技術特征：
技術總結
本發明提供一種穩定鎵源反應器，其至少包括：依次疊置的至少兩層反應層；位于相鄰兩層反應層之間的氣體通道；位于最上層反應層的頂端的進氣管道；以及，位于最下層反應層的底端的出氣管道。本發明采用多層反應層疊置在一起，相鄰兩層反應層之間通過氣體通道連通，液態金屬鎵預先通過進氣管道和各氣體通道注入到各反應層中，然后通入氯化氫氣體進行反應，氯化氫氣體從進氣管道進入最上層反應層，隨后從氣體通道向下進入相鄰兩層反應層，并逐層通過所有反應層，最終生成的氯化鎵氣體從出氣管道流出，從而能夠確保氯化氫氣體充分與金屬鎵進行反應。
技術研發人員：特洛伊·喬納森·貝克;王穎慧
受保護的技術使用者：鎵特半導體科技（上海）有限公司
技術研發日：2017.06.01
技術公布日：2017.08.04