域，但是需要注意的是，不管是設置了 I個未刻蝕部分還是2個未刻蝕部分，其雖然位于所述切割線結構的端部區域，但其外側邊緣與掩膜板的邊緣是具有一定距離的。
[0028](2)未刻蝕部分位于所述切割線結構的中間區域，舉例而言，如果未刻蝕部分有I個，其會將所述切割線結構分割為兩段，如果未刻蝕部分有2個，其會將所述切割線結構分割為三段。
[0029]可以看出，相對于現有技術，未刻蝕部分的設置位置由掩膜板的邊緣移動到邊緣靠里的位置，這樣一來，在保證掩膜板的硬度的同時，可以避免折斷掩膜板邊緣時容易產生的褶皺。
[0030]相比于現有技術，本實用新型實施例中，還可以在掩膜板板上增加設置一個開口結構，該開口結構可以位于所述切割線結構在延伸方向上的至少一個端部區域，所述開口結構在所述切割線結構延伸方向上的寬度小于所述預設長度值，所述切割線結構在延伸方向上的延長線貫穿所述開口結構。
[0031]也就是說，所述切割線結構的中線的延長線是從開口結構通過的，只有這樣設計，在手動折斷掩膜板的過程中才可以避免在掩膜板的邊緣產生褶皺或翹起。否則，所述開口結構的設置位置如果偏離所述切割線結構的中線的延長線，則設置開口結構的意義就不喪失了。
[0032]而且，由于所述未刻蝕部分到所述掩膜板邊緣的距離大于預設長度值，而所述開口結構在所述切割線結構延伸方向上的寬度小于所述預設長度值，這樣一來，所述未刻蝕部分的外側邊緣到所述開口結構的內側邊緣之間也是具有一定距離的，當然，這也可以視為對所述未刻蝕部分適當加寬了一點，結構本質上沒有任何影響。
[0033]作為一個優選示例，所述開口結構可以包括:分別位于所述切割線結構在延伸方向上的兩個端部區域的第一開口和第二開口。也就是說，所述開口結構是由兩個開口組合而成的，由于開口結構會適當減小掩膜板的應力，導致其強度降低，因此，為了從整體上保證掩膜板的強度基板不發生變化，這種情況下，可以優選所述未刻蝕部分的個數為2個，當然，如果不考慮掩膜板的強度會適當降低，所述未刻蝕部分的個數也可以是I個。當設計個數為2個時，兩所述未刻蝕部分既可以分別位于所述切割線結構的兩端區域，也可以位于所述切割線結構的中間區域，但此種情況下，2個所述未刻蝕部分需要保持一定間隔而不能緊鄰設置，否則相當于只有I個未刻蝕部分，而未起到2個未刻蝕部分可以在掩膜板的不同區域起到支撐作用。
[0034]當然，相對于只有I個未刻蝕部分的情況，設置2個未刻蝕部分時必然會增加掩膜板的應力而提高掩膜板的硬度。
[0035]作為一個較佳的設計方式，所述第一開口在所述切割線結構延伸方向上的第一寬度與所述第二開口在所述切割線結構延伸方向上的第二寬度的范圍為0.5_?1_。
[0036]當然，0.5mm?Imm這寬度范圍只是一個避免裙皺或翹起發生效果較好的范圍，在實際設計中，并不限于該寬度范圍，而且，所述第一寬度與所述第二寬度可以采用相同的寬度，這樣手動折斷操作過程中，掩膜板自身可以承受更加均衡的力，也可以采用不同的寬度值。
[0037]至于所述第一開口的高度(即垂直于所述切割線結構延伸方向的方向上的長度值)和所述第二開口的高度(即垂直于所述切割線結構延伸方向的方向上的長度值)則不做限定，其可以是相同的長度值，也可以是不同的長度值。
[0038]作為一個較佳的設計方式，所述第一開口和所述第二開口的形狀均可以設計為矩形。在實際應用中，所述第一開口和所述第二開口的形狀也可以選用其它形狀，例如梯形等，但相比其他形狀，采用矩形的開口擁有更整齊的側邊，這樣一來，在掩膜板被折斷后，折斷的缺口邊緣更加整齊。
[0039]更進一步地，作為本實用新型實施例的一個優選設計方式，所述第一開口和所述第二開口的形狀均可以設計為正方形。
[0040]下面以所述未刻蝕部分的個數為2為例，根據所述未刻蝕部分位于所述線結構的端部區域或中間區域，分別情況對本實用新型實施例提供的掩膜板進行說明。
[0041 ] (I)當2個所述未刻蝕部分位于所述線結構的兩個端部區域時，以所述切割線結構在延伸方向上的延長線貫穿所述開口結構的位置，所掩膜板的結構可以有以下兩種:
[0042]結構一
[0043]圖2是根據本實用新型實施例的一種掩膜板的結構示意圖，如圖2所示，所述第一開口 10垂直于所述切割線結構20延伸方向的第一側邊11的中點和所述第二開口 30垂直于所述切割線結構20延伸方向的第二側邊31的中點之間的連線與所述切割線結構20的延伸線重合。
[0044]同時，兩個未刻蝕部分40分別位于所述切割線結構20與所述第一開口10、所述第二開口 30之間的區域(即所述切割線結構20的兩個端部區域)。
[0045]結構二
[0046]圖3是根據本實用新型實施例的另一種掩膜板的結構示意圖，如圖3所示，所述第一開口 10靠近所述圖形部分(圖3中未示出，位于圖3中的切割線結構20以下的區域)且平行于所述切割線結構20延伸方向的第三側邊12和所述第二開口 30靠近所述圖形部分(圖3中未示出，位于圖3中的切割線結構20以下的區域)且平行于所述切割線結構20延伸方向的第四側邊32的連線與所述切割線結構20的延伸方向重合。
[0047]同時，兩個未刻蝕部分40分別位于所述切割線結構20與所述第一開口10、所述第二開口 30之間的區域(即所述切割線結構20的兩個端部區域)。
[0048]采用上述兩種方式，雖然切割線兩側有未刻蝕部分，但是在折斷的過程中，中間的切割線部分還是會先折斷，未刻蝕部分后切斷，由于未刻蝕部分不在掩膜板的邊緣而在內部，因此采用同樣的折斷強度，未刻蝕部分的位置對邊緣產生的應力影響削弱，進而不容易對邊緣產生嚴重的褶皺或翹起。
[0049](2)當2個所述未刻蝕部分位于所述線結構的中間區域時，所掩膜板可以采用以下的結構:
[0050]結構三
[0051]圖4是根據本實用新型實施例的又一種掩膜板的結構示意圖，如圖4所示，所述未刻蝕部分包括第一未刻蝕子部分41和第二未刻蝕子部分42，所述第一未刻蝕子部分41和所述第二未刻蝕子部分42將所述切割線結構20分割為三部分。
[0052]而且，所述第一未刻蝕子部分41與所述第二未刻蝕子部分42相對于所述切割線結構20的延伸方向對稱，且相對于所述切割線結構20的中垂線對稱。
[0053]也就是說，具體到圖4所示的掩膜板，兩個未刻蝕子部分(41和42)與切割線結構20是一個左后對稱的結構，同時，兩個未刻蝕子部分(41和42)也可以相對于切割線結構20是對稱的。
[0054]該結構三中，把兩個未刻蝕子部分(41和42)放置在切割線結構的內部，這樣在進行手動折斷的時候，未刻蝕子部分41、42的兩側區域很容易先折斷，由于未刻蝕子部分的位置不在邊緣，采用同樣強度進行折斷操作時，折斷過程中產生的應力影響延伸到邊緣時已削弱很多，無法使邊緣產生嚴重的褶皺或翹起。
[0055]需要說明的是，上述三種結構之間，開口結構的設置位置和未刻蝕部分的設置位置是可以相互結合的，例如，在開口結構的位置不變的情況下，將結構一和結構二中的未刻蝕部分挪至切割線結構的中間區域，在未刻蝕部分的位置不變的情況下，在結構三中增加設置結構一和結構二中的開口結構，這些都是非常可行的結構設計。
[0056]通過本實用新型實施例，在掩膜板上保留未刻蝕區域(具有增加強度的作用)的情況下，在切割線兩側區域增加設置開口和/或和把未刻蝕的區域轉移到切割線內部的方式，可以緩解手動折斷掩膜板(Mask)而產生的邊緣褶皺，使掩膜板和玻璃基板接觸良好，從而避免蒸鍍完成的顯示面板出現陰影，進而提高顯示面板的產品良率。
[0057]以上所述是本實用新型的優選實施方式，應當指出，對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型所述原理的前提下，還可以做出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也應視為包含在本實用新型的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種掩膜板，包括圖形部分和邊框部分，其特征在于，還包括: 切割線結構，所述切割線結構作為所述圖形部分和所述邊框部分的分界線，沿著所述切割線結構的延伸方向，所述掩膜板能夠被折斷； 未刻蝕部分，位于所述切割線結構的至少一個端部區域或中間區域，所述未刻蝕部分到所述掩膜板邊緣的距離大于預設長度值。2.根據權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，還包括: 開口結構，位于所述切割線結構在延伸方向上的至少一個端部區域，所述開口結構在所述切割線結構延伸方向上的寬度小于所述預設長度值，所述切割線結構在延伸方向上的延長線貫穿所述開口結構。3.根據權利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述開口結構包括: 分別位于所述切割線結構在延伸方向上的兩個端部區域的第一開口和第二開口。4.根據權利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述第一開口在所述切割線結構延伸方向上的第一寬度與所述第二開口在所述切割線結構延伸方向上的第二寬度的范圍為0.5mm?Imm05.根據權利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述第一寬度與所述第二寬度相等。6.根據權利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述第一開口和所述第二開口的形狀均為矩形。7.根據權利要求6所述的掩膜板，其特征在于，所述第一開口垂直于所述切割線結構延伸方向的第一側邊的中點和所述第二開口垂直于所述切割線結構延伸方向的第二側邊的中點之間的連線與所述切割線結構的延伸線重合。8.根據權利要求6所述的掩膜板，其特征在于，所述第一開口靠近所述圖形部分且平行于所述切割線結構延伸方向的第三側邊和所述第二開口靠近所述圖形部分且平行于所述切割線結構延伸方向的第四側邊的連線與所述切割線結構的延伸方向重合。9.根據權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，當所述未刻蝕部分位于所述切割線結構在延伸方向上的中間區域時，所述未刻蝕部分包括第一未刻蝕子部分和第二未刻蝕子部分，所述第一未刻蝕子部分和所述第二未刻蝕子部分將所述切割線結構分割為三部分。10.根據權利要求9所述的掩膜板，其特征在于，所述第一未刻蝕子部分與所述第二未刻蝕子部分相對于所述切割線結構延伸方向對稱，且相對于所述切割線結構的中垂線對稱。
【文檔編號】C23C14/24GK205676528SQ201620603007
【公開日】2016年11月9日
【申請日】2016年6月17日 公開號201620603007.7, CN 201620603007, CN 205676528 U, CN 205676528U, CN-U-205676528, CN201620603007, CN201620603007.7, CN205676528 U, CN205676528U
【發明人】林治明, 王震, 黃俊杰, 張健, 周猛
【申請人】鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司, 京東方科技集團股份有限公司