一種低輻射鍍膜玻璃的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供了一種低輻射鍍膜玻璃，所述低輻射鍍膜玻璃包括玻璃基底和設置于玻璃基底表面的鍍層，所述鍍層包括金屬鎢層，所述金屬鎢層的厚度為2?7nm，所述鍍層的厚度為180?220nm。所述低輻射鍍膜玻璃采用濺射工藝制備得到。所述低輻射鍍膜玻璃能夠在滿足高遮陽、中性色的前提下盡可能的降低玻璃面反射的亮度從而很好的抑制了光污染的發生，具有室內外低反射的性能。
【專利說明】
一種低輻射鍍膜玻璃
技術領域
[0001] 本實用新型屬于玻璃技術領域，涉及一種低輻射鍍膜玻璃，尤其涉及一種含金屬 鎢層的低輻射鍍膜玻璃。
【背景技術】
[0002] 低輻射鍍膜玻璃，又稱Low-E玻璃，自20世紀90年代從歐美國家開始流行至今得到 了長足的發展。其之所以稱之為低輻射鍍膜玻璃，是由于這種玻璃在制造過程中需要在浮 法玻璃表面沉積一層或多層金屬材料，以對太陽光中的近紅外線和生活環境中的遠紅外線 起反射作用，從而降低玻璃對紅外線的吸收率和輻射率。此種玻璃用途廣泛既可用于家庭 窗戶，也可用于商店、寫字樓和高檔賓館的玻璃幕墻及其它需要的場所且目前市場反饋度 極好，是一種被客戶所認可的產品。夏天它可以有效阻止太陽光中的近紅外線進入室內，避 免室內溫度升高，節約空調費用;冬天它可阻止室內暖氣等產生的遠紅外線逸出室外，保持 室內溫度，節約取暖費用，能夠為用戶帶來經濟上的補償。
[0003] 然而，傳統的Low-E玻璃為了獲得更高的遮陽性能，往往只能通過提高銀層或NiCr 合金層的厚度以將盡量多的陽光反射，以此來降低太陽光總透過比，但這會導致玻璃的室 外反射以及室內反射的大幅攀升。較高的室外反射會造成城市的光污染;較高的室內反射 則會干擾室內人員的景觀觀察效果。遮陽和光污染改善成了兩難的課題。
[0004] CN 2473639Y公開了一種電腦護目鏡，所述電腦護目鏡由玻璃鏡片構成，在玻璃鏡 片上分別設置有四乙氧基硅烷鍍膜層，草酸二乙酯鍍膜層、氟化鎂鍍膜層、丙酮鍍膜層、氧 化鎬、鍍鎢膜層和氧化鎳鍍膜層。但是，所述護目鏡的作用為屏蔽電磁輻射、降低視屏射線 和靜電波，并沒有提及鍍鎢膜層用于玻璃上降低室內外光線反射的作用。
[0005] CN 103213348 A公開了一種三銀低輻射玻璃，包括玻璃基片和金屬膜層，在所述 玻璃基片上鍍有14層以納米計算的各金屬膜層，所述金屬膜層從內到外依次為Si 3N4層、ZnO 層、Ag 層、NiCr 層、ZnSnO 層、ZnO 層、Ag 層、NiCr 層、ZnSnO 層、ZnO 層、Ag 層、NiCr 層、ZnSnO 層、 Si3N4層。所述三銀低輻射玻璃更加節能，并且能大幅度的降低了輻射率，還有效的解決了銀 層氧化問題，和膜層抗劃傷問題。
[0006] CN 204725952 U公開了一種雙銀室內外超低反射的遮陽低輻射鍍膜玻璃，該玻璃 的層結構，自玻璃基板向外各層，依次是:介質層阻擋層、第一晶床介質層、可見光吸收層、 合金金屬保護層、第二晶床介質層、第一電介質層、第一干涉層、第一銀層，第一保護層、第 二電介質層、第二干涉層、第二銀層、第二保護層、第三電介質層;優點是:添加在單銀或雙 銀膜系以下的單獨的可見光吸收層Cu層對可見光起到吸收而不是反射的作用，這樣在提高 了遮陽性能的同時，不會帶來鍍膜玻璃室內反射或室外反射增加的負面效應。
[0007] 但是，以上所述的低輻射鍍膜玻璃在不增加玻璃厚度的情況下難以進一步降低室 內外反射光線的強度，因此，現有的Low-E玻璃有待改進。 【實用新型內容】
[0008] 針對現有技術存在的不足，本實用新型的目的在于提供一種低輻射鍍膜玻璃，所 述低輻射鍍膜玻璃能夠在滿足高遮陽、中性色的前提下盡可能的降低玻璃面反射的亮度從 而很好的抑制了光污染的發生，具有室內外低反射的性能。
[0009] 為達此目的，本實用新型采用以下技術方案：
[0010] 本實用新型的目的之一在于提供一種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基底和設置于 玻璃基底表面的鍍層，所述鍍層包括金屬鎢層，所述金屬鎢層的厚度為2_7nm，所述鍍層的 厚度為 180_220nm〇
[0011] 所述金屬媽層的厚度為 2_7nm，如 2.5nm、3nm、3.5nm、4nm、5nm、5.5nm或 6.5nm等，所 述鏈層的總厚度為 180_220nm，如 182nm、185nm、188nm、190nm、192nm、195nm、200nm、203nm、 205nm、208nm、212nm、215nm或218nm等，此時，所述低輻射鍍膜玻璃的性能最優。
[0012] 本實用新型所述的低輻射鍍膜玻璃通過在鍍層中增加金屬鎢層，并控制鍍層的總 厚度，能夠在滿足高遮陽、中性色的前提下盡可能的降低玻璃面反射的亮度從而很好的抑 制了光污染的發生，具有室內外低反射的性能。
[0013] 所述金屬鎢層通過濺射工藝得到，操作條件為:直流單靶，靶材為鎢，氣體成份為 純氬，氣壓為3.4Xl(T3mba r。采用其他工藝獲得的金屬鎢層與其他鍍層間的結合力不強，優 選為采用濺射工藝得到金屬鎢層。
[0014] 作為優選的技術方案，所述鍍層自玻璃基底向外依次為介質阻擋層、金屬鎢層、第 一金屬銀層、金屬銅層、第一合金金屬保護層、第一干涉層、第一介質層、第二干涉層、第二 金屬銀層、第二合金金屬保護層和第二介質層。
[0015]通過設置特定的鍍層，能夠使得所述低輻射鍍膜玻璃的性能達到最優。
[0016]所述低輻射鍍膜玻璃在原有雙銀結構上增加了金屬鎢層作為吸收層，起到了吸收 可見光的作用。由于在單銀膜層和玻璃基底之間夾有金屬鎢層，玻璃的光學性能得到了極 大的改善，不僅提高了玻璃的遮陽屬性，同時也進一步提高了玻璃的低輻射性能。之所以具 有以上的改善效果，是由于金屬銅層對可見光起到的是吸收作用，而不是反射作用，通過金 屬鎢層的吸收作用來降低太陽光的總透過比，不會導致玻璃的室外反射效果或室內反射效 果的增強。另外，金屬鎢有全光譜吸收的特性，因此在原有雙銀結構中加入金屬鎢也不會讓 玻璃顏色發生極大變化，有利于生產出中性顏色并且具有較高光學性能的玻璃。
[0017]所述介質阻擋層、第一介質層以及第二介質層的厚度獨立地為20-90nm，如25nm、 30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm、65nm、75nm、80nmi^85nn^〇
[0018] 優選地，所述介質阻擋層的厚度為3〇11111-8〇11111，如3511111、4〇11111、4511111、5〇11111、5511111、 60nm、65nm、70nm 或 75nm 等。
[0019] 優選地，所述介質阻擋層為鋅錫層。
[0020]優選地，所述第一介質層的厚度為3〇11111-8〇11111，如3511111、4〇11111、4511111、5〇11111、5511111、 60nm、65nm、70nm 或 75nm 等。
[0021 ]優選地，所述第二介質層的厚度為20nm-60nm，如 25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、 50nm 或 55nm 等。
[0022] 優選地，所述金屬銅層的厚度為5-1 Onm，如6nm、7nm、8nm或9nm等。
[0023] 所述第一干涉層及第二干涉層均為氧化鋅鋁。
[0024] 優選地，所述第一干涉層和第二干涉層的厚度獨立地為10-25nm，如12nm、15nm、 18nm、20nm 或 23nm 等。
[0025]所述第一合金金屬保護層以及第二合金金屬保護層為鎳鉻層。
[0026]所述第一合金金屬保護層以及第二合金金屬保護層的厚度獨立地為0.5-6nm，如 0·8nm、lnm、1·2nm、1·5nm、1·8nm、2nm、2·2nm、2·5nm、2·8nm、3·2nm、4·0nm、4·5nm、5·5nm或 5 · 8nm 等。
[0027] 優選地，所述第二合金金屬保護層的厚度為2-15nm，如3nm、5nm、8nm、10nm、12nmS 14nm 等。
[0028] 所述第一金屬銀層和第二金屬銀層的厚度獨立地為2_15nm，如3nm、5nm、8nm、 1 Onm、12nm 或 14nm 等。
[0029] 本實用新型的目的之二在于提供一種低輻射鍍膜玻璃的制作工藝，所述工藝為： 在玻璃基底上采用濺射工藝濺射含有金屬鎢層的鍍層，操作條件為:直流單靶，靶材為鎢， 氣體成份為純氬，氣壓為3.4X l(T3mbar，其中，金屬媽層的派射厚度為2-7nm，如2.5nm、3nm、 3 · 5nm、4nm、5nm、5 · 5nm或6 · 5nm等，所述鍍層的總厚度為200nm。
[0030] 作為優選的技術方案，所述工藝為在玻璃基底上采用濺射工藝依次濺射介質阻擋 層、金屬鎢層、第一金屬銀層、金屬銅層、第一合金金屬保護層、第一干涉層、第一介質層、第 二干涉層、第二金屬銀層、第二合金金屬保護層和第二介質層；
[0031] 優選地，所述濺射介質層阻擋層具體為:采用交流圓靶，靶材為鋅錫，氣體成份為 氬:氧= 7:10(表示氬氣與氧氣的體積比為7:10)，在氣壓為9XKT4mbar狀態下濺射;所述介 質阻擋層的厚度優選為30_80nm，如 35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm、65nm、70nm 或 75nm 等。
[0032] 優選地，所述濺射第一金屬銀層具體為:采用直流單靶，靶材為銀，氣體成份為純 氬，在氣壓為3 · 4 X 10-3mbar下派射;所述第一金屬銀層的厚度優選為2-15nm，如3nm、5nm、 8nm、1 Onm、12nm 或 14nm 等。
[0033] 優選地，所述濺射金屬銅層具體為:采用直流單靶，靶材為銅Cu，氣體成份為純氬， 在氣壓為3.4X l(r3mbar狀態下派射;所述金屬銅層的厚度優選為5-10nmJn6nm、7nm、8nmS 9nm 等。
[0034] 優選地，所述濺射第一合金金屬保護層具體為：采用直流單靶，靶材為鎳鉻NiCr， 氣體成份為純氬，在氣壓為1.2 X l(T3mbar狀態下濺射，所述第一合金金屬保護層的厚度優 選為0 · 5_6nm，如0 · 8nm、lnm、1 · 2nm、1 · 5nm、1 · 8nm、2nm、2 · 2nm、2 · 5nm、2 · 8nm、3 · 2nm、4 · Onm、 4 · 5nm、5 · 5nm或 5 · 8nm 等。
[0035] 優選地，所述濺射第一干涉層具體為:采用交流圓靶，靶材為氧化鋅鋁，氣體成份 為純氬，在氣壓為3.3 X l(T3mbar狀態下派射;所述第一干涉層的厚度優選為10-25nm，如 12nm、15nm、18nm、20nm 或 23nm 等。
[0036] 優選地，所述濺射第一介質層具體為:采用交流圓靶，靶材為鋅錫ZnSn，氣體成份 為氬:氧= 3:4(表示氬氣與氧氣的體積比為3:4)，在氣壓為4XKT3mbar狀態下濺射;所述第 一介質層的厚度優選為30_80nm，如 35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm、65nm、70nmS75nm 等。
[0037] 優選地，所述濺射第二干涉層具體為:采用交流圓靶，靶材為氧化鋅錫(ΑΖ0)，氣體 成份為純氬，在氣壓為2.3 X l(T3mbar狀態下濺射;所述第二干涉層的厚度優選為10-25nm， 如 12nm、15nm、18nm、20nm 或 23nm 等。
[0038] 優選地，所述濺射第二金屬銀層具體為:采用直流單靶，靶材為銀Ag，氣體成份為 純氬，在氣壓為3.3 X l(T3mbar狀態下派射，所述第二金屬銀層的厚度優選為2-15nm，如3nm、 5nm、8nm、1 Onm、12nm 或 14nm 等。
[0039] 優選地，所述濺射第二合金金屬保護層具體為：采用直流單靶，靶材為NiCr，氣體 成份為純氬，在氣壓為3.3 X l(T3mbar狀態下濺射，所述第二合金金屬保護層的厚度優選為 0·3_6nm，如0·8nm、lnm、1·2nm、1·5nm、1·8nm、2nm、2·2nm、2·5nm、2·8nm、3·2nm、4·Onm、 4 · 5nm、5 · 5nm或 5 · 8nm 等。
[0040] 優選地，所述濺射第二介質層具體為:采用交流圓靶，靶材為硅，氣體成份為氬:氮 =8:9(表示氬氣與氮氣的體積比為8:9)，在氣壓為5 X lOAibar狀態下濺射;所述第二介質 層的厚度優選為2CK60nm，如 25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm 或 55nm 等。
[0041] 與現有技術相比，本實用新型的有益效果為：
[0042] 本實用新型提供的低輻射鍍膜玻璃中含有金屬鎢層，金屬鎢層對可見光有極大 的吸收作用，添加了金屬鎢層之后，會在保證輻射率的情況下極大程度的吸收可見光，達到 降低室外面反射的效果并且提高了玻璃的遮陽性能，添加金屬鎢層后其遮陽效果至少提升 10%以上。
[0043] 本實用新型提供的低輻射鍍膜玻璃可以在滿足高遮陽、中性色的前提下盡可能的 降低玻璃面反射的亮度從而很好的抑制了光污染的發生。
【附圖說明】
[0044] 圖1為實施例1提供的低輻射鍍膜玻璃的膜層結構示意圖。
【具體實施方式】
[0045] 下面結合附圖并通過【具體實施方式】來進一步說明本實用新型的技術方案。
[0046] 實施例1
[0047] -種低輻射鍍膜玻璃，如圖1所示，包括玻璃基底和設置于玻璃基底表面的鍍層， 所述鍍層自玻璃基底向外依次為介質阻擋層、金屬鎢層、第一金屬銀層、金屬銅層、第一合 金金屬保護層、第一干涉層、第一介質層、第二干涉層、第二金屬銀層、第二合金金屬保護層 和第二介質層。
[0048]所述介質阻擋層為鋅錫層，厚度為42nm;所述金屬鎢層的厚度為4.5nm;所述第一 金屬銀層的厚度為5.4nm;所述金屬銅層的厚度為9nm;所述第一合金金屬保護層為鎳鉻層， 其厚度為〇. 5nm;所述第一干涉層為氧化鋅鋁層，其厚度為12nm;所述第一介質層為鋅錫層， 其厚度為56nm;所述第二干涉層氧化鋅鋁層，其厚度為12nm;所述第二金屬銀層的厚度為 10.8nm;所述第二合金金屬保護層鎳鉻層，其厚度為1.4nm;所述第二介質層為硅層，其厚度 為32·8nm。
[0049] 所述低輻射鍍膜玻璃的制作工藝為依次在玻璃基底上濺射鍍層:介質阻擋層、金 屬媽層、第一金屬銀層、金屬銅層、第一合金金屬保護層、第一干涉層、第一介質層、第二干 涉層、第二金屬銀層、第二合金金屬保護層和第二介質層。所述制作工藝具體如表1所示。
[0050] 表 1
[0053] 對比例1
[0054] 一種低輻射鍍膜玻璃，除介質阻擋層與第一金屬銀層直接接觸，不設置金屬鎢層 外，其余與實施例1相同。
[0055] 性能測試：
[0056] 在保持相同外反的情況下，測試實施例1與對比例1所述的低輻射鍍膜玻璃的光學 性能，結果見表2。
[0057] 表 2
[0058]
[0059] 6mm普通白玻鍍普通low-e加入金屬鎢層+12Air+6mm普通白玻即為實施例1得到的 鍍膜玻璃;6臟普通白玻鍍普通1〇界-6+12六化+6臟普通白玻即為對比例1得到的鍍膜玻璃。
[0060] 其中，T(透過)表示復合玻璃的透過率（％ )，遮陽系數表示玻璃遮擋或抵御太陽 光能的能力，使用GB/T2680標準確定玻璃的遮陽系數;Ta表示復合玻璃透過的紅綠值，Tb表 示復合玻璃透過的黃藍值，外反表示復合玻璃室外的反射率（％)，內反表示復合玻璃室內 的反射率（％)。
[0061] 表2說明：在保持相同外反的情況下，加入金屬鎢層可以有效吸收光，從而使得玻 璃的遮陽效果大幅度提高(遮陽系數至少提高10%以上）；同時，由于金屬鎢層是全光譜吸 收，因此在加入金屬鎢層后玻璃的透光顏色差異很小，依然可以保持中性色，可被市場所認 可。
[0062] 實施例2
[0063] -種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基底和設置于玻璃基底表面的鍍層，所述鍍層自 玻璃基底向外依次為介質阻擋層、金屬媽層、第一金屬銀層、金屬銅層、第一合金金屬保護 層、第一干涉層、第一介質層、第二干涉層、第二金屬銀層、第二合金金屬保護層和第二介質 層。
[0064]所述介質阻擋層為鋅錫層，厚度為20nm;所述金屬鎢層的厚度為7nm;所述第一金 屬銀層的厚度為2nm;所述金屬銅層的厚度為lOnm;所述第一合金金屬保護層為鎳鉻層，其 厚度為0.5nm;所述第一干涉層為氧化鋅鋁層，其厚度為25nm;所述第一介質層為鋅錫層，其 厚度為20nm;所述第二干涉層氧化鋅鋁層，其厚度為25nm;所述第二金屬銀層的厚度為2nm; 所述第二合金金屬保護層鎳鉻層，其厚度為6nm;所述第二介質層為硅層，其厚度為20nm〇
[0065] 所述低輻射鍍膜玻璃的制作工藝及操作條件與實施例1相同。
[0066] 實施例3
[0067] -種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基底和設置于玻璃基底表面的鍍層，所述鍍層自 玻璃基底向外依次為介質阻擋層、金屬媽層、第一金屬銀層、金屬銅層、第一合金金屬保護 層、第一干涉層、第一介質層、第二干涉層、第二金屬銀層、第二合金金屬保護層和第二介 質層。
[0068]所述介質阻擋層為鋅錫層，厚度為90nm;所述金屬鎢層的厚度為2nm;所述第一金 屬銀層的厚度為15nm;所述金屬銅層的厚度為5nm;所述第一合金金屬保護層為鎳鉻層，其 厚度為3nm;所述第一干涉層為氧化鋅鋁層，其厚度為10nm;所述第一介質層為鋅錫層，其厚 度為90nm;所述第二干涉層氧化鋅鋁層，其厚度為10nm;所述第二金屬銀層的厚度為15nm; 所述第二合金金屬保護層鎳鉻層，其厚度為〇 · 5nm;所述第二介質層為硅層，其厚度為90nm〇
[0069] 所述低輻射鍍膜玻璃的制作工藝及操作條件與實施例1相同。
[0070] 實施例4
[0071] -種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基底和設置于玻璃基底表面的鍍層，所述鍍層自 玻璃基底向外依次為介質阻擋層、金屬媽層、第一金屬銀層、金屬銅層、第一合金金屬保護 層、第一干涉層、第一介質層、第二干涉層、第二金屬銀層、第二合金金屬保護層和第二介質 層。
[0072] 所述介質阻擋層為鋅錫層，厚度為30nm;所述金屬鎢層的厚度為4.5nm;所述第一 金屬銀層的厚度為5.4nm;所述金屬銅層的厚度為5nm;所述第一合金金屬保護層為鎳鉻層， 其厚度為2nm;所述第一干涉層為氧化鋅鋁層，其厚度為15nm;所述第一介質層為鋅錫層，其 厚度為30nm;所述第二干涉層氧化鋅鋁層，其厚度為12nm;所述第二金屬銀層的厚度為 10.8nm;所述第二合金金屬保護層鎳鉻層，其厚度為2nm;所述第二介質層為硅層，其厚度為 60nm〇
[0073] 所述低輻射鍍膜玻璃的制作工藝及操作條件與實施例1相同。
[0074] 實施例5
[0075] -種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基底和設置于玻璃基底表面的鍍層，所述鍍層自 玻璃基底向外依次為介質阻擋層、金屬媽層、第一金屬銀層、金屬銅層、第一合金金屬保護 層、第一干涉層、第一介質層、第二干涉層、第二金屬銀層、第二合金金屬保護層和第二介質 層。
[0076]所述介質阻擋層為鋅錫層，厚度為80nm;所述金屬鎢層的厚度為4.5nm;所述第一 金屬銀層的厚度為5.4nm;所述金屬銅層的厚度為9nm;所述第一合金金屬保護層為鎳鉻層， 其厚度為1. 〇nm;所述第一干涉層為氧化鋅鋁層，其厚度為12nm;所述第一介質層為鋅錫層， 其厚度為80nm;所述第二干涉層氧化鋅鋁層，其厚度為12nm;所述第二金屬銀層的厚度為 10.8nm;所述第二合金金屬保護層鎳鉻層，其厚度為1.4nm;所述第二介質層為硅層，其厚度 為20nm。
[0077] 所述低輻射鍍膜玻璃的制作工藝及操作條件與實施例1相同。
[0078] 實施例2-5所述的低輻射鍍膜玻璃具有與實施例1所述的低輻射鍍膜玻璃相近的 性能:在保持相同外反的情況下，加入金屬鎢層可以有效吸收光，從而使得玻璃的遮陽效果 大幅度提高(至少提高10%);加入金屬鎢層后玻璃的透光顏色差異很小，依然可以保持中 性色。
[0079]
【申請人】聲明，以上所述僅為本實用新型的【具體實施方式】，但本實用新型的保護范 圍并不局限于此，所屬技術領域的技術人員應該明了，任何屬于本技術領域的技術人員在 本實用新型揭露的技術范圍內，可輕易想到的變化或替換，均落在本實用新型的保護范圍 和公開范圍之內。
【主權項】
1. 一種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基底和設置于玻璃基底表面的鍍層，其特征在于，所 述鍍層包括金屬媽層，所述金屬媽層的厚度為2-7nm，所述鍍層的厚度為180-220nm〇2. 根據權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述鍍層自玻璃基底向外依次 為介質阻擋層、金屬鎢層、第一金屬銀層、金屬銅層、第一合金金屬保護層、第一干涉層、第 一介質層、第二干涉層、第二金屬銀層、第二合金金屬保護層和第二介質層。3. 根據權利要求2所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述介質阻擋層、第一介質層 以及第二介質層的厚度獨立地為20_90nm。4. 根據權利要求2所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述介質阻擋層為鋅錫層。5. 根據權利要求2所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述金屬銅層的厚度為5-10nm〇6. 根據權利要求2所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一干涉層及第二干涉層 均為氧化鋅鋁。7. 根據權利要求2所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一干涉層和第二干涉層 的厚度獨立地為10_25nm〇8. 根據權利要求2所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一合金金屬保護層以及 第二合金金屬保護層為鎳鉻層。9. 根據權利要求2所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一合金金屬保護層以及 第二合金金屬保護層的厚度獨立地為〇. 5-6nm。10. 根據權利要求2所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一金屬銀層和第二金 屬銀層的厚度獨立地為2-15nm〇
【文檔編號】C03C17/36GK205710443SQ201620407591
【公開日】2016年11月23日
【申請日】2016年5月6日
【發明人】莊宇, 吳斌, 黃輝, 陳波
【申請人】上海耀皮玻璃集團股份有限公司, 上海耀皮工程玻璃有限公司